Abstract:
프린트 배선 판 등의 피착체에 도전성 시트를 첩착하는 가열 프레스 공정에서, 도전층의 얼룩을 최소한으로 줄일 수 있는, 가공성이 양호한 도전성 시트 및 그 제조 방법 등을 제공한다. 본 발명의 도전성 시트는 열 경화성 수지(A)와 덴드라이트 모양 전도성 입자(B)를 적어도 포함하는 도전층을 구비한다. 도전층의 두께가 (i) 150℃, 2MPa, 30분간의 조건에서 가열 프레스 한 후의 두께가 가열 프레스 전의 해당 도전층의 두께를 100으로 했을 때에 30~95의 범위가 될 것, 및 (ii) 덴드라이트 모양 전도성 입자(B)의 평균 입자 지름 D 90 가 해당 도전층의 두께에 대해 0.5배 이상, 3배 이하의 범위가 될 것, 중 적어도 한쪽을 충족시키고, 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D 50 가 3㎛ 이상, 50㎛ 이하이며, 또한, 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 상기 도전층 중에 50중량% 이상, 90중량% 이하의 범위로 함유하는 것이다.
Abstract:
프린트 배선 판 등의 피착체에 도전성 시트를 첩착하는 가열 프레스 공정에서, 도전층의 얼룩을 최소한으로 줄일 수 있는, 가공성이 양호한 도전성 시트 및 그 제조 방법 등을 제공한다. 본 발명의 도전성 시트는 열 경화성 수지(A)와 덴드라이트 모양 전도성 입자(B)를 적어도 포함하는 도전층을 구비한다. 도전층의 두께가 (i) 150℃, 2MPa, 30분간의 조건에서 가열 프레스 한 후의 두께가 가열 프레스 전의 해당 도전층의 두께를 100으로 했을 때에 30~95의 범위가 될 것, 및 (ii) 덴드라이트 모양 전도성 입자(B)의 평균 입자 지름 D 90 가 해당 도전층의 두께에 대해 0.5배 이상, 3배 이하의 범위가 될 것, 중 적어도 한쪽을 충족시키고, 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D 50 가 3㎛ 이상, 50㎛ 이하이며, 또한, 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 상기 도전층 중에 50중량% 이상, 90중량% 이하의 범위로 함유하는 것이다.
Abstract:
본 발명은 보다 적은 사용량으로 종래와 같은 정도의 열 전도성을 부여할 수 있거나, 혹은 종래와 같은 정도의 사용량으로 더 높은 열 전도성을 부여할 수 있는, 열 전도성 부여 재료를 제공하고자 한다. 상기 과제는 평균 1차 입자 지름이 0.1~10㎛의 열 전도성 입자(A) 100질량부와, 유기 결착제(B) 0.1~30질량부를 포함하고, 평균 입자 지름이 2~100㎛, 압축 변형률 10%에 필요한 평균 압축력이 5mN이하인, 이 변형성 응집체(D)에 의해 해결할 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: An electromagnetic wave shielding film and a wiring board are provided to reduce the amount of conductive fillers using silver powder of a flake shape. CONSTITUTION: An electromagnetic wave shielding film includes an insulation layer and a conductive layer. An electromagnetic wave shield property at 1GHz is 40~90dB based on the KEC method. The conductive layer comprises silver powder of a flake shape. Diameters of 50% particles are between 1 and 20 micro meters wherein the 50% particles of the silver powder are measured by a laser diffraction method. Volume density of the silver powder is between 0.2g/cm^3 and 0.7g/cm^3. The silver powder has a 30 to 60 weight% to the entire weight part of the conductive layer. The thickness of the conductive layer is between 2 and 10 micro meters.
Abstract translation:目的:提供电磁波屏蔽膜和布线板以减少使用片状银粉的导电填料的量。 构成:电磁波屏蔽膜包括绝缘层和导电层。 基于KEC方法,1GHz的电磁波屏蔽性能为40〜90dB。 导电层包括片状银粉末。 50%颗粒的直径在1到20微米之间,其中银粉末的50%颗粒通过激光衍射法测量。 银粉的体积密度在0.2g / cm 3和0.7g / cm 3之间。 该银粉末与导电层的整个重量部分相比为30至60重量%。 导电层的厚度在2和10微米之间。