기상증착장치
    1.
    发明申请
    기상증착장치 审中-公开
    蒸气沉积装置

    公开(公告)号:WO2013022128A1

    公开(公告)日:2013-02-14

    申请号:PCT/KR2011/005773

    申请日:2011-08-09

    CPC classification number: C30B25/12 C23C16/44 C30B25/02 C30B25/08 C30B25/14

    Abstract: 기상증착장치가 제공된다. 본 발명에 따른 기상증착장치는 웨이퍼를 실장하여 회전하는 서셉터를 내부에 구비하며, 상기 웨이퍼상에 에피택셜 박막을 증착성장시키는 반응 챔버; 상기 반응 챔버가 내부에 배치되며, 상기 웨이퍼를 상기 반응 챔버 내에 장착 및 제거할 수 있도록 개폐가능한 윈도우를 구비하는 하우징; 및 상기 하우징 내의 가스를 외부로 방출하여 내압을 조절하는 배기수단;을 포함할 수 있다.

    Abstract translation: 提供一种蒸镀装置。 根据本发明的气相沉积设备可以包括:反应室,其中在晶片上沉积和生长外延薄膜,反应室具有安装在其上的晶片的可旋转基座; 壳体,布置在反应室内,壳体具有使得晶片能够装载到反应室中或从反应室移除的可打开的窗口; 以及用于将壳体内的气体排出到外部以调节内部压力的排气装置。

    서셉터 및 이를 구비하는 화학 기상 증착 장치
    2.
    发明公开
    서셉터 및 이를 구비하는 화학 기상 증착 장치 无效
    包括它的SUSECEPTOR和化学气相沉积装置

    公开(公告)号:KR1020110136583A

    公开(公告)日:2011-12-21

    申请号:KR1020100056691

    申请日:2010-06-15

    Abstract: PURPOSE: A susceptor and a chemical vapor deposition apparatus including the same are provided to improve a structure of a pocket outer part of the susceptor, thereby preventing broken part generation in a surrounding part of the susceptor. CONSTITUTION: A susceptor flow path(115) supplying flowing gas(G1) to a plurality of pockets(111) is arranged in the inside of a susceptor(110). A rim is arranged in the outer boundary of a satellite disc(120). A support disc(130) includes a support disc flow path(135) in which a path of the flowing gas is passed. The support disc flow path is connected to a support tube flow path(155) of a support tube(150). A flowing gas inlet part(160) transfers torque of a driving motor(170) to the support tube.

    Abstract translation: 目的:提供一种感受器和包括该感受器的化学气相沉积设备,以改善基座的口袋外部部分的结构,从而防止基座的周围部分产生断裂部分。 构成:在基座(110)的内部设置有将流动气体(G1)供应到多个凹穴(111)的基座流路(115)。 边缘设置在卫星盘(120)的外边界中。 支撑盘(130)包括其中流动气体的路径通过的支撑盘流动路径(135)。 支撑盘流动路径连接到支撑管(150)的支撑管流动路径(155)。 流动气体入口部分(160)将驱动马达(170)的扭矩传递到支撑管。

    보호판이 부착된 이미지 센서 칩과 그의 제조 방법
    4.
    发明公开
    보호판이 부착된 이미지 센서 칩과 그의 제조 방법 有权
    具有保护板的图像传感器芯片及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020060081202A

    公开(公告)日:2006-07-12

    申请号:KR1020050001684

    申请日:2005-01-07

    Abstract: 본 발명은 보호판이 부착된 이미지 센서 칩과 그의 제조 방법에 관한 것으로, 웨이퍼 레벨에서 이미지 센서 칩의 마이크로 렌즈의 오염을 막을 수 있고, 이미지 센서 칩과 플랙서블 기판 사이의 전기적 연결 통로 길이를 최소화하기 위해서, 본 발명은 활성면의 가장자리 둘레에 칩 패드가 형성되어 있고, 상기 칩 패드 안쪽의 영역에 마이크로 렌즈가 형성된 이미지 센서 칩과; 상기 마이크로 렌즈를 덮도록 상기 활성면에 부착되며, 상기 활성면과 마주보는 면에 상기 칩 패드와 상기 마이크로 렌즈 사이의 영역에 대응되게 감광성 접착 패턴이 형성된 투명한 보호판;을 포함하며, 상기 이미지 센서 칩은, 상기 활성면에 반대되는 후면을 통하여 상기 칩 패드에 접속되는 금속 플러그와; 상기 후면에 노출된 금속 플러그에 형성된 솔더 볼;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 보호판이 부착된 이미지 센서 칩과 그의 제조 방법을 제공한다.
    이미지 센서, 촬상, 감광, 접착제, 웨이퍼 레벨

    확장형 적층 반도체 패키지 및 이의 제조 방법
    6.
    发明公开
    확장형 적층 반도체 패키지 및 이의 제조 방법 无效
    可扩展的堆叠半导体封装及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020070038798A

    公开(公告)日:2007-04-11

    申请号:KR1020050094090

    申请日:2005-10-07

    Abstract: 확장형 적층 반도체 패키지 및 이의 제조 방법이 개시되어 있다. 적층 반도체 패키지는 기판, 데이터 저장 칩들, 컨트롤 칩, 제1 입/출력부들 및 제2 입/출력부들을 포함한다. 기판은 회로패턴을 갖고, 데이터 저장 칩들은 복수개가 수직하게 적층 되며, 각각 데이터를 저장하기 위한 데이터 저장 셀을 갖는다. 컨트롤 칩은 데이터 저장 칩의 상부에 배치되어 각 데이터 저장 칩들을 제어하기 위한 제어 신호를 발생한다. 제1 입/출력부들은 회로패턴, 데이터 저장 칩들 및 컨트롤 칩을 전기적으로 연결하여 제어신호에 대응하는 데이터를 회로패턴으로 전송하고, 제2 입/출력부들은 데이터 저장 칩들 및 컨트롤 칩을 전기적으로 연결하여 제어 신호를 데이터 저장 칩들로 인가한다.

    반도체 패키지, 반도체 스택 패키지, 패키지들을 제조하는방법
    7.
    发明授权
    반도체 패키지, 반도체 스택 패키지, 패키지들을 제조하는방법 失效
    半导体封装,半导体堆叠封装,制造封装的方法

    公开(公告)号:KR100703012B1

    公开(公告)日:2007-04-09

    申请号:KR1020060007109

    申请日:2006-01-24

    Abstract: 반도체 패키지는 관통공이 형성된 반도체 칩을 포함한다. 배선 구조물은 반도체 칩의 상면에 형성되어 반도체 칩과 전기적으로 연결된 배선 패턴, 및 배선 패턴과 이어지고 관통공을 매립하는 플러그를 포함한다. 반도체 칩의 휨을 억제하는 휨 억제부재가 반도체 칩의 하면에 형성된다. 휨 억제부재는 플러그의 하단을 노출시키는 개구를 갖는다. 휨 억제부재가 반도체 기판보다 높은 열팽창계수를 가지므로, 반도체 기판이 휘어지는 현상이 억제된다.

    Abstract translation: 半导体封装包括其中形成有通孔的半导体芯片。 该布线结构包括形成在半导体芯片的上表面上并且电连接到半导体芯片的布线图案以及连接到布线图案并且嵌入通孔的插头。 用于抑制半导体芯片的弯曲的弯曲抑制构件形成在半导体芯片的下表面上。 弯曲抑制构件具有暴露插头下端的开口。 由于弯曲抑制构件具有比半导体基板高的热膨胀系数,因此抑制了半导体基板的弯曲。

    혼합가스공급유로 및 이를 갖는 반도체 소자 제조용확산설비
    9.
    发明授权
    혼합가스공급유로 및 이를 갖는 반도체 소자 제조용확산설비 失效
    혼합가스공급유로및이를갖는반도체소자제조용확산설비

    公开(公告)号:KR100663369B1

    公开(公告)日:2007-01-02

    申请号:KR1020050066945

    申请日:2005-07-22

    Inventor: 한성일

    Abstract: A mixed gas supply passage and a diffusion equipment for fabricating a semiconductor device are provided to form an oxide layer having a uniform thickness on an upper surface of a wafer by previously mixing and spraying an oxygen gas and a hydrogen gas. A mixed gas supply passage includes a first gas passage(410) supplying a first gas, a second gas passage(420) installed in the first gas passage for supplying a second gas, and a gas mixing part(430) coupled to one end of the first gas passage to communicate the first gas passage and the second gas passage. One end of the second gas passage is flush with one end of the first gas passage. The gas mixing part has a gas mixing space for mixing the first gas with the second gas. The gas mixing part has plural spraying holes formed on a surface opposite to the end of the first gas passage.

    Abstract translation: 提供混合气体供应通道和用于制造半导体器件的扩散设备,以通过预先混合和喷射氧气和氢气在晶片的上表面上形成具有均匀厚度的氧化物层。 混合气体供应通道包括供应第一气体的第一气体通道(410),安装在第一气体通道中用于供应第二气体的第二气体通道(420),以及气体混合部件(430),其耦合到第一气体通道 第一气体通道连通第一气体通道和第二气体通道。 第二气体通道的一端与第一气体通道的一端齐平。 气体混合部件具有用于混合第一气体和第二气体的气体混合空间。 气体混合部件具有形成在与第一气体通道的端部相对的表面上的多个喷射孔。

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