나노다공성 그래핀 막의 제조 방법

    公开(公告)号:KR20180059135A

    公开(公告)日:2018-06-04

    申请号:KR20160158342

    申请日:2016-11-25

    Abstract: 본발명의일 측면은반응기내를포함한산화가가능한임의의장소에다층그래핀(multilayer graphene)을배치하는제1 단계, 다층그래핀의표면을산화양을줄여무작위모양의분산된형태로산화시키는제2 단계, 상기의분산되어산화된부분들의탄소원자들을환원식각(reductive etching)하는제3 단계, 상기의다층그래핀을관통하는나노기공이형성될때까지상기일련의제2과제3 단계를반복수행하는제4 단계를포함하는나노다공성다층그래핀막의제조방법을제공하는것이다.

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