Abstract:
(A) 알칼리 가용성 수지; (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 제1 용해조절제; (D) 화학식 3으로 표시되는 화합물을 포함하는 제2 용해조절제; 및 (E) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물, 그리고 이를 이용한 감광성 수지막 및 표시 소자가 제공된다.
Abstract:
The present invention relates to a photosensitive resin composition for an insulating film of a display device comprising: (A) an alkali-soluble resin comprising a polybezoxazole precursor, a polyamic acid, a polyimide, or the combination of the same; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a phthalocyanine compound having a maximum absorption wavelength of 600-720 nm; and (D) a solvent, to an insulating film using the same, and to a display device.
Abstract:
The present invention relates to a positive photosensitive resin composition which includes (A) an alkali-soluble resin, (B) a photosensitive diazoquinone compound, (C) a compound including at least one of compounds represented by chemical formula 1 -3, and (D) a solvent; and to an insulator film and a display device using the same. [Chemical formula 1][Chemical formula 2][Chemical formula 3] (In chemical formula 3, R^1 and R^2 are defined as in the specification.).
Abstract:
본 발명은 패키지의 휨 특성 및 내리플로성(reflow-resistant property)이 양호하며, 우수한 성형성을 가지는 반도체 봉지재용 에폭시 수지 조성물에 관한 것으로서, 에폭시 수지, 경화제, 비할로겐계 난연제 및 무기 충전제를 포함하여 이루어지는 에폭시 수지 조성물에 있어서, 에폭시 수지로서 분자 중에 비페닐 유도체를 포함하는 노볼락 구조의 페놀류 화합물과 4,4'-디히드록시 비페닐의 혼합물을 글리시딜 에테르화시켜 생성되는 변성 에폭시 수지 0.5 내지 15중량%; 경화제로서 다방향족 경화제와 다관능성 경화제의 혼합물 2 내지 10.5중량%; 무기 충전제로서 53㎛ 이상의 크기를 갖는 입자의 중량비가 0.3 중량% 이하이면서 구형화도가 0.85 이상인 구형실리카를 80 내지 93 중량%를 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다. 에폭시 수지, 비페닐 유도체, 노볼락 구조, 글리시딜 에테르화, 변성 에폭시 수지, 무기 충전제
Abstract:
본 발명은 반도체용 수지 조성물에 사용되며 할로겐 난연제를 함유하지 않고도 우수한 난연성을 가지며, 패키지의 휨 특성 및 내리플로성(reflow-resistance)이 양호한 반도체 봉지제용 에폭시 수지 조성물에 관한 것으로서, 에폭시 수지, 경화제, 비할로겐계 난연제 및 무기 충전재를 포함하여 이루어지는 에폭시 수지 조성물에 있어서, 에폭시 수지로서 분자 중에 비페닐 유도체를 포함하는 노볼락 구조의 페놀류 화합물과 4,4'-디히드록시 비페닐의 혼합물을 글리시딜 에테르화시켜 생성되는 변성 에폭시 수지 0.5 내지 15.0중량%; 경화제로서 다방향족 경화제와 다관능성 경화제의 혼합물 1 내지 15 중량%; 난연제로서 징크보레이트의 난연보조제 0.01 내지 1중량% 및 잔량으로서 무기 충전재를 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다. 에폭시 수지, 비페닐 유도체, 노볼락 구조, 글리시딜 에테르화, 변성 에폭시 수지, 비할로겐계 난연제, 무기 충전재
Abstract:
(A) 적어도 하나의 말단에 하기 화학식 1로 표시되는 관능기를 포함하는 알칼리 가용성 수지; (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 페놀 화합물; 및 (D) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 및 이를 포함하는 표시 소자에 관한 것이다. [화학식 1]
Abstract:
The present invention relates to a photosensitive resin composition for an insulation film of a display device, which comprises (A) alkali-soluble resin including a polybenzoxazole precursor, polyamic acid, polyimide, or a mixture thereof, (B) a photosensitive diazoquinone compound, (C) an ultraviolet ray absorber having a maximum absorption wavelength of 300-400 nm, and (D) a solvent; and to an insulation film and a display device using the photosensitive resin composition.