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公开(公告)号：KR1020110035355A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：KR1020090093027
申请日：2009-09-30
Applicant: 서울대학교산학협력단
IPC: H01L23/28
CPC classification number: H01L21/56 , H01L21/0274 , H01L21/78 , H01L23/5387 , H01L24/26 , H01L25/0753
Abstract: PURPOSE: A method and system for coating a chip are provided to selectively expose a first coater and a photo resist to light wherein the first coater forms a photo resist on a partial area on a board and chips, thereby forming coating layers on the chips. CONSTITUTION: A plurality of chips is arranged on a flexible board(110). The flexible board is deformed to change the arrangement of the chips(120). A photo resist is formed on a partial area of the board and the chips. A first coating layer is formed on the chips by selectively exposing the photo resist(140). The photo resist comprises a fluorescent substance.
Abstract translation: 目的：提供用于涂覆芯片的方法和系统以选择性地暴露第一涂布机和光抗蚀剂，其中第一涂布机在板和芯片上的部分区域上形成光致抗蚀剂，从而在芯片上形成涂层。 构成：多个芯片布置在柔性板（110）上。 柔性板变形以改变芯片（120）的布置。 光电抗蚀剂形成在板的部分区域和芯片上。 通过选择性地曝光光致抗蚀剂（140），在芯片上形成第一涂层。 光致抗蚀剂包含荧光物质。
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公开(公告)号：KR102148425B1
公开(公告)日：2020-08-26
申请号：KR1020200003309
申请日：2020-01-09
Applicant: 서울대학교산학협력단 , 서울대학교병원
IPC: C12N5/071 , A61K31/132 , A61K31/455 , A61K31/7008 , A61P3/10
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公开(公告)号：KR1020110034072A
公开(公告)日：2011-04-05
申请号：KR1020090091441
申请日：2009-09-28
Applicant: 서울대학교산학협력단
IPC: G02B5/00
CPC classification number: G02B5/02 , G02B19/0023 , G02B19/0066 , G02B27/09 , H01L33/50 , H01L33/58 , H01L2924/0002 , H05B33/10 , H05B33/14 , H01L2924/00
Abstract: PURPOSE: A composite film for a light emitting device, the light emitting device, and a manufacturing method thereof are provided to improve energy efficiency by using a high brightness LED as a light source. CONSTITUTION: A composite film(1820) is used in a light emitting device(1800) including a light emitting element(1830). A fluorescent layer includes a fluorescent element. An optical plate is arranged on the fluorescent layer and diffuses, reduces, or mixes light radiated by the fluorescent layer and the mixture thereof.
Abstract translation: 目的：提供一种用于发光器件的复合膜，发光器件及其制造方法，以通过使用高亮度LED作为光源来提高能量效率。 构成：在包括发光元件（1830）的发光器件（1800）中使用复合膜（1820）。 荧光层包括荧光元件。 在荧光层上设置光学板，并且扩散，减少或混合由荧光层辐射的光及其混合物。
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公开(公告)号：KR102258380B1
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：KR1020200116891
申请日：2020-09-11
Applicant: 서울대학교산학협력단 , 서울대학교병원
IPC: A61K31/132 , A61K31/7008 , A61K31/455 , A61P3/10 , A23L33/10 , A61K31/575
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101118533B1
公开(公告)日：2012-03-12
申请号：KR1020090091441
申请日：2009-09-28
Applicant: 서울대학교산학협력단
IPC: G02B5/00
CPC classification number: G02B5/02 , G02B19/0023 , G02B19/0066 , G02B27/09 , H01L33/50 , H01L33/58 , H01L2924/0002 , H05B33/10 , H05B33/14 , H01L2924/00
Abstract: 발광소자를 포함하는 발광장치에 사용되는 복합필름에 관한 기술이 개시(disclosure)된다. 일 실시 예에 있어서, 복합필름은 형광체를 포함하는 형광막 및 상기 형광막 위에 배치되며, 상기 발광소자에 의해 방사되는 광, 상기 형광체에 의하여 방사되는 광 및 이들의 혼합광 중 적어도 어느 한 광을 확산, 축소 또는 혼합하는 광학플레이트를 포함한다.
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公开(公告)号：KR1020100029962A
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：KR1020080088683
申请日：2008-09-09
Applicant: 서울대학교산학협력단
CPC classification number: G03F7/70341 , B29C64/106 , B29L2031/756 , B33Y30/00 , B81C99/0095 , B81C2201/0159 , F15B7/08 , F15B15/10 , G03B27/54 , G03F7/20 , G03F7/70416
Abstract: PURPOSE: An optofluidic lithography system, a manufacturing method of a two-layered microfluidic channel, and a manufacturing method of a three-dimensional microstructure are provided to control the height of a fluid channel by deforming a membrane. CONSTITUTION: An optofluidic lithography system comprises a membrane(15), a fluid channel(14), and a pneumatic chamber(12). The membrane is located between the pneumatic chamber and the fluid channel. The fluid channel has the height corresponding to the displacement of the membrane. The fluid channel accepts fluid. A microstructure is formed by hardening the fluid using light irradiated from the bottom of the fluid channel. The pneumatic chamber leads the displacement of the membrane.
Abstract translation: 目的：提供光流体光刻系统，双层微流体通道的制造方法和三维微结构的制造方法，以通过使膜变形来控制流体通道的高度。 构成：光流体光刻系统包括膜（15），流体通道（14）和气动室（12）。 膜位于气动室和流体通道之间。 流体通道的高度对应于膜的位移。 流体通道接受流体。 通过使用从流体通道的底部照射的光来硬化流体而形成微结构。 气动室导致膜的位移。
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公开(公告)号：KR1020100025452A
公开(公告)日：2010-03-09
申请号：KR1020080114716
申请日：2008-11-18
Applicant: 서울대학교산학협력단
CPC classification number: G01N33/54373 , C12Q1/6837 , C40B40/08 , C40B40/10 , C12Q2565/628 , G01N21/554
Abstract: PURPOSE: A molecular detection substrate using a surface Plasmon resonance(SPR) is provided to increase the number of nanodots and improve signal versus noise ratio. CONSTITUTION: A target molecule detection substrate using a surface Plasmon resonance(SPR) comprises: a detection zone placed on the surface of the substrate; and plural collection of nanodots placed inside the detection zone. The nanodot is functionalized to one or more probes having affinity to a target molecule. The range of detection zone is 1um^2 to 10,000 um^2. The plural nanodots form grating pattern, spiral pattern, planar concentric circle or radiation pattern. The diameter of the nanodot is 1 nm-100 nm. The nanodot contains gold(Au), silver(Ag), copper(Cu) or aluminum(Al).
Abstract translation: 目的：提供使用表面等离子体共振（SPR）的分子检测基板，增加纳米点的数量，提高信噪比。 构成：使用表面等离子体共振（SPR）的靶分子检测基板包括：放置在基板表面上的检测区域; 以及放置在检测区内的多个纳米点集合。 该纳米点被功能化为对目标分子具有亲和力的一种或多种探针。 检测范围为1um ^ 2〜10,000um ^ 2。 多个纳米点形成光栅图案，螺旋图案，平面同心圆或辐射图。 纳米点的直径为1nm-100nm。 该纳米点含有金（Au），银（Ag），铜（Cu）或铝（Al）。
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公开(公告)号：KR101156073B1
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：KR1020090093027
申请日：2009-09-30
Applicant: 서울대학교산학협력단
IPC: H01L23/28
Abstract: 칩 코팅 방법에 관한 기술이 개시(disclosure)된다. 일 실시 예에 있어서, 칩 코팅 방법은 유연성 기판 위에 배치된 복수의 칩들을 준비하는 과정, 상기 유연성 기판을 변형하여 상기 제1 배열을 제2 배열로 변경하는 과정, 상기 기판 및 상기 복수의 칩들 표면의 적어도 일부 영역 위에 포토레지스트를 형성하는 과정 및 상기 포토레지스트에 선택적으로 광을 노출하여, 상기 복수의 칩들 표면에 제1 코팅층을 형성하는 과정을 포함한다. 상기 복수의 칩들은 상기 기판 위에서 제1 배열을 가진다. 상기 제1 코팅층은 경화된 상기 포토레지스트이다.
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公开(公告)号：KR101004769B1
公开(公告)日：2011-01-04
申请号：KR1020080088683
申请日：2008-09-09
Applicant: 서울대학교산학협력단
CPC classification number: G03F7/70341 , B29C64/106 , B29L2031/756 , B33Y30/00 , B81C99/0095 , B81C2201/0159 , F15B7/08 , F15B15/10 , G03B27/54 , G03F7/20 , G03F7/70416
Abstract: 막(membrane), 유체관 및 공기 체임버를 구비하는 광유체적 리소그래피 시스템이 개시된다. 상기 막은 상기 유체관과 상기 공기 체임버 사이에 위치한다. 상기 유체관은 내부에 유체가 있고, 상기 막의 변위에 대응하는 높이를 가진다. 상기 공기 체임버는 내부 기압에 따라 상기 막의 변위를 유도한다.
Abstract translation: 提供了包括膜，微流体通道和气动室的光流体光刻系统。 膜可以位于气动室和微流体通道之间。 微流体通道可以具有对应于膜的位移的高度并且具有在其中流动的流体，流体由从底部照射的光固化以形成微结构。 气动室可以根据其内部大气压力而引起膜的移位。
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