Abstract:
본 발명은 금속 구조체를 촉매 지지체로 사용하는 촉매 모듈에 있어서, 금속 구조체와 다공성 담체 간의 부착력을 견고하게 유지시키기 위하여 금속 구조체 표면에 요철 구조를 형성한 후 다공성 물질층 또는 담체층을 형성하는 방법 및 그로부터 제조된 촉매 모듈을 제공한다. 본 발명에서 금속 구조체 표면에 형성된 요철 구조는 열 변형 계수 차로 인하여 고온 환경에 반복하여 노출되었을 때 금속 구조체 표면으로부터 다공성 담체가 탈리되는 현상을 방지한다. 따라서, 본 발명에 의해 제조된 촉매 모듈은 고온의 사용 환경에서도 촉매 활성이 안정적으로 유지되는 장점을 갖는다.
Abstract:
본 발명은 금속 구조체를 촉매 지지체로 사용하는 촉매 모듈에 있어서, 금속 구조체와 다공성 담체 간의 부착력을 견고하게 유지시키기 위하여 금속 구조체 표면에 요철 구조를 형성한 후 다공성 물질층 또는 담체층을 형성하는 방법 및 그로부터 제조된 촉매 모듈을 제공한다. 본 발명에서 금속 구조체 표면에 형성된 요철 구조는 열 변형 계수 차로 인하여 고온 환경에 반복하여 노출되었을 때 금속 구조체 표면으로부터 다공성 담체가 탈리되는 현상을 방지한다. 따라서, 본 발명에 의해 제조된 촉매 모듈은 고온의 사용 환경에서도 촉매 활성이 안정적으로 유지되는 장점을 갖는다.
Abstract:
PURPOSE: A method for forming a porous carrier layer on the surface of a metal structure and a catalyst module manufactured from the same are provided to improve the adhesive of a metal structure and a porous carrier. CONSTITUTION: A method for forming a porous carrier layer on the surface of a metal structure includes the following steps: a concave-convex structure is formed on the surface of the metal structure; a porous material layer is formed on the surface of the metal structure with the concave-convex structure. Metal particles are coated on the surface of the metal structure in order to form the concave-convex structure on the metal structure. The metal structure is thermally treated at a temperature between 200 and 1200 deg C for 0.5 to 24 hours.
Abstract:
PURPOSE: A manufacturing method of nanoparticle complex catalyst by plasma ion implantation and a manufacturing method of the same are provided to increase the surface area of an catalyst due to the small size of catalytic components. CONSTITUTION: A manufacturing method of nanoparticle complex catalyst by plasma ion implantation includes the following steps: plasma ions of solid elements functioning as catalytic components are generated in a vacuum bath; and ionized catalytic components are injected into the surface of a porous carrier. When pulse is applied to a deposition source under low average power, pulse direct current power is applied to the deposition source to generate the plasma ions of the solid elements.
Abstract:
본 발명은 다공성 박막을 포함하는 센서의 제조방법에 관한 것으로서, 두 가지 이상의 원소를 포함하는 박막을 제조한 다음, 특정 원소를 선택적으로 제거함으로써 다공성 구조를 갖는 박막을 형성한 후 이를 센서의 작동전극 또는 작동전극과 보조전극으로 사용하는 센서의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법에 의하면 기존의 전해석출법에 의해 제조된 센서에 비해 제조공정이 비교적 간단하고, 다공성 박막의 기공 크기 조절이 용이하며 재현성 있는 감도를 갖는 센서의 제작이 가능하다. 또한, 우수한 성능을 갖는 센서의 대량 생산이 가능한 장점이 있다. 본 발명의 방법을 이용하여 혈당 농도를 측정하는 바이오센서 등을 제조할 수 있다.
Abstract:
The present invention relates to a method for manufacturing a porous thin film structure by selectively removing a specific element using a dry etching method after a thin film is formed using two or more elements and a porous thin film structure manufactured by the method. By composing the entire process for manufacturing a porous thin film structure of the dry process, the present invention can manage a process more convenient than a wet process, such as an electrodepositing method or a selective melting method, can reduce environmental pollution, and enables mass production. Also, the present invention easily controls porosity and maintains the constant porosity. Thus, the present invention can manufacture the mesoporous thin film structure having excellent reproducibility as a sensor.
Abstract:
본 발명은 다공성 담체에 고체 원소의 촉매 성분을 담지하는 방법에 있어서, 고체 원소의 플라즈마 이온을 발생시키고 플라즈마 이온 주입법에 의해 나노입자 복합체 촉매를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에서는 고체 원소의 플라즈마 이온을 발생시키기 위해 증착원에 펄스 직류 전압을 인가하고, 이에 동기화된 전압을 다공성 담체에 인가함으로써, 고체 원소에 순간적으로 가해진 펄스 고전압에 의해 이온화된 고체 원소가 다공성 담체 쪽으로 가속되어 이온 주입되도록 하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 작은 사이즈의 촉매 성분 입자를 담지할 수 있어 적은 양의 촉매 성분으로도 동일 또는 향상된 촉매 성능을 나타내는 나노입자 복합체 촉매를 제조할 수 있다. 또한, 촉매 입자와 담체와의 결합력이 향상되어 촉매 사용에 의해 성능이 열화되거나 촉매 수명이 다하는 현상을 방지함으로써 장시간 사용할 수 있는 촉매의 제조가 가능하다.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a porous thin film structure using a dry process, and the porous thin film structure manufactured by the same are provided to maintain a constant porosity, thereby reproducing the sensitivities of sensors manufactured by the structure. CONSTITUTION: A method for manufacturing a porous thin film structure using a dry process comprises: a step of simultaneously depositing at least two elements, which have a different reactivity on a certain reactive gas from each other, in order to form an alloy thin film; and a step of manufacturing a porous thin film by selectively removing one element having a larger reactivity than the reactivity of the other from the alloy thin film. In the step of forming the alloy thin film, the alloy thin film is formed with the elements by sputter deposition. The alloy thin film includes at least two kinds of elements selected from a group of Pt, Pd, Ru, Rh, Ag, Au, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Si, As, Ge, Os, Re, Te, Ir, Al, B, C, O, N, P, Ti, V, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta, and W. In the step of manufacturing the porous thin film, the element selectively removed is at least one kind selected from a group of Si, As, Ge, Os, Re, Te, Ir, Al, B, C, O, N, P, Cu, Cr, Ti, V, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta, and W.
Abstract:
PURPOSE: A method for sensor including a porous membrane and a sensor manufactured by the same are provided to regulate the thickness and the porosity of the membrane, thereby controlling the sensitivity of the sensor with easily method. CONSTITUTION: A method for sensor including a porous membrane comprises; a step for forming the porous membrane by depositing two or more elements; and a step for manufacturing the porous membrane by selectively removing the elements from the membrane.