公开(公告)号：KR100610497B1

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：KR1020050067248

申请日：2005-07-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 권용재 ,  이강욱 ,  강석채 ,  김구성 ,  허순욱 ,  김종우 ,  한성일 ,  마금희 ,  이정행

IPC: H01L27/148

Abstract: 본 발명은 이미지 센서 소자의 마이크로렌즈의 오염 방지 방법 및 그를 이용한 이미지 센서 소자의 제조 방법에 관한 것이다. 종래의 제조 공정에 있어서, 웨이퍼 활성면에 감광성 접착 패턴을 형성할 때 현상 공정에서 제거되어야 할 마이크로렌즈 상의 감광성 접착제가 잔류하여 마이크로렌즈를 오염시키는 문제가 발생되었다.
이와 같은 문제점을 해결하기 위해서, 본 발명은 칩 패드 오픈용으로 사용되는 감광막 패턴을 감광성 접착 패턴을 형성한 이후에 벗겨내는 공정을 진행함으로써, 감광막 패턴이 덮고 있는 마이크로렌즈가 감광성 접착제에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있다. 즉 감광성 접착 패턴을 형성하는 과정에서 마이크로렌즈 상에 잔류할 수 있는 감광성 접착제는 감광막 패턴 상에 잔류하게 되고, 감광막 패턴을 벗겨내는 과정에서 잔류하는 감광성 접착제도 함께 제거되기 때문에, 마이크로렌즈가 감광성 접착제에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있다.
마이크로렌즈, 감광성, 이미지 센서, 오염, 스트립, 에싱

Abstract translation: 本发明涉及防止图像传感器元件的微透镜污染的方法以及使用该方法制造图像传感器元件的方法。 在常规的制造过程中，即在显影过程中除去在微透镜的感光性粘接剂的问题，形成感光性粘接剂图案的残留污染物在晶片有源侧的微透镜已经发生。