公开(公告)号：KR1020090030491A

公开(公告)日：2009-03-25

申请号：KR1020070095841

申请日：2007-09-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김세연 ,  고용균 ,  이상미 ,  이양구 ,  이헌정 ,  이근택

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916

Abstract: A cleaning solution for an immersion photolithography system is provided to increase production yield by preventing a wafer from being contaminated a next wafer in immersion photolithography process. An immersion photolithography system is exposed to the outside through a plurality of wafer immersion mediums. An exposure process is interrupted after a predetermined cycle. The immersion photolithography system cleaning the region contacted with the wafer immersion medium with a cleaning solution. The cleaning process removes a contaminant by flowing the cleaning solution for a predetermined time and also includes a rinsing the contact region.

Abstract translation: 提供了一种用于浸没式光刻系统的清洁溶液，以通过防止在浸没式光刻工艺中晶片受到下一晶片污染而提高产量。 浸没式光刻系统通过多个晶片浸渍介质暴露于外部。 曝光过程在预定的周期后中断。 浸渍光刻系统用清洁溶液清洗与晶片浸渍介质接触的区域。 清洁过程通过使清洁溶液流动预定时间来除去污染物，并且还包括冲洗接触区域。

公开(公告)号：KR1020080030203A

公开(公告)日：2008-04-04

申请号：KR1020060095968

申请日：2006-09-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이헌정 ,  정원영 ,  박상오 ,  이예로

IPC: H01L21/304

Abstract: A substrate cleaning apparatus and a substrate cleaning method using the same are provided to supply a dry fluid onto a substrate by arranging a fluid supply member near to an upper part of a substrate. A substrate cleaning apparatus includes a substrate supporting member(100) and a fluid supply member(300). A substrate is loaded on the substrate supporting member having a rotating function. The fluid supply member has a shape corresponding to the substrate loaded on the substrate supporting member. The fluid supply member is arranged above an upper surface of the substrate in order to supply a rinsing solution and a dry fluid onto the substrate. The substrate cleaning apparatus includes a lifting unit(360) for moving the fluid supply member to a position near to an upper part of the substrate when the rinsing solution and the dry fluid are supplied onto the substrate.

Abstract translation: 提供了使用其的基板清洗装置和基板清洗方法，通过将流体供给部件布置在基板的上部附近来将干燥流体供应到基板上。 基板清洗装置包括基板支撑部件（100）和流体供给部件（300）。 将衬底装载在具有旋转功能的衬底支撑构件上。 流体供给构件具有与装载在基板支撑构件上的基板对应的形状。 流体供应构件布置在基底的上表面上方，以便将冲洗溶液和干流体供应到基底上。 基板清洗装置包括提升单元（360），用于当将冲洗溶液和干燥流体供应到基板上时，将提升单元（360）移动到靠近基板上部的位置。

公开(公告)号：KR100742279B1

公开(公告)日：2007-07-24

申请号：KR1020050128017

申请日：2005-12-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이헌정 ,  채승기

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2022 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67225

Abstract: 본 발명은 반도체 소자의 제조 장치 및 방법에 관한 것으로, 웨이퍼의 전면에 대하여 포토 공정의 조명계 광학 공정을 행하는 조명계 모듈과, 상기 웨이퍼의 이면에 대하여 세정 공정을 행하는 세정 모듈을 포함하는 장치를 이용하여 웨이퍼 이면 세정 공정후 포토 공정을 진행한다. 본 발명에 의하면, 웨이퍼 이면으로부터 파티클을 제거할 수 있어서 웨이퍼 척킹 불량에 따른 촛점불량(defocusing)을 없앨 수 있게 됨으로써 포토 공정의 신뢰성 담보와 생산성 향상 및 수율 개선의 효과가 있다.
반도체, 포토 공정, 조명계, 건식 세정

公开(公告)号：KR100729228B1

公开(公告)日：2007-06-15

申请号：KR1020010078513

申请日：2001-12-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이헌정 ,  김경대 ,  박상오 ,  이보용 ,  이기석 ,  전필권

IPC: G01N9/00

Abstract: 가스 기류를 유지하면서 설비 내의 가스의 농도를 검출하는 장치가 개시되어 있다. 가스가 채워져 있는 밀폐된 설비의 내벽에 설치되고, 발광부 및 반사광의 파장의 세기 변화를 측정하여 상기 가스의 농도를 검출하는 검출부를 포함하는 하우징과, 상기 하우징으로부터 상기 설비의 내부로 연장되는 지지대와, 상기 지지대의 단부에 장착되고, 상기 발광부에서 조사되는 광을 검출부로 반사시키는 반사경 및 상기 하우징으로 상기 가스가 유입되지 않도록 차단시키는 차단창을 구비하는 설비 내부의 가스 검출 장치를 제공한다. 상기 가스 검출 장치는 지지대와 반사경을 설비 내부에 장착시킴으로서, 설비 내부의 가스의 기류를 변동시키지 않으면서 상기 설비 내에 유동하는 소정 가스의 농도를 측정할 수 있다.

公开(公告)号：KR100696378B1

公开(公告)日：2007-03-19

申请号：KR1020050030806

申请日：2005-04-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이헌정

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02054 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051

Abstract: 본 발명은 기판을 세정하는 장치에 관한 것이다. 장치는 용기와 덮개를 가지는 처리실을 가지고, 처리실 내에는 웨이퍼가 놓이는 회전가능한 지지부재가 배치된다. 덮개는 상부판과 하부판을 가지며, 하부판 내에는 건조공정 진행시 처리실 내부를 건조분위기로 조성하기 위해 처리실 내로 이소프로필 알코올 증기를 공급하는 건조가스 공급노즐이 설치된다. 웨이퍼의 중앙으로 이소프로필 알코올 액을 공급하는 중앙영역 공급노즐과 웨이퍼의 중앙영역으로부터 가장자리 영역까지 동시에 이소프로필 알코올 액을 공급하는 다영역 공급노즐이 용기의 측벽에 설치된다. 또한, 공비혼합 효과를 이용하여 웨이퍼의 미세패턴 내에 잔류하는 탈이온수를 제거하기 위해 덮개의 상부판에는 램프가 배치된다. 용기 내부의 건조분위기 조성, 웨이퍼의 전체 영역으로 공급되는 이소프로필 알코올, 웨이퍼의 가열 등에 의해 신속하고 효율적으로 웨이퍼를 건조할 수 있다.
웨이퍼, 건조, 램프, 이소프로필 알코올, 미세패턴

公开(公告)号：KR1020070024904A

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：KR1020050080523

申请日：2005-08-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 홍동관 ,  손광성 ,  이헌정

IPC: H01L21/304

Abstract: A wafer cleaning apparatus using a magnetic field is provided to reduce the efficiency of particles absorbed to a wafer by performing a cleaning process while a magnet is attached to both side surfaces of a bath. A bath(10) includes an inner space where a chemical solution for cleaning a wafer is contained. Magnets(20) of plate type are attached to the outer surface of the bath, confronting each other. The bath has a quadrangular type, and the magnet can be attached to both lateral surfaces of the bath. The magnet can be a permanent magnet or an electromagnet.

Abstract translation: 提供一种使用磁场的晶片清洁装置，通过在将磁体附着到浴的两个侧表面的同时执行清洁处理来降低吸收到晶片的颗粒的效率。 浴（10）包括内部空间，其中包含用于清洁晶片的化学溶液。 板式磁体（20）连接到浴槽的外表面，彼此面对。 该浴具有四边形，并且磁体可以连接到浴的两个侧面。 磁体可以是永磁体或电磁体。

公开(公告)号：KR1020070010931A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：KR1020050065931

申请日：2005-07-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이헌정 ,  박상오

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67034

Abstract: An apparatus for drying a semiconductor substrate is provided to improve dry uniformity of wafers by supplying plenty of dry gas to a region where wafers with low dry efficiency are disposed. A dry process is performed in a space in a dry chamber(100). Substrates are placed on a support member disposed in the dry chamber. A dry gas supplying member(400) supplies dry gas to the substrates placed on the support member, including a plurality of grouped nozzles and a plurality of supply pipes(460). MFC's(mass flow controllers)(480) are installed in the plurality of supply pipes connected to each group of nozzles. Different supply pipes are connected to the nozzles belonging to different groups. A plurality of nozzles are formed in each group. Each dry gas supply pipe includes a main pipe and one or more branch pipe connected to the main pipe and each nozzle. The MFC is installed in the main pipe.

Abstract translation: 提供一种用于干燥半导体衬底的装置，以通过向设置有低干效率的晶片的区域供应大量干燥气体来改善晶片的干均匀性。 在干燥室（100）的空间中进行干燥处理。 基板被放置在设置在干燥室中的支撑构件上。 干燥气体供给部件（400）向放置在支撑部件上的基板供给干燥气体，其包括多个分组喷嘴和多个供给管（460）。 MFC（质量流量控制器）（480）安装在连接到每组喷嘴的多个供给管中。 不同的供应管连接到属于不同组的喷嘴。 在各组中形成多个喷嘴。 每个干燥气体供应管包括主管和连接到主管和每个喷嘴的一个或多个分支管。 MFC安装在主管道中。

公开(公告)号：KR1020060117738A

公开(公告)日：2006-11-17

申请号：KR1020050040242

申请日：2005-05-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이헌정

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67242 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L22/30

Abstract: A detector and an apparatus for treating a substrate having the same are provided to prevent a process error due to an erroneous supply of process gas or process solution by measuring a concentration of the process gas or the process solution. A substrate treating apparatus includes a process chamber(100), a tube unit(200), and a measuring unit(300). The measuring unit includes a light emitter, a light receiver, a detector, a window portion, and a block gas supply portion. The light emitter irradiates a beam on a measuring region inside the tube unit. The light receiver receives light passing through the measuring region. The detector detects a concentration of process gas or process solution, which flows through the measuring region. The window portion separates the light emitter from the light receiver, such that the light emitter and the light receiver are not exposed to the process gas or the process solution. The block gas supply portion sprays block gas toward the window portion, such that the window portion is protected from the fluid, which flows through the measuring region.

Abstract translation: 提供一种检测器和用于处理具有该检测器的基板的设备，以通过测量处理气体或处理溶液的浓度来防止由于处理气体或处理溶液的错误供应而导致的过程误差。 基板处理装置包括处理室（100），管单元（200）和测量单元（300）。 测量单元包括发光器，光接收器，检测器，窗口部分和块气体供应部分。 光发射器在管单元内的测量区域上照射光束。 光接收器接收通过测量区域的光。 检测器检测流过测量区域的工艺气体或过程溶液的浓度。 窗口部分将光发射器与光接收器分开，使得光发射器和光接收器不暴露于处理气体或处理溶液。 块状气体供给部分向窗口部分喷射阻挡气体，使得窗口部分免受流过测量区域的流体的影响。

公开(公告)号：KR1020060046905A

公开(公告)日：2006-05-18

申请号：KR1020040092422

申请日：2004-11-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이헌정 ,  윤창로 ,  고용균

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67034

Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 건조하는 장치로, 장치는 건조기와 그 내부로 알코올 증기를 공급하는 증기 공급부를 가진다. 증기 공급부는 버블링 방식에 의해 알코올 증기를 발생시키는 제 1증기 발생기와 알코올 액의 가열에 의해 알코올 증기를 발생시키는 제 2증기 발생기를 가진다. 건조기 내에서 마란고니 건조방식에 의해 건조공정 수행시 제 1증기 발생기로부터 알코올 증기가 건조기로 공급되고, 스프레이 건조방식에 의해 건조공정 수행시 제 2증기 발생기로부터 알코올 증기가 건조기로 공급된다.
알코올 증기, IPA, 건조, 마란고니, 스프레이

公开(公告)号：KR100568104B1

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：KR1020030059118

申请日：2003-08-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박상오 ,  이헌정

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02052 ,  B08B3/048 ,  B08B3/102 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034

Abstract: 본 발명은 반도체 기판을 세정하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 상기 장치는 내부로 유입된 IPA 증기가 배기되는 배기로가 형성된 챔버를 가진다. 본 발명에 의하면, 공정 진행 중에 챔버 내의 압력에 따라 상술한 배기로의 개방율이 조절된다.
반도체, 세정, 건조, 배기로, 세정액 공급관, IPA

Abstract translation: 本发明涉及一种用于清洁半导体衬底的设备和方法，该设备具有其中形成排气路径的腔室，通过该排气路径引入排出的IPA蒸汽。 根据本发明，上述排气通道的开口率根据处理过程中腔室内的压力来控制。