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公开(公告)号:KR100717057B1
公开(公告)日:2007-05-14
申请号:KR1020050111999
申请日:2005-11-22
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04L41/12 , H04L67/2838
Abstract: 본 발명은 제1장치들을 포함하는 제1네트워크와 제2장치들을 포함하는 제2네트워크에서 제어를 결합하는 방법을 제공한다. 제1 및 제2네트워크들 사이에 통신 채널이 설정되고; 제1네트워크로부터 통신 채널을 통해 제2네트워크의 제2장치들이 찾아지고; 제1네트워크로부터 통신 채널을 통해 제2네트워크의 제2장치들이 제어된다. 제1 및 제2네트워크들은 서로 다른 네트워크 프로토콜을 구축할 수도 있고, 동일한 네트워크 프로토콜을 구축할 수도 있다.
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公开(公告)号:KR1020130062791A
公开(公告)日:2013-06-13
申请号:KR1020110129237
申请日:2011-12-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H05H1/00 , H01L21/66 , H01L21/3065
Abstract: PURPOSE: A plasma diagnosis unit and a method thereof are provided to monitor a plasma process by increasing sensitivity. CONSTITUTION: A plasma diagnosis unit includes a vacuum chamber(401), a bias power unit(402), a spectrum unit(405), an optical detection unit(406) and a control unit(407). The vacuum chamber unit includes at least one electrode and generates plasma inside. The bias power unit is located inside of the vacuum chamber unit and applies high frequency voltage to an electrode supporting a wafer. The optical detection unit detects the demultiplexed light according to the wavelength. The control unit controls turn-on and turn-off of the optical detection unit according to a high frequency voltage wave form. [Reference numerals] (403) Matching unit; (404) Light receiving unit; (405) Optical demultiplexer unit; (406) Optical detection unit; (407) Control unit
Abstract translation: 目的:提供等离子体诊断单元及其方法,以通过增加灵敏度来监测等离子体处理。 构成:等离子体诊断单元包括真空室(401),偏置功率单元(402),光谱单元(405),光学检测单元(406)和控制单元(407)。 真空室单元包括至少一个电极并在其内产生等离子体。 偏置功率单元位于真空室单元的内部,并且对支撑晶片的电极施加高频电压。 光检测单元根据波长检测解复用的光。 控制单元根据高频电压波形来控制光学检测单元的接通和关断。 (附图标记)(403)匹配单元; (404)光接收单元; (405)光解复用器单元; (406)光检测单元; (407)控制单元
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公开(公告)号:KR100754218B1
公开(公告)日:2007-09-03
申请号:KR1020060049471
申请日:2006-06-01
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04L61/2038 , H04L12/2805 , H04L29/12254 , H04L2012/2849
Abstract: 본 발명은 네트워크 상의 상호 연결된 디바이스들에 대한 지속적인 고유 식별자들을 유지 하는 방법에 관한 것이다. 디바이스로부터 정보가 획득되고, 정보로부터 핑거프린트가 생성된다. 핑거프린트가 네트워크 상의 식별자와 이미 관련되어 있는지 판단된다. 만약 핑거 프린트가 네트워크 상의 식별자와 이미 관련되어 있으면, 핑거프린트와 관련된 새로운 식별자가 생성되고 핑거프린트 및 핑거프린트와 관련된 디바이스에 대한 지속적인 고유 식별자를 형성하는 새로운 식별자는 메모리에 저장된다. 핑거프린트가 네트워크 상의 식별자와 이미 관련되어 있지 않으면, 메모리에 저장되어 있는 관련된 식별자는 그 디바이스에 대한 지속적인 고유 식별자로 이용된다.
UPnP, 고유 식별자, 지속적, 디바이스-
公开(公告)号:KR1020060127755A
公开(公告)日:2006-12-13
申请号:KR1020060049471
申请日:2006-06-01
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04L61/2038 , H04L12/2805 , H04L29/12254 , H04L2012/2849
Abstract: A method and a system for maintaining PUIDs(Persistent Unique Identifiers) of devices in a network are provided to allow controllers to discriminate the same control devices and use the previous state of operations in the same control devices without re-configuration. A discriminating unit(210) generates a fingerprint from information obtained from a device. A mapper(220) checks whether the fingerprint is related to identifiers in a network. If not, A PUID generator(230) generates a new identifier. When the fingerprint is not related to an identifier in the network, the PUID generator(230) generates a new identifier related to the fingerprint and the mapper(220) stores the fingerprint and the new identifier related to the fingerprint that forms a PUID for the device in a memory of the device. If the fingerprint is already related to an identifier in the network, the mapper(220) uses the identifier related to the fingerprint stored in the memory as a PUID of the device.
Abstract translation: 提供了一种用于维护网络中的设备的PUID(持久性唯一标识符)的方法和系统,以允许控制器区分相同的控制设备,并在相同的控制设备中使用先前的操作状态,而无需重新配置。 识别单元(210)根据从设备获得的信息生成指纹。 映射器(220)检查指纹是否与网络中的标识符相关。 如果不是,则PUID生成器(230)生成新的标识符。 当指纹与网络中的标识符无关时,PUID生成器(230)生成与指纹相关的新标识符,并且映射器(220)存储指纹和与形成PUID的指纹相关的新标识符 设备在设备的存储器中。 如果指纹已经与网络中的标识符相关联,则映射器(220)使用与存储在存储器中的指纹相关的标识符作为设备的PUID。
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公开(公告)号:KR1020170093303A
公开(公告)日:2017-08-16
申请号:KR1020160014323
申请日:2016-02-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/3065 , H05H1/46 , H01J37/32 , H01L21/3213
Abstract: 본발명은플라즈마식각방법및 이를이용한반도체소자의제조방법을제공한다. 플라즈마식각방법은내부에서로대향된제1 전극및 제2 전극이배치된챔버를준비하고; 상기챔버내의상기제1 전극상에식각대상막을갖는기판을로딩하고; 그리고상기제1 전극에서로다른주파수를갖는복수의 RF 전력들을인가하여상기식각대상막을식각하는것을포함하고, 상기복수의 RF 전력들은: 상기챔버내에플라즈마를형성하기위해이용되는제1 RF 전력; 상기챔버내에서, 상기플라즈마의밀도를균일하게하기위해이용되는제2 RF 전력; 상기플라즈마내의이온들을상기기판상으로입사시키기위해이용되는제3 RF 전력; 그리고상기기판상으로입사되는상기이온들의이온에너지분포를고르게하기위해이용되는제4 RF 전력을포함한다.
Abstract translation: 本发明提供了一种等离子体蚀刻方法和使用该方法制造半导体器件的方法。 等离子体蚀刻方法包括:准备配置有相互相对的第一电极和第二电极的腔室; 在腔室中的第一电极上加载具有待蚀刻膜的基板; 以及通过向所述第一电极施加具有不同频率的多个RF功率来蚀刻所述蚀刻目标膜,所述多个RF功率包括:用于在所述腔室中形成等离子体的第一RF功率; 用于匀化腔室内等离子体密度的第二RF功率; 用于将离子撞击到等离子体中的衬底上的第三RF功率; 第四个RF功率用于均衡入射到衬底上的离子的离子能量分布。
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公开(公告)号:KR1020060114612A
公开(公告)日:2006-11-07
申请号:KR1020050111999
申请日:2005-11-22
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04L41/12 , H04L67/2838
Abstract: A method and a system for aggregating controls of middleware control points are provided to detect devices included in another network at a network and to control an operation of the devices. A method for aggregating controls of middleware control points includes the steps of: setting a communication channel between a first network(20) and a second network(21); discovering a plurality of second devices(30,31) of the second network(21) from the first network(20) through the communication channel; and controlling the second devices(30,31) of the second network(21) from the first network(20) through the communication channel.
Abstract translation: 提供用于聚合中间件控制点的控制的方法和系统,以检测包括在网络中的另一网络中的设备并控制设备的操作。 用于聚合中间件控制点的控制的方法包括以下步骤:设置第一网络(20)和第二网络(21)之间的通信信道; 通过所述通信信道从所述第一网络(20)发现所述第二网络(21)的多个第二设备(30,31); 以及通过所述通信信道从所述第一网络(20)控制所述第二网络(21)的所述第二设备(30,31)。
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