-
公开(公告)号:KR1020170091965A
公开(公告)日:2017-08-10
申请号:KR1020160012916
申请日:2016-02-02
Applicant: 서울대학교산학협력단
IPC: H01L21/28 , H01L21/02 , H01L21/285 , H01L21/203 , H01L21/324
Abstract: 상온과같은저온에서도스퍼터링과같은 PVD 방법을이용해단결정 AlN을성장시킬수 있는방법을제공한다. 본발명에따른단결정 AlN 성장방법은기판위에상기기판과 AlN 사이의격자상수차이를줄여주는금속층을형성하는단계; 및상기금속층위에 PVD 방법으로단결정 AlN을성장시키는단계를포함한다.
Abstract translation: 提供了即使在低温如室温下也使用诸如溅射的PVD方法生长单晶AlN的方法。 根据本发明的另一方面,提供了一种生长单晶AlN的方法,包括:在衬底上形成金属层以减小衬底和AlN之间的晶格常数的差异; 并通过PVD在金属层上生长单晶AlN。
-