Abstract:
PURPOSE: An electron beam focusing electrode and an electron gun using the same are provided to focus the electron to an anode direction separated from a cathode by passing the electron through the penetration hole of the electron beam focusing electrode. CONSTITUTION: A cross section of a second surface(32) of a penetration hole(33) emitting the electron is larger than the cross section of a first surface(31) of the penetration hole. The cross section of the penetration hole is inclined to the progressing direction of the electron beam passing through the inside of the penetration hole. A protrusion(34) is formed in at least one side of the penetration hole. The orbit of the electrons passing through the inside of the penetration hole is controlled by the protrusion. The distortion of the electric field is decreased in an edge part of the electron beam. The uniformity of the electron beam from the electron gun is improved.
Abstract:
An apparatus and a method for driving a resonant unit are provided to high maintain a value of a quality factor of a nano resonator by applying a DC power to a resonant unit. An AC power source part(10) generates a driving power having a fixed size in order to generate resonance in a resonant unit(30). An attenuating part(11) is connected between the AC power source part and the resonant unit. A phase dividing part(12) is connected between the AC power source part and the resonant unit. The phase dividing part divides an AC power generated in the AC power source part into two or more power having a fixed phase difference. A DC power supply source part(20) generates a DC power of a desired size. The resonant unit is resonated by using the AC power as the driving power. A detecting unit(40) grasps a resonant property of the resonant unit by detecting an inducing voltage. A control part(50) controls the AC power source part and the DC power source part.
Abstract:
다각형 관통홀을 포함하는 플레이트; 및 상기 관통홀의 적어도 한 변에 형성된 돌출부를 포함하는 전자빔 집속 전극과 상기 전자빔 집속 전극을 이용한 전자총이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 전자빔 집속 전극을 이용하면, 사각형 형상의 단면을 갖는 전자빔의 퍼짐 현상을 감소시킬 수 있으며, 전자총의 출력을 증가시키는 동시에 전자빔을 집속하는 것이 용이한 이점이 있다. 전자빔 집속 전극, BFE, 전자총, 사각형
Abstract:
공진 수단에 교류 전력을 인가하는 교류 전원부; 상기 공진 수단에 직류 전력을 인가하는 직류 전원부; 및 상기 교류 전원부 및 상기 직류 전원부에 의해 인가된 전력에 의해 상기 공진 수단이 선형 조화 진동(linear harmonic oscillation)하도록 상기 직류 전원부 및 상기 교류 전원부를 제어하는 제어부를 포함하는 공진 수단의 구동 장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 공진 수단의 구동 장치 및 방법을 사용하면, 나노 공진기와 같은 공진 수단에 인가되는 구동 전력의 크기를 증가시켜 신호 대 잡음 비율이 향상됨에 따라 신호의 검출이 용이하며, 공진 수단에 직류 전력을 인가함으로써 조화 진동을 유지할 수 있으므로 구동 전력의 크기가 증가하는 경우에도 나노 공진기의 양호도 Q의 값을 높게 유지할 수 있다. 공진, 선형, 조화 진동
Abstract:
본 발명은 기판의 식각부에 금속층을 형성하는 방법을 제공한다. 구체적으로, 기판의 식각부에 금속층을 형성하는 방법은, 기판을 식각하여 수직면을 갖는 식각부를 형성하는 단계, 식각부의 표면에 확산 물질층을 형성하는 단계, 확산 물질층을 열처리하여, 일부가 상기 식각부의 표면 아래로 확산된 씨드층을 형성하는 단계, 및 씨드층 상에 금속층을 형성하는 단계를 포함한다. 상기한 방법에 따르면, 씨드층에 의해 기판 식각부의 표면 특성이 개선되므로, 식각부의 수직면에 접착성이 우수하고 균일한 두께의 금속층을 형성할 수 있다. 기판, 식각, 금속층, 스캘럽, DRIE, 열처리, 확산
Abstract:
PURPOSE: A method for forming a metal layer of a substrate etching unit, a substrate with the metal layer of the substrate etching unit, and a substrate thereof are provided to improve the thin film characteristic of the metal layer of the substrate etching unit. CONSTITUTION: An etching unit has a vertical surface(51) by etching a substrate(10). A diffusion material layer is formed on a surface of an etching unit. A seed layer(60') is formed by thermally processing the diffusion material layer. A metal layer(70) is formed on the seed layer. The etching unit is formed with a groove type and a hole type. The diffusion material layer is formed by depositing the metal with a physical or chemical vapor deposition method.
Abstract:
본 발명은 레플리케이션 마스터 및 이를 이용한 분리격벽 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 광 투과성 재질의 기판 (a) 및, 제조하고자 하는 분리 격벽에 대응하여 반대의 프로파일을 가지도록(즉, 상기 분리격벽에 대해 음각으로), 상기 기판(a) 위에 형성된 광투과성 지지층(b)과 상기 지지층(b)의 상면에 형성된 광 차단층(c)을 포함하는 분리 격벽 제조용 레플리케이션 마스터에 대한 것이고, 아울러, 상기 레플리케이션 마스터를 이용하여 분리격벽을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 방법에 의할 경우, 소정의 패턴을 가지는 몰드형 레플리케이션 마스터를 사용하여, 잉크젯 프린팅이나 시린지 디스펜싱(syringe-dispensing) 등의 직접 기록방식(direct writing method)에서 용액간의 혼합방지 혹은 직선 엣지(edge) 패턴 형성을 위해 미리 제작되는 격벽을 경제적으로 간편하게 제조할 수 있으며, 본 발명에 따라 제조된 격벽은 포토리소그라피 등 종래 기술에 의해 제조된 격벽에 비해 보다 정확한 프로파일을 가진다.
Abstract:
An organic light emitting compound, an organic light emitting device containing the compound, and a method for preparing the organic light emitting device are provided to improve enhance the solubility, color purity and thermal stability of the compound, thereby lowering drive voltage and enhancing efficiency, color purity and brightness. An organic light emitting compound is represented by the formula 1, wherein CY1 and CY2 are independently a benzene ring or a naphthalene ring but the case of both CY1 and CY2 are a benzene ring is excluded; Ar1 is a substituted or unsubstituted C31-C100 aryl group; R1 and R2 are independently H, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, a substituted or unsubstituted C1-C50 alkyl or alkoxy group, a substituted or unsubstituted C5-C50 cycloalkyl or heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C50 aryl group, a substituted or unsubstituted C2-C50 heteroaryl group, -N(Z1)(Z2) or -Si(Z3)(Z4)(Z5); and Z1 to Z5 are independently H, a substituted or unsubstituted C1-C50 alkyl group, a substituted or unsubstituted C6-C50 aryl group, a substituted or unsubstituted C2-C50 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6-C50 cycloalkyl group or a substituted or unsubstituted C5-C50 heterocycloalkyl group.
Abstract:
본 발명은 순차적 자외광 중합을 이용한 플라스틱 광섬유용 모재의 제조장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 1) 중공 방지형 회전 반응 장치; 2) 구동부; 3) 상기 중공 방지형 회전 반응 장치를 구동부에 고정하기 위한 고정수단; 4) 자외광 차단막; 및 5) 가압부를 포함하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조장치에 있어서, 자외광 램프를 구비한 자외광 집속 광학계가 중공 방지형 회전 반응 장치의 반경방향으로 이동 가능한 이송장치 위에 설치된 것을 특징으로 하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조장치 및 방법에 관한 것으로 본 발명의 장치 및 방법에 의하면 광 특성이 길이 방향으로 균일한 플라스틱 광섬유용 모재를 제조할 수 있다. 플라스틱 광섬유용 모재, 중공 방지형 회전 반응 장치, 순차적 자외광 중합, 자외광 집속 광학계, 전송속도, 균일도
Abstract:
본 발명은 기판 위에 전극을 형성하고, 그 위에 임프린팅(imprinting) 가능한 유기절연막 조성물을 코팅하여 몰드로 가압경화시켜 패턴을 전사한 후, 에칭하는 것을 특징으로 하는 유기절연막의 패턴형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법에 의하면 유기절연막을 포토레지스트 공정에 의하지 않고 간단하게 몰딩에 의해 패턴형성할 수 있기 때문에, 제조공정을 단순화할 수 있을 뿐만 아니라, 궁극적으로 전하이동도가 높은 유기박막 트랜지스터를 완전 습식공정(all wet-processible)에 의해 제조할 수 있다.