Abstract:
실리콘 관통전극의 제조방법이 개시된다. 실리콘 관통전극의 제조방법은 실리콘 기판의 하부면 상에 에치스톱층을 형성하는 제1 단계; 사진식각 공정을 통해 상기 실리콘 기판에 관통홀을 형성하는 제2 단계; 상기 에치스톱층 하부면 상에 금속층 및 보호층을 순차적으로 형성한 후 상기 관통홀에 대응되는 상기 에치스톱층의 부분을 제거하는 제3 단계; 및 전해도금 공정을 통해 상기 금속층으로부터 상기 관통홀 내부를 채우는 도금막을 성장시켜 상기 관통홀 내부에 비아전극을 형성하는 단계를 포함한다.
Abstract:
PURPOSE: A substrate processing method is provided to improve the planarity and height of through wires by performing a planarization process using a jig substrate having a plurality of receiving parts. CONSTITUTION: A first photo resist pattern and a second photoresist pattern(112) are formed on a substrate(100). A through wires(122) is formed by filling a through hole with conductive materials. A seed layer(120) is formed on an inner side of the through hole. A jig substrate(130) comprises a receiving part(132) corresponding to the through wire. A plurality of vacuum holes(134) is formed on the jig substrate in order to absorb the substrate.
Abstract:
본 발명은 도금공정이 매우 빠르게 진행될 수 있을 뿐만 아니라 기공율이 최소화된 관통형전극의 형성방법 및 그에 따라 형성된 관통형전극에 관한 것이다. 본 발명에 의한 관통형전극의 형성방법은, 기판에 형성된 관통공의 하부에 도전성 페이스트를 채우는 단계; 상기 도전성 페이스트가 채워진 상기 기판의 밑면에 금속막을 형성하는 단계; 상기 금속막의 표면에 보호막을 부착하는 단계; 및 상기 금속막을 시드층으로 하여 상기 관통공에 상기 도전성 페이스트로부터 반대쪽방향으로 내부전극을 성장시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 관통공의 일부를 도전성 페이스트로 채워, 금속시드층 형성시 관통공의 벽면에 금속이 증착되는 것을 막을 수 있다. 이에 의하여 내부에 기공이 형성되는 것을 방지함으로써, 높은 전류밀도를 사용할 수 있어 전해도금공정의 시간을 줄일 수 있다. 또한, 관통공의 일부를 도전성 페이스트로 채워 내부에 전극이 성장하는 거리를 단축시킴으로써, 전해도금공정의 시간이 크게 줄어드는 효과가 있다. 기판, 배선, 관통형전극, 도전성 페이스트, 시드층
Abstract:
본 발명은 평판 디스플레이패널의 검사에 사용하는 프로브 유닛의 복층 접속구조을 형성하는 방법 및 이에 따라 형성된 복층 접속구조에 관한 것이다. 본 발명의 평판 디스플레이패널 검사용 프로브 유닛의 복층 접속구조 형성방법은, 기판의 위에 다수의 신호선을 형성하는 단계; 상기 신호선이 형성된 기판의 위에 절연포토레지스트층을 도포하고 패턴을 형성하는 단계; 상기 제2포토레지스트층의 패턴 위에 다수의 쇼팅선을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 절연포토레지스트층의 패턴이 상기 신호선의 위에 빈공간을 가지고 있어 상기 쇼팅선이 상기 신호선을 쇼팅하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 포토레지스트 층을 층간 절연체로 사용한 복층구조의 평판 디스플레이패널의 검사에 사용하는 프로브 유닛의 접속구조를 형성함으로써, 간단한 공정으로 효율이 뛰어난 복층의 접속구조를 얻을 수 있다. 또한 절연층을 형성하는 공정을 거치지 않기 때문에, 접속구조를 제조하는 공정의 효율이 향상되는 효과가 있다. 평판 디스플레이패널, 평판 표시패널, 프로브 유닛, 복층 접속구조
Abstract:
PURPOSE: A method for forming a multi layered connecting structure of a probe unit for inspecting a flat display panel and the multi layered connecting structure made by the same are provided to increase efficiency of a production process of a connecting structure. CONSTITUTION: A plurality of signal lines(31,32,33) is formed on a substrate. A short line short-circuits intervals among partial signal lines. An insulation photo resist layer(40) insulates a part except the short circuit part between a signal line and a short line.
Abstract:
PURPOSE: A through hole type electrode and a forming method thereof are provided to reduce the time of an electrolyte plating process by reducing the distance of an electrode growth by filling a part of a through hole with a conductive paste. CONSTITUTION: A through hole is formed in a substrate(10) by a dry etching process. A conductive paste(60) is filled in the lower part of the through hole. A metal layer(40) is formed in the bottom side of the substrate in which the conductive paste is filled. A protective layer is attached to the surface of the metal layer. An inner electrode(50) is formed in the through hole by using the metal layer as a seed layer.