나노 전해도금법을 이용한 수지상 구조의 구리 팁의형성방법 및 이를 이용한 탄소나노화이버 및탄소나노코일의 형성방법
    1.
    发明公开
    나노 전해도금법을 이용한 수지상 구조의 구리 팁의형성방법 및 이를 이용한 탄소나노화이버 및탄소나노코일의 형성방법 失效
    使用纳米电镀形成中间铜箔的方法和使用其制备碳纳米纤维和碳纳米微粒的方法

    公开(公告)号:KR1020070101882A

    公开(公告)日:2007-10-18

    申请号:KR1020060033169

    申请日:2006-04-12

    CPC classification number: C25D5/18 B82B3/0038 B82Y40/00 D01F9/12 D04H1/4242

    Abstract: A method for forming a copper tip is provided to produce a dendric copper tip having an excellent adhesion to an electrode substrate and high-density arrangement. A method for forming a copper tip includes the steps of: providing a negative electrode substrate(325) having a seed layer formed on the surface; dipping the negative electrode substrate and a metal positive electrode substrate(320) in an electroplating bath(300) filled with an electroplating solution(315) containing a copper electrolyte; and applying pulse voltage to the negative electrode substrate and the positive electrode substrate to form a dendric copper tip on the negative electrode substrate.

    Abstract translation: 提供了一种用于形成铜尖端的方法,以产生具有优异的与电极基板的密合性和高密度布置的树枝状铜端头。 一种形成铜尖端的方法包括以下步骤:提供在表面上形成有种子层的负极基底(325) 将负极基板和金属正极基板(320)浸渍在填充有含有铜电解质的电镀液(315)的电镀槽(300)中; 对负极基板和正极基板施加脉冲电压,在负极基板上形成树枝状的铜尖端。

    캡을 사용하여 균일하게 탄소나노 구조물로 성장된전자방출 팁의 형성방법
    2.
    发明公开
    캡을 사용하여 균일하게 탄소나노 구조물로 성장된전자방출 팁의 형성방법 失效
    通过CAP制造的碳纳米管生成电子发射器提示的方法

    公开(公告)号:KR1020080019347A

    公开(公告)日:2008-03-04

    申请号:KR1020060081522

    申请日:2006-08-28

    CPC classification number: H01J1/304 B82B1/00 B82Y40/00 H01J9/025

    Abstract: A method for forming an electron emitter tip is provided to obtain a uniform brightness from the electron emitter tip by growing carbon nano structures having the same growth lengths. A groove(110) is formed on a substrate. An electrode layer(120) is formed at a bottom of the groove on the substrate. A cap(130) is positioned on the substrate, on which an electrode layer is formed. A carbon nano structure is formed on the electrode layer inside the groove by using a CVD(Chemical Vapor Deposition) process. A photoresist film is applied on the substrate. The substrate with the photoresist film is diced to form the groove. The photoresist film is lifted off.

    Abstract translation: 提供形成电子发射极尖端的方法,以通过生长具有相同生长长度的碳纳米结构从电子发射极尖端获得均匀的亮度。 在基板上形成有槽(110)。 电极层(120)形成在基板上的凹槽的底部。 帽(130)位于基底上,在其上形成电极层。 通过使用CVD(化学气相沉积)工艺在凹槽内的电极层上形成碳纳米结构。 将光致抗蚀剂膜施加在基板上。 将具有光致抗蚀剂膜的基板切割以形成凹槽。 剥离光致抗蚀剂膜。

    나노 전해도금법을 이용한 수지상 구조의 구리 팁의형성방법 및 이를 이용한 탄소나노화이버 및탄소나노코일의 형성방법
    3.
    发明授权
    나노 전해도금법을 이용한 수지상 구조의 구리 팁의형성방법 및 이를 이용한 탄소나노화이버 및탄소나노코일의 형성방법 失效
    使用纳米电镀形成牙科铜尖的方法和使用其形成碳纳米纤维和碳纳米线的方法

    公开(公告)号:KR100804496B1

    公开(公告)日:2008-02-20

    申请号:KR1020060033169

    申请日:2006-04-12

    Abstract: 나노 전해도금법을 이용한 수지상 구조의 구리 팁 및 이를 이용한 탄소나노화이버와 탄소나노코일의 형성방법이 개시된다. 본 발명의 구리 팁의 형성방법은 표면에 구리 씨드층이 형성된 음극 기판을 금속 양극 기판와 함께 구리 전해액을 포함하는 도금액이 채워진 도금조에 담근다. 음극 기판 및 양극 기판에 펄스 전압을 인가하여 음극 기판 상에 수지상 구조를 갖는 구리 팁을 형성한다. 구리 전해액은 황산구리, 황산, 염산으로 구성되는 것이 바람직하며, 구리 팁의 소오스는 구리 전해액에 있는 구리 이온인 것을 특징으로 한다. 나노 전해도금법을 사용하여 마이크로 구리 팁을 형성하여, 이를 이용하여 탄소나노화이버 및 탄소나노코일을 형성하여 전계방출 디스플레이의 전자방출 팁 또는 전계방출 방식의 백라이트 광원으로 사용할 수 있으며, 그 밖에 표면적의 증가로 인한 방열소재, 복합재, 전자파 차폐 등 다양한 분야에서 적용될 수 있다.
    전해도금법, 구리 팁, 탄소나노화이버, 탄소나노코일, 수지상 구조

    캡을 사용하여 균일하게 탄소나노 구조물로 성장된전자방출 팁의 형성방법
    4.
    发明授权
    캡을 사용하여 균일하게 탄소나노 구조물로 성장된전자방출 팁의 형성방법 失效
    通过帽生长的碳纳米结构形成电子发射极尖的方法

    公开(公告)号:KR100821262B1

    公开(公告)日:2008-04-11

    申请号:KR1020060081522

    申请日:2006-08-28

    Abstract: 캡을 사용하여 균일하게 성장시킨 탄소나노 구조물의 전자방출 팁을 형성하는 방법이 개시된다. 본 발명의 전자방출 팁의 형성방법은 기판 표면에 그루부를 형성하고, 기판의 그루부의 바닥에 전극층을 형성한다. 그루부의 바닥에 전극층이 형성된 기판 상에 캡을 위치시킨 상태에서 그루부 내의 전극층 상에 화학기상증착법을 사용하여 탄소나노 구조물을 형성하고 캡을 제거한다. 균일한 성장길이를 갖는 탄소나노 구조물을 성장시켜 균일한 휘도를 가지며 장시간 사용할 수 있는 전자방출 팁을 갖는 전계방출소자를 형성할 수 있다.
    탄소나노 구조물, 전자방출, 디스플레이 장치, 광원, 글라스 캡

Patent Agency Ranking