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公开(公告)号：KR1020080025412A
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：KR1020087002154
申请日：2006-06-23
Applicant: 코닝 인코포레이티드
CPC classification number: C03C3/06 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/54
Abstract: Disclosed in the application are a synthetic silica glass having low fluence-dependent transmission, particularly at about 193 nm, and a process for making the same. The glass may desirably exhibit a low level of fluorescence at 290 and 390 nm when activated at about 248 nm. The glass may desirably exhibit low level of LIWFD, [SiH*] and/or [ODC]. ® KIPO & WIPO 2008
Abstract translation: 在本申请中公开了具有低注射度依赖性透射率，特别是约193nm的合成二氧化硅玻璃及其制造方法。 当在约248nm激活时，该玻璃可期望地在290和390nm处表现出低水平的荧光。 玻璃可能期望显示低水平的LIWFD，[SiH *]和/或[ODC]。 ®KIPO＆WIPO 2008
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公开(公告)号：KR101363182B1
公开(公告)日：2014-02-13
申请号：KR1020087013869
申请日：2006-11-01
Applicant: 코닝 인코포레이티드
Inventor： 북바인더,다나,씨. , 피아코,리차드,엠. , 노이키르히,울리히
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/06 , C03B19/066 , C03B19/12 , C03B19/14 , C03B19/1453 , C03B20/00 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/08 , C03B2201/12 , C03B2201/22 , C03B2201/23 , C03B2201/32 , C03B2201/42 , C03C4/0085 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/22 , C03C2201/23
Abstract: 개시되는 내용은 약 300nm 미만의 파장에서 작동하는 리소그래피 장치의 리소그래피 조사의 광 경로에 사용될 수 있는 OD-도핑 합성 실리카 유리를 포함한다. OD-도핑된 합성 실리카 유리는 동등한 OH 농도를 갖는 비-OD-도핑된 실리카 유리에 비하여 현저히 낮은 편파-유발 복굴절을 갖는다는 것이 확인되었다. 또한 OD-도핑된 합성 실리카 유리를 제조하는 방법이 개시되며, 그러한 유리를 포함하는 광학 부재, 그러한 광학 부재를 포함하는 리소그래피 시스템이 개시된다. 상기유리는 특히, 약 193nm에서의 현저히 낮은 편파-유발 복굴절 값 때문에 이머젼 리소그래피 시스템에 적합하다.
리소그래피, 복굴절, 광학부재, 실리카 유리, 도핑-
公开(公告)号：KR101378280B1
公开(公告)日：2014-03-25
申请号：KR1020087002154
申请日：2006-06-23
Applicant: 코닝 인코포레이티드
Abstract: 본 출원에 기재된 것은 구체적으로는 약 193 nm에서의 저 플루언스 의존성 투과율을 갖는 합성 실리카 유리와, 이의 제조방법이다. 유리는 약 248 nm에서 활성화되었을 때 290 및 390 nm에서 낮은 형광 수준을 바람직하게 보일 수 있다. 유리는 바람직하게는 낮은 수준의 LIWFD, [SiH*] 및/또는 [ODC]를 보일 수 있다.
실리카 유리, 저 플루언스 의존성 투과율, OH 함량, 수소 로딩-
公开(公告)号：KR1020080065703A
公开(公告)日：2008-07-14
申请号：KR1020087013869
申请日：2006-11-01
Applicant: 코닝 인코포레이티드
Inventor： 북바인더,다나,씨. , 피아코,리차드,엠. , 노이키르히,울리히
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/06 , C03B19/066 , C03B19/12 , C03B19/14 , C03B19/1453 , C03B20/00 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/08 , C03B2201/12 , C03B2201/22 , C03B2201/23 , C03B2201/32 , C03B2201/42 , C03C4/0085 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/22 , C03C2201/23
Abstract: What is disclosed includes OD-doped synthetic silica glass capable of being used in optical elements for use in lithography below about 300 nm. OD-doped synthetic silica glass was found to have significantly lower polarization-induced birefringence value than non-OD-doped silica glass with comparable concentration of OH. Also disclosed are processes for making OD-dopes synthetic silica glasses, optical member comprising such glasses, and lithographic systems comprising such optical member. The glass is particularly suitable for immersion lithographic systems due to the exceptionally low polarization-induced birefringence values at about 193 nm.
Abstract translation: 公开的内容包括能够用于低于约300nm的光刻中的光学元件的OD掺杂合成石英玻璃。 发现OD掺杂的合成二氧化硅玻璃具有比具有相当浓度的OH的非OD掺杂的石英玻璃具有显着更低的偏振诱导双折射值。 还公开了制备OD-掺杂合成二氧化硅玻璃，包括这种玻璃的光学部件以及包括这种光学部件的光刻系统的方法。 由于在约193nm处极度低的偏振诱发双折射值，该玻璃特别适用于浸没式光刻系统。
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