Abstract:
(A) 알칼리 가용성 수지; (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 제1 용해조절제; (D) 화학식 3으로 표시되는 화합물을 포함하는 제2 용해조절제; 및 (E) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물, 그리고 이를 이용한 감광성 수지막 및 표시 소자가 제공된다.
Abstract:
The present invention relates to a photosensitive resin composition for an insulating film of a display device comprising: (A) an alkali-soluble resin comprising a polybezoxazole precursor, a polyamic acid, a polyimide, or the combination of the same; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a phthalocyanine compound having a maximum absorption wavelength of 600-720 nm; and (D) a solvent, to an insulating film using the same, and to a display device.
Abstract:
The present invention relates to a positive photosensitive resin composition which includes (A) an alkali-soluble resin, (B) a photosensitive diazoquinone compound, (C) a compound including at least one of compounds represented by chemical formula 1 -3, and (D) a solvent; and to an insulator film and a display device using the same. [Chemical formula 1][Chemical formula 2][Chemical formula 3] (In chemical formula 3, R^1 and R^2 are defined as in the specification.).
Abstract:
Provided are a positive photosensitive resin composition including (A) a melamine phenol based compound including repeating units represented by chemical formula 1, (B) an alkali-soluble resin, (C) a photosensitive diazoquinone compound, and (D) a solvent; and a photosensitive resin film and a display device using the same. In chemical formula 1, each substituted group is defined as in the specification.
Abstract:
(A) 폴리벤조옥사졸 전구체, 폴리이미드 전구체 및 이들의 조합에서 선택되는 알칼리 가용성 수지, (B) 감광성 디아조퀴아논 화합물, (C) 페놀화합물, (D) 유기 염료 및 (E) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물을 제공하며, 상기 유기 염료(D)는 흡광 파장이 590 내지 700 nm인 적어도 하나의 적색 염료, 흡광 파장이 550 내지 590 nm인 적어도 하나의 황색 염료 및 흡광 파장이 450 내지 500 nm인 적어도 하나의 청색 염료이다.
Abstract:
PURPOSE: A positive photosensitive resin composition is provided to have an excellent light shielding without inhibiting the intrinsic physical property of an insulating layer by preventing the degradation of the insulation property, pattern development and residual removal rate. CONSTITUTION: A positive photosensitive resin composition comprises (A) alkali soluble resin selected from a polybenzoxazole precursor, a polyimide precursor and their combination; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a phenol compound; (D) organic dye; and (E) a solvent. The organic dye (D) includes at least one red dye with light absorption wavelengths of 590-700 nm, at least one yellow dye with light absorption wavelengths of 550-590 nm, and at least blue dye with light absorption wavelengths of 450-500 nm.
Abstract:
(A) 알칼리 가용성 수지, 가교제, 광산 발생제, 및 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물을 기판 상에 도포하는 단계; (B) 상기 도포된 포지티브형 감광성 수지 조성물을 건조한 후, 150℃ 내지 200℃에서 사전 가열하는 단계(Pre baking); (C) 상기 사전 가열 후 노광하는 단계; (D) 상기 노광 후 현상하는 단계; 및 (E) 상기 현상 후 경화하는 단계를 포함하는 감광성 수지막의 제조 방법, 및 상기 방법에 따라 제조된 감광성 수지막을 제공한다.