Abstract:
본 발명은 공중합체의 단위로서 N-캠퍼술폰일옥시말레이미드와 말레이미드계 화합물, 스티렌계 화합물, 및 메타크릴산에스테르계 화합물 중에서 선택된 한가지 또는 두가지를 교대 구조로 가진 공중합체 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 공중합체는 양호한 필름 형성능과 낮은 광흡수율을 나타내며 레지스트 응용에 매우 적절한 고분자이다.
Abstract:
본 발명은 공중합체의 단위로서 N-캠퍼술폰일옥시말레이미드와 말레이미드계 화합물, 스티렌계 화합물, 및 메타크릴산에스테르계 화합물 중에서 선택된 한가지 또는 두가지를 교대 구조로 가진 공중합체 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 공중합체는 양호한 필름 형성능과 낮은 광흡수율을 나타내며 레지스트 응용에 매우 적절한 고분자이다.
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NP-톨루엔술폰일옥시말레이미드(TsOMI), N-메탄술폰일옥시말레이미드(MsOMI), N-트리플로로메탄술폰일옥시말레이미드(TfOMI) 중에서 선택한 광산 발생형 단량체 X-OMI와 Nt-부틸옥시카보닐말레이미드(t-BOCMI), 말레이미드(MI), N-히드록시말레이미드(HOMI) 중에서 선택한 말레이미드 단량체 Y-MI와 스티렌(St), 히드록시스티렌(HOSt), t-부틸옥시카보닐옥시스티렌(t-BOCSt) 중에서 선택한 스티렌 유도체(Z-St)를 라디칼공중합시켜 X-OMI:Y-MI:Z-St=0.7∼1.5:0.7∼1.5:1.5∼2.5 (몰%)의 조성을 가진 N-치환된 술폰일옥시말레이미드 단량체를 이용한 삼원공중합체 P(X-OMI/Y-MI/Z-St)의 제조방법 및 이를 이용한 내열성 레지스트 화상형성방법.
Abstract:
The present invention relates a new photo initiator compound and a sensitive polymer composition having the new photo initiator compound which a benzoin alkyl ether is combined with an epoxy phlepolymer or acryl acid ester phlepolymer. The photo initiator compound according to the present invention has a good storing stability. The photo initiator compound may be easily reacted with other components of a photo hardening composition to thereby improve a photo reactive performance. The photo initiator compound improves mechanical features of the photo hardening composition. The photo initiator compound may solve problems such as a poisonous feature, a bad smell, and a color breakdown.