Abstract:
Provided are a positive photosensitive resin composition including (A) a melamine phenol based compound including repeating units represented by chemical formula 1, (B) an alkali-soluble resin, (C) a photosensitive diazoquinone compound, and (D) a solvent; and a photosensitive resin film and a display device using the same. In chemical formula 1, each substituted group is defined as in the specification.
Abstract:
(A) 알칼리 가용성 수지, 가교제, 광산 발생제, 및 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물을 기판 상에 도포하는 단계; (B) 상기 도포된 포지티브형 감광성 수지 조성물을 건조한 후, 150℃ 내지 200℃에서 사전 가열하는 단계(Pre baking); (C) 상기 사전 가열 후 노광하는 단계; (D) 상기 노광 후 현상하는 단계; 및 (E) 상기 현상 후 경화하는 단계를 포함하는 감광성 수지막의 제조 방법, 및 상기 방법에 따라 제조된 감광성 수지막을 제공한다.
Abstract:
The present invention relates to a photosensitive resin composition for an insulation film of a display device, which comprises (A) alkali-soluble resin including a polybenzoxazole precursor, polyamic acid, polyimide, or a mixture thereof, (B) a photosensitive diazoquinone compound, (C) an ultraviolet ray absorber having a maximum absorption wavelength of 300-400 nm, and (D) a solvent; and to an insulation film and a display device using the photosensitive resin composition.
Abstract:
(A) 알칼리 가용성 수지; (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 제1 용해조절제; (D) 화학식 3으로 표시되는 화합물을 포함하는 제2 용해조절제; 및 (E) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물, 그리고 이를 이용한 감광성 수지막 및 표시 소자가 제공된다.
Abstract:
The present invention relates to a photosensitive resin composition for an insulating film of a display device comprising: (A) an alkali-soluble resin comprising a polybezoxazole precursor, a polyamic acid, a polyimide, or the combination of the same; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a phthalocyanine compound having a maximum absorption wavelength of 600-720 nm; and (D) a solvent, to an insulating film using the same, and to a display device.