평판 디스플레이패널 검사용 프로브 유닛의 복층 접속구조 형성방법 및 이를 이용하여 형성된 복층 접속구조
    1.
    发明授权
    평판 디스플레이패널 검사용 프로브 유닛의 복층 접속구조 형성방법 및 이를 이용하여 형성된 복층 접속구조 失效
    用于检查平板显示面板和双层连接结构的探测单元双层连接结构的准备方法

    公开(公告)号:KR101104903B1

    公开(公告)日:2012-01-12

    申请号:KR1020090078352

    申请日:2009-08-24

    Abstract: 본 발명은 평판 디스플레이패널의 검사에 사용하는 프로브 유닛의 복층 접속구조을 형성하는 방법 및 이에 따라 형성된 복층 접속구조에 관한 것이다.
    본 발명의 평판 디스플레이패널 검사용 프로브 유닛의 복층 접속구조 형성방법은, 기판의 위에 다수의 신호선을 형성하는 단계; 상기 신호선이 형성된 기판의 위에 절연포토레지스트층을 도포하고 패턴을 형성하는 단계; 상기 제2포토레지스트층의 패턴 위에 다수의 쇼팅선을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 절연포토레지스트층의 패턴이 상기 신호선의 위에 빈공간을 가지고 있어 상기 쇼팅선이 상기 신호선을 쇼팅하는 것을 특징으로 한다.
    본 발명에 따르면, 포토레지스트 층을 층간 절연체로 사용한 복층구조의 평판 디스플레이패널의 검사에 사용하는 프로브 유닛의 접속구조를 형성함으로써, 간단한 공정으로 효율이 뛰어난 복층의 접속구조를 얻을 수 있다.
    또한 절연층을 형성하는 공정을 거치지 않기 때문에, 접속구조를 제조하는 공정의 효율이 향상되는 효과가 있다.
    평판 디스플레이패널, 평판 표시패널, 프로브 유닛, 복층 접속구조

    고밀도 탄소나노튜브 제조장치 및 방법
    2.
    发明授权
    고밀도 탄소나노튜브 제조장치 및 방법 失效
    非常渗透碳纳米管的制造装置和方法

    公开(公告)号:KR100850499B1

    公开(公告)日:2008-08-05

    申请号:KR1020070009921

    申请日:2007-01-31

    CPC classification number: B82B3/0004 B82Y40/00 C01B32/162 C01B32/164

    Abstract: An apparatus and a method for manufacturing highly dense carbon nanotubes are provided to prevent impurities from being induced while retaining conductive characteristics by using conductive amorphous carbon thin film as a catalyst. An apparatus for manufacturing highly dense carbon nanotubes includes: a support unit which supports a substrate; a vacuum chamber(120) in which the support unit is installed; a jig(130) which fixes the support unit to the vacuum chamber; a gas supply line; a cooling line; a tungsten filament(140); a gas distributor(150); a gas control unit(190); and a catalyst formation unit which has plural electromagnetic powers for plasma generation and plural graphite targets connected to the electromagnetic powers, and forms a catalyst layer on the substrate with the graphite target using an asymmetric magnetron sputtering method. The catalyst layer is a conductive amorphous carbon thin film.

    Abstract translation: 提供一种用于制造高密度碳纳米管的装置和方法,以通过使用导电非晶碳薄膜作为催化剂来保持导电特性,从而可以诱发杂质。 用于制造高密度碳纳米管的装置包括:支撑基板的支撑单元; 设置有所述支撑单元的真空室(120); 将支撑单元固定到真空室的夹具(130); 供气线 一条冷却线 钨丝(140); 气体分配器(150); 气体控制单元(190); 以及催化剂形成单元,其具有用于等离子体产生的多个电磁功率和与电磁功率连接的多个石墨靶,并且使用非对称磁控溅射法在石墨靶上在基板上形成催化剂层。 催化剂层是导电无定形碳薄膜。

    전해 연마를 이용한 기판의 평탄화 방법 및 이를 포함하는 반도체 소자의 제조 방법
    3.
    发明授权
    전해 연마를 이용한 기판의 평탄화 방법 및 이를 포함하는 반도체 소자의 제조 방법 有权
    使用电抛光方法平面化基板的方法及其制造包括其的半导体器件的方法

    公开(公告)号:KR101239430B1

    公开(公告)日:2013-03-06

    申请号:KR1020110072905

    申请日:2011-07-22

    Abstract: 기판을 평탄화시키는 방법은 관통하는 홀이 형성된 기판에 씨드(seed)용 금속을 증착하여 상기 기판의 표면 및 상기 홀의 안쪽면 각각에 서로 연결된 제1 및 제2 씨드층들을 형성하는 단계, 상기 제1 씨드층을 음극에 연결한 상태로 제1 전해액에 담가 전해 도금을 실시하여 상기 제2 씨드층으로부터 상기 홀의 내부를 채우면서 성장하는 전극을 형성하는 단계, 상기 전극이 형성된 기판의 제1 씨드층을 양극에 연결한 상태로 제2 전해액에 담가 전해 연마를 실시 가능한 전기적인 연결이 분리되는 순간까지 실시하여 상기 전극 중 상기 홀의 외부로 돌출된 부분을 제거함으로써 상기 기판을 평탄화시키는 단계를 포함한다.

    전해 연마를 이용한 기판의 평탄화 방법 및 이를 포함하는 반도체 소자의 제조 방법
    4.
    发明公开
    전해 연마를 이용한 기판의 평탄화 방법 및 이를 포함하는 반도체 소자의 제조 방법 有权
    使用电抛光方法平面化基板的方法和用于制造包括其的半导体器件的方法

    公开(公告)号:KR1020130011618A

    公开(公告)日:2013-01-30

    申请号:KR1020110072905

    申请日:2011-07-22

    CPC classification number: H01L25/073 H01L21/76838 H01L23/481 H01L23/5329

    Abstract: PURPOSE: A method for planarizing a substrate using electro-polishing and a method for manufacturing semiconductor device including the same are provided to form a penetration electrode and to planarize a substrate. CONSTITUTION: The metal for a seed is deposited on a substrate having a hole. A first and a second seed layer(230, 240) respectively are connected to the surface of the substrate and the inner side of the hole. An electroplating process is performed on the first seed layer to form an electrode(220). A polishing process is performed to separate the first seed layer from the second seed layer and to remove a protruded part of the electrode. [Reference numerals] (AA) Second electrolyte

    Abstract translation: 目的:提供一种使用电抛光对基板进行平面化的方法以及包括该方法的半导体装置的制造方法,以形成贯通电极并使基板平坦化。 构成:用于种子的金属沉积在具有孔的基底上。 第一和第二种子层(230,240)分别连接到基底的表面和孔的内侧。 在第一籽晶层上进行电镀工艺以形成电极(220)。 进行抛光处理以将第一种子层与第二种子层分离并除去电极的突出部分。 (附图标记)(AA)第二电解质

    평판 디스플레이패널 검사용 프로브 유닛의 복층 접속구조 형성방법 및 이를 이용하여 형성된 복층 접속구조
    5.
    发明公开
    평판 디스플레이패널 검사용 프로브 유닛의 복층 접속구조 형성방법 및 이를 이용하여 형성된 복층 접속구조 失效
    用于检查平板显示面板和双层连接结构的探测单元双层连接结构的准备方法

    公开(公告)号:KR1020110020632A

    公开(公告)日:2011-03-03

    申请号:KR1020090078352

    申请日:2009-08-24

    Abstract: PURPOSE: A method for forming a multi layered connecting structure of a probe unit for inspecting a flat display panel and the multi layered connecting structure made by the same are provided to increase efficiency of a production process of a connecting structure. CONSTITUTION: A plurality of signal lines(31,32,33) is formed on a substrate. A short line short-circuits intervals among partial signal lines. An insulation photo resist layer(40) insulates a part except the short circuit part between a signal line and a short line.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于形成用于检查平板显示面板的探针单元和由其制成的多层连接结构的多层连接结构的方法,以提高连接结构的生产过程的效率。 构成:在基板上形成多条信号线(31,32,33)。 部分信号线之间的短线短路间隔。 绝缘光阻层(40)将短路部分以外的部分绝缘在信号线与短线之间。

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