-
公开(公告)号:KR101910976B1
公开(公告)日:2018-10-23
申请号:KR1020120077368
申请日:2012-07-16
Applicant: 삼성전자주식회사 , 서울대학교산학협력단
IPC: H01L29/78 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/78696 , B82Y10/00 , H01L29/1095 , H01L29/1606 , H01L29/66045 , H01L29/66477 , H01L29/78 , H01L29/78684 , Y10S977/734 , Y10S977/842 , Y10S977/938
Abstract: 본개시는그래핀채널층을포함하는고성능전계효과트랜지스터에관한것이다. 본발명의일 실시예에따르면기판과, 상기기판상에마련되며슬릿을구비하고있는그래핀채널층과, 상기그래핀채널층에전압을인가하기위해마련되며서로이격되어형성되는소스전극과드레인전극과, 상기그래핀채널층에전계를형성하기위해마련되는게이트전극및 상기그래핀채널층과상기게이트전극사이에마련되는게이트절연층을포함하는전계효과트랜지스터를제공할수 있다.
-
公开(公告)号:KR1020120048241A
公开(公告)日:2012-05-15
申请号:KR1020100109778
申请日:2010-11-05
Applicant: 삼성전자주식회사 , 서울대학교산학협력단
IPC: H01L29/78 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/1606 , H01L29/41758 , H01L29/66477 , H01L29/778 , H01L29/66431
Abstract: PURPOSE: A semiconductor device and a manufacturing method thereof are provided to improve applicability of a high speed operation element by forming an inter layer dielectric and a gate insulating layer by using different material. CONSTITUTION: A gate electrode(12) is formed on a substrate(10). The gate electrode comprises a projected gate finger. A gate insulating layer(13) is formed on the gate electrode. An inter-layer insulating film(11) is formed on the side of the gate insulating layer and the gate electrode. The inter-layer insulating film comprises a material having dielectric permittivity lower than the gate insulating layer. A graphene layer(14) is formed on the gate insulating layer and the inter-layer insulating film. A source(15a) and a drain(15b) are formed on the graphene layer. Graphene is formed in the lower side of the graphene layer between the source and drain.
Abstract translation: 目的:提供半导体器件及其制造方法,以通过使用不同的材料形成层间电介质和栅绝缘层来提高高速工作元件的适用性。 构成:在基板(10)上形成栅电极(12)。 栅极电极包括投影的栅极指状物。 栅极绝缘层(13)形成在栅电极上。 在栅极绝缘层和栅电极的一侧形成层间绝缘膜(11)。 层间绝缘膜包括具有低于栅极绝缘层的介电常数的材料。 在栅极绝缘层和层间绝缘膜上形成石墨烯层(14)。 源极(15a)和漏极(15b)形成在石墨烯层上。 在源极和漏极之间的石墨烯层的下侧形成石墨烯。
-
公开(公告)号:KR101791938B1
公开(公告)日:2017-11-02
申请号:KR1020100138041
申请日:2010-12-29
Applicant: 삼성전자주식회사 , 서울대학교산학협력단
IPC: H01L29/78
CPC classification number: H01L29/1606 , H01L29/41733 , H01L29/66045 , H01L29/778 , H01L29/78684 , H01L29/78696
Abstract: 복수의그래핀채널층을구비한그래핀전자소자가개시된다. 개시된그래핀전자소자는기판상의게이트전극과, 상기기판상에서상기게이트전극을덮는제1 게이트절연막과, 상기제1 게이트절연막상에서, 그사이에제2 게이트절연막이개재된복수의그래핀채널층과, 상기복수의그래핀채널층의각 그래핀채널층의양단부와연결된소스전극및 드레인전극을구비한다.
Abstract translation: 公开了具有多个石墨烯沟道层的石墨烯电子器件。 它公开的石墨烯电子器件和覆盖在栅电极上的栅电极的第一栅极绝缘膜,和在基板上的基板,栅极上的第一绝缘膜,以及所述多个第二栅极绝缘膜的隔着鳍沟道层; 并且源电极和漏电极连接到多个石墨烯沟道层中的每个石墨烯沟道层的两端。
-
公开(公告)号:KR101718961B1
公开(公告)日:2017-03-23
申请号:KR1020100109778
申请日:2010-11-05
Applicant: 삼성전자주식회사 , 서울대학교산학협력단
IPC: H01L29/78 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/1606 , H01L29/41758 , H01L29/66477 , H01L29/778
Abstract: 그래핀을포함하는반도체소자및 그제조방법이개시된다. 개시된반도체소자는게이트전극과그래핀층사이에게이트절연층이형성될수 있으며, 나머지그래핀층하부에는층간절연막이형성될수 있다. 게이트절연막은층간절연막보다높은유전율을지닌물질로형성될수 있다.
Abstract translation: 公开了包括石墨烯的半导体器件及其制造方法。 在所公开的半导体器件中,栅极绝缘层可以形成在栅电极和石墨烯层之间,并且层间绝缘层可以形成在剩余的石墨烯层下面。 栅极绝缘膜可以由具有比层间绝缘膜更高的介电常数的材料形成。
-
公开(公告)号:KR1020120076061A
公开(公告)日:2012-07-09
申请号:KR1020100138041
申请日:2010-12-29
Applicant: 삼성전자주식회사 , 서울대학교산학협력단
IPC: H01L29/78
CPC classification number: H01L29/1606 , H01L29/41733 , H01L29/66045 , H01L29/778 , H01L29/78684 , H01L29/78696 , H01L21/823412
Abstract: PURPOSE: A graphene electric component equipped with a plurality of graphene channel layers is provided to increase current transition speed between a drain electrode and a source electrode by forming the plurality of graphene channel layers into a double layer structure. CONSTITUTION: A gate electrode(120) is formed on a substrate(110). A first gate insulating layer(131) covering the gate electrode is formed on the substrate. A first graphene channel layer(141) is formed on the first gate insulating layer. A second gate insulating layer(132) is formed on the first graphene channel layer. A second graphene channel layer(142) is formed on the second gate insulating layer. A source electrode(150) and a drain electrode(160) are formed on the first graphene channel layer and the second graphene channel layer.
Abstract translation: 目的:提供装配有多个石墨烯通道层的石墨烯电气部件,以通过将多个石墨烯通道层形成双层结构来增加漏电极和源电极之间的电流转变速度。 构成:在基板(110)上形成栅电极(120)。 在基板上形成覆盖栅电极的第一栅极绝缘层(131)。 在第一栅绝缘层上形成第一石墨烯通道层(141)。 第一栅极绝缘层(132)形成在第一石墨烯沟道层上。 在第二栅绝缘层上形成第二石墨烯通道层(142)。 源电极(150)和漏电极(160)形成在第一石墨烯沟道层和第二石墨烯沟道层上。
-
公开(公告)号:KR101910579B1
公开(公告)日:2018-10-22
申请号:KR1020120120611
申请日:2012-10-29
Applicant: 삼성전자주식회사 , 서울대학교산학협력단
CPC classification number: H01L29/78 , H01L29/1606 , H01L29/407 , H01L29/66977 , H01L29/772 , H01L29/872 , H01L29/88
Abstract: 튜너블배리어를구비한그래핀스위칭소자가개시된다. 개시된그래핀스위칭소자는도전성반도체기판상에서서로이격된제1영역및 제2영역에각각배치된제1 전극및 절연층과, 상기절연층상에서상기제1 전극을향하여상기기판상으로연장되며상기제1 전극과이격된그래핀층과, 상기그래핀층상에서상기절연층과마주보는제2 전극과, 상기그래핀층상방의게이트전극과, 상기그래핀층하부와접촉하는상기기판의영역이불순물로도핑된제1 우물을포함한다. 상기제1 우물은상기그래핀층과상기제1 전극사이에에너지장벽을형성한다.
-
公开(公告)号:KR1020140054744A
公开(公告)日:2014-05-09
申请号:KR1020120120611
申请日:2012-10-29
Applicant: 삼성전자주식회사 , 서울대학교산학협력단
CPC classification number: H01L29/78 , H01L29/1606 , H01L29/407 , H01L29/66977 , H01L29/772 , H01L29/872 , H01L29/88
Abstract: Disclosed is a graphene switching device having a tunable barrier. The disclosed graphene switching device includes a first electrode and an insulating layer which are respectively arranged in a first region and a second region which are separated from each other on a conductive semiconductor substrate, a graphene layer which is extended from the insulating layer to the first electrode on the substrate and is separated from the first electrode, a second electrode which faces the insulating layer on the graphene layer, a gate electrode above the graphene layer, and a first well which has a region of the substrate which touches the lower part of the graphene layer which is doped with impurity. The first wall has an energy barrier which is between the graphene layer and the first electrode.
Abstract translation: 公开了一种具有可调屏障的石墨烯开关装置。 所公开的石墨烯开关装置包括分别布置在导电半导体衬底上彼此分离的第一区域和第二区域中的第一电极和绝缘层,从绝缘层延伸到第一区域的石墨烯层 电极与第一电极分离,面对石墨烯层上的绝缘层的第二电极,石墨烯层上方的栅极电极和第一阱,该第一阱具有接触下述部分的基板的下部 掺杂有杂质的石墨烯层。 第一壁具有在石墨烯层和第一电极之间的能量势垒。
-
公开(公告)号:KR1020140010720A
公开(公告)日:2014-01-27
申请号:KR1020120077368
申请日:2012-07-16
Applicant: 삼성전자주식회사 , 서울대학교산학협력단
IPC: H01L29/78 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/78696 , B82Y10/00 , H01L29/1095 , H01L29/1606 , H01L29/66045 , H01L29/66477 , H01L29/78 , H01L29/78684 , Y10S977/734 , Y10S977/842 , Y10S977/938
Abstract: The present invention relates to a high-performance field effect transistor including a graphene channel layer. According to one embodiment of the present invention, the field effect transistor includes: a substrate; a grapheme channel layer which is placed on the substrate and includes a slit; a source electrode and a drain electrode which apply a voltage to the graphene channel layer and are placed at an interval; a gate electrode which forms an electric field in the graphene channel layer; and a gate insulation layer which is placed between the graphene channel layer and the gate electrode.
Abstract translation: 本发明涉及包括石墨烯通道层的高性能场效应晶体管。 根据本发明的一个实施例,场效应晶体管包括:衬底; 一个放置在基片上并包括狭缝的图形通道层; 源极电极和漏电极,其对石墨烯沟道层施加电压并以一定间隔放置; 在所述石墨烯沟道层中形成电场的栅电极; 以及位于石墨烯通道层和栅电极之间的栅极绝缘层。
-
公开(公告)号:KR1020110098441A
公开(公告)日:2011-09-01
申请号:KR1020100018072
申请日:2010-02-26
Applicant: 삼성전자주식회사 , 서울대학교산학협력단
IPC: H01L29/772 , H01L21/335
CPC classification number: H01L29/66045 , H01L23/522 , H01L27/0688 , H01L27/124 , H01L29/1606 , H01L29/45 , H01L29/7781 , H01L29/78684 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 그라핀 전자소자 및 제조방법이 개시된다. 개시된 그라핀 전자소자는, 상기 기판 상에 형성된 연결배선 및 복수의 전극을 덮는 층간 절연층과, 상기 층간 절연층 상에서 상기 복수의 전극을 덮는 제1절연층과, 상기 제1절연층 상에 형성되며 적어도 두개의 상기 전극과 그 양단이 연결되는 그라핀;을 포함한다.
-
公开(公告)号:KR101830782B1
公开(公告)日:2018-04-05
申请号:KR1020110095813
申请日:2011-09-22
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L29/78 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/456 , H01L29/1606 , H01L29/41725 , H01L29/45 , H01L29/452 , H01L29/78
Abstract: 그래핀을포함하는전극구조체및 전계효과트랜지스터를개시한다. 개시된전극구조체는반도체층상의그래핀과, 상기그래핀상의전극메탈을구비한다. 상기그래핀은상기반도체층과직접적으로접촉하며, 상기전극메탈은상기그래핀과직접접촉한다.
Abstract translation: 公开了包括石墨烯和场效应晶体管的电极结构。 所公开的电极结构包括半导体层上的石墨烯和石墨烯上的电极金属。 石墨烯与半导体层直接接触,并且电极金属与石墨烯直接接触。
-
-
-
-
-
-
-
-
-