Abstract:
The present invention relates to a method for manufacturing a device after a large graphene electrode grown without a catalyst is directly grown on a compound semiconductor layer made of GaN or mixed nitride of Ga and another metal. In the present invention, a graphene grown with PECVD without the catalyst at relatively low temperatures, which is able to be applied to a nitride semiconductor, is formed. According to the present invention, a graphene with a uniform property is easily grown on a large substrate of 2 inches or more as a transfer method is not required, unlike a graphene grown with a catalyst. Also, the performance of the device is easily maximized by applying various pre-processes to a graphene-combined nitride semiconductor substrate, by not distinguishing the substrate.
Abstract:
본 발명은 고정층 반응기에 두 종의 촉매가 충진되고, 두 촉매 층이 물리적으로 섞이지 않도록 설계한 연속 흐름식 2중 촉매 반응 장치를 이용하여 노르말-부텐의 산화적 탈수소화 반응에 의해 1,3-부타디엔을 제조하는 방법에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로는, 노르말-부텐의 이성질체(1-부텐, 트랜스-2-부텐, 시스-2-부텐)들의 산화적 탈수소화 반응에 대해 활성이 다른 다성분계 비스무스 몰리브데이트 계 촉매와 페라이트 계 촉매를 사용한 연속 흐름식 2중 촉매 반응 장치를 이용하여 노르말-부텐과 노르말-부탄이 포함된 C4 혼합물을 반응물로 사용하여 노르말-부텐의 산화적 탈수소화 반응을 통해 1,3-부타디엔을 제조할 수 있는 방법에 관한 것이다.
Abstract:
The present invention relates to a manufacturing method for graphene. The manufacturing method for graphene is able to uniformly grow graphene at low temperatures without a catalyst by forming a graphene layer with a method which directly grows graphene on a substrate by supplying process gas containing carbon sources to the substrate after preprocessing the substrate by oxidative gas plasma. The manufacturing method is able to directly grow graphene on a flexible substrate without a catalyst, thereby being able to be applied to various flexible devices such as a flexible display recently receiving attention. The manufacturing method for graphene forms a mask pattern on a substrate after or before preprocessing the substrate by using oxidative gas plasma, grows graphene on the surface of the substrate exposed due to the mask by supplying process gas containing carbon sources to the substrate, and forms a graphene layer equipped with the pattern, thereby being able to easily and simply form the graphene layer equipped with the pattern by using a mask made of various materials with one step process without an additional lithographic process. [Reference numerals] (AA) Oxidative gas plasma
Abstract:
그래핀의 제조방법을 제공한다. 그래핀의 제조방법은 산화성 가스 플라즈마를 이용하여 기판을 전처리한 후, 탄소 소스가 포함된 공정 가스를 기판 상으로 공급하여 기판 상에 직접 그래핀을 성장시키는 방법으로 그래핀층을 형성함으로써 저온에서 촉매 없이 그래핀을 균일하게 성장시킬 수 있다. 플렉서블 기판 상에도 촉매 없이 그래핀의 직접 성장이 가능하므로, 최근 관심이 높아지고 있는 플렉서블 디스플레이 등 다양한 플렉서블 소자에 적용할 수 있다. 또한, 산화성 가스 플라즈마를 이용하여 기판을 전처리하기 이전이나 이후에, 기판 상에 마스크 패턴을 형성하고, 탄소 소스가 포함된 공정 가스를 기판 상으로 공급하여 상기 마스크에 의해 노출된 기판 표면에서만 그래핀을 성장시켜 패턴이 구비된 그래핀층을 형성함으로써 별도의 리소그래피 공정 없이 다양한 재질의 마스크를 이용하여 원-스텝(one step) 공정으로 간단하고 용이하게 패턴이 구비된 그래핀층을 형성할 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A method for producing 1,3-butadiene from n-butene using continuous-flow dual-bed reactor with excellent catalyst reproducibility is provided to obtain 1,3-butadiene at high yield by maximizing activity of oxidation-dehydrogenation of n-butene. CONSTITUTION: A method for producing 1,3-butadiene from n-butene using continuous-flow dual-bed reactor comprises the steps of: laminating and filling a bismuth molybdate-based first catalyst and a ferrite-based second catalyst, which are a catalyst-fixed layer on a reactor by a quartz layer so that a separated laminated layer is formed; performing oxidation-dehydrogenation while consecutively passing a C4 mixture including normal butane and a reactant containing air and steam through a catalyst layer of the reactor; and obtaining 1,3-butadiene.