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公开(公告)号：KR1020170121935A
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：KR1020160050840
申请日：2016-04-26
Applicant: 연세대학교 산학협력단 , 한국산업기술대학교산학협력단
Abstract: 본발명은전해방전가공장치및 이를이용한전해방전가공방법에관한것으로서, 가공대상물(W)이침지되는전해액을수용하는전해액용기; 상기전해액내에일단부가침지된공구전극; 상기공구전극과전기적으로연결된양의전극; 상기공구전극과양의전극사이에전력을공급하는전원; 및상기공구전극의일단부와상기가공대상물(W) 사이에존재하는전해액의수위를조절하는수단을포함하되, 상기전해액의수위를조절하는수단은노즐등을통하여기체를분사하는기체공급수단인것을특징으로한다.
Abstract translation: 电解放电加工装置及使用其的电解放电加工方法，电解放电加工装置及使用其的电解放电加工方法技术领域本发明涉及电解放电加工装置及使用其的电解放电加工方法， 具有浸入电解质溶液中的一端的工具电极; 电连接到工具电极的正电极; 一种用于在工具电极和正极之间供电的电源; 和所述一个端部和包括用于控制所述对象之间存在的电解液的水位的装置，气体供给装置将被处理（W）的装置，用于调整所述电解液的水位通过喷嘴等工具电极的注入的气体 和被表征。
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公开(公告)号：KR101874519B1
公开(公告)日：2018-07-04
申请号：KR1020160050840
申请日：2016-04-26
Applicant: 연세대학교 산학협력단 , 한국산업기술대학교산학협력단
Abstract: 본발명은전해방전가공장치및 이를이용한전해방전가공방법에관한것으로서, 가공대상물(W)이침지되는전해액을수용하는전해액용기; 상기전해액내에일단부가침지된공구전극; 상기공구전극과전기적으로연결된양의전극; 상기공구전극과양의전극사이에전력을공급하는전원; 및상기공구전극의일단부와상기가공대상물(W) 사이에존재하는전해액의수위를조절하는수단을포함하되, 상기전해액의수위를조절하는수단은노즐등을통하여기체를분사하는기체공급수단인것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR1020150057978A
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：KR1020140151524
申请日：2014-11-03
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3407 , C23C14/3442 , C23C14/3471
Abstract: 3차원나노스케일의구조물제작장치및 이를이용한 3차원나노스케일구조물제조방법이개시된다. 본발명의실시예에따른나노구조물제작장치는, 소스부재(110), 소스부재고정부(120) 및플라즈마발생부(130)를구비하고, 상기소스부재(110)는플라즈마발생부(130)로부터발생한플라즈마(190)에의해스퍼터링되어나노입자를발생하는스퍼터링소스부(100); 상기스퍼터링소스부(100)에인접하여장착되고, 스퍼터링된나노입자들(111)이양전하를띠도록스퍼터링된나노입자들(111)에플라즈마또는레이저를조사하는이온화장치부(200); 상기스퍼터링소스부(100) 및이온화장치부(200)를내부에장착하고, 이온화입자배출구(411)를구비하며, 상기이온화장치부(200)로부터생성된양전하를띤 나노입자들(112)을상기이온화입자배출구(411)로배출시키는스퍼터링챔버(sputtering chamber, 410); 상기이온화입자배출구(411)에인접하여연통되어장착되고, 집속입자배출구(421)를구비하며, 이온화된입자들(112)을이온집속렌즈(320)를통해집속하고, 상기집속입자배출구(421)를통해집속된입자(113)를배출시키는이온제어렌즈부(300); 및상기집속입자배출구(421)에인접하여위치하고, 집속된입자들(113)을끌어당기는음극판(520)을구비하며, 집속된입자들(113)을기판(510)에증착시키는기판증착부(500);를포함한다.
Abstract translation: 公开了一种用于制造三维纳米尺度结构的装置和使用其的三维纳米级结构的制造方法。 根据本发明的实施例，用于制造三维纳米级结构的装置包括：溅射源单元（100），具有源元件（110）并具有源元件固定单元（120），并具有 等离子体产生单元（130），并且其中所述源构件（11）由等离子体产生单元（13）产生的等离子体（190）溅射以产生纳米颗粒; 电离装置单元（200），其将所述等离子体或激光照射到所述溅射的纳米颗粒（111）上以带正电; 以及将从电离装置单元（200）产生的带正电的纳米粒子（112）排出到电离粒子出口（411）的溅射室（410）。
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公开(公告)号：KR101176695B1
公开(公告)日：2012-08-23
申请号：KR1020090004104
申请日：2009-01-19
Applicant: 연세대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명은 피가공물의 표면에 곡면을 연마하기 위한 연마방법에 관한 것으로, 자기장을 제어하여 유체의 동적인 항복응력을 조절하고, 연마공구의 외주연에 곡률반경을 형성함과 동시에 연마공구와 피가공물 표면 사이의 간극을 조절함으로써 피가공물의 표면에 미세 곡면연마가 가능한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마방법을 제공하기 위한 것이다.
곡면 연마공구, 미세 곡면연마, 자기유변유체, 피가공물, 곡률반경, 곡면, 간극-
公开(公告)号：KR1020110136206A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：KR1020100056056
申请日：2010-06-14
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: B24B31/112 , B24B5/00
CPC classification number: B24B31/112 , B24B5/00
Abstract: PURPOSE: A workpiece grinding device, using magnetorheological fluid, and a grinding method thereof are provided to flatly grind a surface of a three-dimensional structure without a curved part. CONSTITUTION: A workpiece grinding device comprises an electromagnet(110), magnetorheological fluid, a slip ring(150), and a power supply device(160). A processing window(W) for processing workpiece is formed between N-pole and S-pole of an electromagnet. The electromagnet is magnetized with the current applied in a coil(120) in order to form parallel lines of magnetic force between north and south poles. The magnetorheological fluid is located between N pole and S pole of the electromagnet. The magnetorheological fluid is rotated with the magnetized electromagnet and grinds the surface of workpiece. The slip ring supplies current to a coil of the electromagnet.
Abstract translation: 目的：提供使用磁流变流体的工件研磨装置及其研磨方法，以平坦地研磨没有弯曲部分的三维结构的表面。 构成：工件研磨装置包括电磁体（110），磁流变流体，滑环（150）和电源装置（160）。 在电磁体的N极和S极之间形成用于加工工件的加工窗口（W）。 电磁体被施加在线圈（120）中的电流磁化，以在北极和南极之间形成平行的磁力线。 磁流变流体位于电磁铁的N极和S极之间。 磁流变流体与磁化电磁铁一起旋转，研磨工件表面。 滑环向电磁铁的线圈提供电流。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101082536B1
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：KR1020090099661
申请日：2009-10-20
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L21/027 , H01L21/268
Abstract: 본발명은스텐실마스크조립체및 이를이용한빔 조사장치와빔 조사방법에관한것이다. 더욱상세하게는, 본발명은기판상의빔 조사공정에서사용되는스텐실마스크에있어서, i) 서로결합및 분리가가능한다수의마스크유닛; 및 ii) 상기다수의마스크유닛에각각연결되는미세액추에이터;로구성되는스텐실마스크조립체및 이를이용한빔 조사장치와빔 조사방법에대한것이다.
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公开(公告)号：KR101039464B1
公开(公告)日：2011-06-07
申请号：KR1020090004629
申请日：2009-01-20
Applicant: 연세대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명은 미세방전 디버링 가공장치 및 가공공정에 관한 것으로, 피가공물에 형성되는 버(Burr)를 정전용량 센서로 추적하여 스캔한 후 측정된 버의 높이 신호에 따라 디버링 가공조건을 설정하고, 설정된 가공조건에 따라 피가공물의 버를 정밀하게 디버링 가공할 수 있는 미세방전 디버링 가공장치 및 가공공정을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 기술적 특징은, 방전가공장치에 있어서, 피가공물에 형성되는 버의 위치를 추적하면서 버를 스캔하는 스캔부; 및 상기 스캔부에서 스캔한 버의 상부를 이동하면서 디버링 가공을 수행하는 전극; 을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
미세방전, 디버링, 스캔부, 전극, 정전용량 센서, 가공조건-
公开(公告)号：KR1020110042819A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：KR1020090099661
申请日：2009-10-20
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L21/027 , H01L21/268
CPC classification number: G03F1/70 , G03F1/42 , G03F1/78 , G03F7/12 , H01J37/3174
Abstract: PURPOSE: A stencil mask assembly, a beam irradiation device using the same, and a beam irradiation method thereof are provided to form various patterns stably even on the thin film using a plurality of mask units which can be combined or separated. CONSTITUTION: A plurality of mask units(10) are detachable. A micro actuator(20) is connected to the plurality of mask units, respectively. The plurality of mask units are combined or separated according to the driving of the micro actuators to form a beam transmitting area of a certain pattern. The contact surface where the plurality of mask units meshes with has the shape of line or curve.
Abstract translation: 目的：提供一种模板掩模组件，使用其的光束照射装置及其光束照射方法，以便使用可以组合或分离的多个掩模单元即使在薄膜上也能稳定地形成各种图案。 构成：多个掩模单元（10）可拆卸。 微致动器（20）分别连接到多个掩模单元。 多个掩模单元根据微型致动器的驱动而组合或分离，以形成某种图案的光束透射区域。 多个掩模单元啮合的接触表面具有线或曲线的形状。
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公开(公告)号：KR100995407B1
公开(公告)日：2010-11-18
申请号：KR1020080008794
申请日：2008-01-28
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , B82B3/00 , B82Y40/00
Abstract: 본 발명은 집속이온빔을 이용한 나노패턴 형성방법에 관한 것으로, 가공대상물의 표면에 레지스트층을 형성하는 레지스트형성단계; 집속이온빔을 상기 레지스트층이 형성된 가공대상물의 표면에 조사하여 밀링하는 이온빔가공단계; 및 상기 가공대상물의 표면에 잔존된 레지스트층을 제거하는 레지스트제거단계;를 포함하여 구성됨을 기술적 요지로 하여, 집속이온빔을 이용하여 나노패턴을 형성함에 있어서, 지정면적 내에 보다 조밀하게 패턴을 형성가능하면서도 균일한 사이즈와 일정한 간격으로 형성시킬 수 있는 집속이온빔을 이용한 나노패턴 형성방법에 관한 것이다.
집속이온빔 나노패턴 레지스트 오버랩-
公开(公告)号：KR100968004B1
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：KR1020080063772
申请日：2008-07-02
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L21/3065
Abstract: 본 발명은 다중개구를 이용한 집속 이온빔 가공장치, 그 보정방법 및 이를 이용한 가공방법에 관한 것으로, 이온소스부(100); 상기 이온소스부(100)에서 생성된 단일의 이온빔을 다수로 분리가능한 관통홀(200a)을 구비하여 상기 이온빔이 통과하는 경로상에 설치되는 다중빔생성개구부(200); 상기 다중빔생성개구부(200)의 관통홀(200a)을 통과하는 다수의 이온빔의 인출여부를 온오프제어하며 상기 다수의 이온빔의 방출 형태를 유동적으로 조정하는 다중빔점멸조정부(300); 및 상기 다중빔생성개구부(200) 및 다중빔점멸조정부(300)를 통과하여 생성된 상기 다수의 이온빔이 지정 형상과 각도로 가공대상물(10)의 가공면에 도달가능하도록 상기 다수의 이온빔을 집속시키는 다중빔집속부(400);를 포함하여 구성되는 것을 기술적 요지로 하여, 보다 신속한 가공속도로 미세 가공을 구현할 수 있는 다중개구를 이용한 집속 이온빔 가공장치, 그 보정방법 및 이를 이용한 가공방법에 관한 것이다.
집속이온, 이온빔, 다중개구, 관통홀, 점멸
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