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公开(公告)号：WO2022197121A1
公开(公告)日：2022-09-22
申请号：PCT/KR2022/003755
申请日：2022-03-17
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 고유 특성을 갖는 물리적 복제 방지(Physical Unclonable Function)용 디바이스에 관한 것으로, 본 발명에 따른 물리적 복제 방지용 디바이스는 자기조립 구조에 대응하는 나노 패턴을 포함을 포함한다. 본 발명에 따른 물리적 복제 방지용 디바이스는 비결정론적(non-deterministic) 특성을 갖는 블록공중합체 자발적 상 분리 거동에 의해 형성되는 자기조립 구조에 근간한 PUF 패턴을 가짐에 따라, 복제 불가능한 고유 특성을 가질 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020120092261A
公开(公告)日：2012-08-21
申请号：KR1020110012189
申请日：2011-02-11
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C08J5/18 , C08J7/04 , C08F293/00 , B82B3/00
Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a block copolymer film is provided to manufacture a block copolymer film in which a nano area is arranged to be perpendicular to a surface even on a non-flat substrate, because of mechanical flexibility and elongation, etc which are inherent properties of a graphene film. CONSTITUTION: A manufacturing method of a block copolymer film comprises: a step of laminating the graphene oxide film on a substrate; a step of manufacturing a graphene film by reducing the laminated graphene oxide film; a step of laminating a block copolymer on the graphene film, and self-assembling the block copolymer. The lamination of the graphene oxide film is conducted by spin-casting the graphene oxide solution on the substrate. The reduction of the graphene oxide film is conducted by heat treatment or chemical treatment.
Abstract translation: 目的：提供嵌段共聚物膜的制造方法，其制造嵌段共聚物膜，其中纳米区域即使在非平坦基材上也垂直于表面，因为机械柔性和伸长率等是固有的 石墨烯膜的性质。 构成：嵌段共聚物膜的制造方法包括：将石墨烯氧化膜层压在基板上的工序; 通过还原层压石墨烯氧化膜来制造石墨烯膜的步骤; 在石墨烯膜上层压嵌段共聚物的步骤，并自组装嵌段共聚物。 通过将石墨烯氧化物溶液旋涂在基材上来进行氧化石墨烯氧化膜的层压。 通过热处理或化学处理进行氧化石墨烯氧化膜的还原。
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3.发明授权블록공중합체의 나노구조와 일치하지 않는 형태의 표면패턴상에 형성되는 블록공중합체의 나노구조체 및 그 제조방법 有权在不符合嵌段共聚物纳米结构的表面图案上形成的嵌段共聚物纳米复合材料及其制备方法
公开(公告)号：KR100930966B1
公开(公告)日：2009-12-10
申请号：KR1020070093708
申请日：2007-09-14
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: B05D5/00 , B05D1/185 , B05D3/0254 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , Y10S977/773 , Y10T428/1352 , Y10T428/29 , Y10T428/2913 , Y10T428/298 , Y10T428/2982
Abstract: 본 발명은 블록공중합체의 나노구조와 일치하지 않는 형태의 표면패턴상에 형성되는 블록공중합체의 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로, 블록공중합체의 주기와 일치하지 않는 주기를 가지는 패턴으로 패턴화된 기판에서 상에 블록공중합체 박막을 형성한 뒤 열처리하여 제조한 블록공중합체의 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 패턴화된 기판상에서 블록공중합체의 나노구조체를 제조하되, 패턴의 주기를 블록공중합체의 주기와 일치시키는 과정을 거치지 않는 간소화된 공정으로 나노구조체를 제조할 수 있고, 블록공중합체의 각 블록의 상대적인 조성비 및 분율에 따라 또는 패턴의 주기에 따라 다양한 구조의 나노구조체를 구현할 수 있으며, 나노구조체의 정렬도를 임의로 제어할 수 있어, 나노와이어, 나노닷 어레이와 같은 나노스케일의 구조를 용이하게 제작할 수 있고, 다양한 용도로 실제 산업에 응용할 수 있다.
패턴, 자기조립, 블록 공중합체, 나노구조Abstract translation: 公开了在与嵌段共聚物的纳米结构不同的表面图案上形成的嵌段共聚物纳米结构及其制备方法。
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4.发明授权2차원 전사층 및 블록공중합체를 이용한 나노구조체 제조방법, 이에 의하여 제조된 나노구조체 및 그 응용소자 有权使用二维转印层制造纳米结构的方法，由其制造的纳米结构以及包含该纳米结构的涂布装置
公开(公告)号：KR101356010B1
公开(公告)日：2014-01-28
申请号：KR1020120061923
申请日：2012-06-11
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 2차원 전사층을 이용한 나노구조체 제조방법으로, 기판상에 2차원 전사층을 적층하는 단계; 상기 적층된 2차원 전사층상에 주형 필름을 적층한 후, 이를 패터닝하여 나노주형을 제조하는 단계; 및 상기 형성된 나노주형에 나노물질을 적층하여, 나노구조체를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노구조체 제조방법이 제공된다.
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公开(公告)号：KR1020100068014A
公开(公告)日：2010-06-22
申请号：KR1020080126655
申请日：2008-12-12
Abstract: PURPOSE: A nanostructure of block copolymer having patterned structure is provided to control organic photo resister pattern and to manufacture the nanostructure of desired form. CONSTITUTION: A method for manufacturing a nanostructure of block copolymer using an organic photoresist pattern comprises: a step of forming neutral layer on a substrate; a step of forming the organic photoresist pattern using lithography; a step of forming block copolymer thin film on the patterned substrate; and a step of performing thermal treatment on the block copolymer to form a self-assembled nanostructure.
Abstract translation: 目的：提供具有图案结构的嵌段共聚物的纳米结构以控制有机光电阻图案并制造所需形式的纳米结构。 构成：使用有机光致抗蚀剂图案制造嵌段共聚物的纳米结构的方法包括：在基材上形成中性层的步骤; 使用光刻形成有机光致抗蚀剂图案的步骤; 在图案化衬底上形成嵌段共聚物薄膜的步骤; 以及对所述嵌段共聚物进行热处理以形成自组装纳米结构的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020170054672A
公开(公告)日：2017-05-18
申请号：KR1020150157104
申请日：2015-11-10
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C08J7/00 , C08F297/08 , H01L29/06
Abstract: 본발명은 a) 블록공중합체와결점용융제를혼합하여혼합물을제조하는단계; b) 상기혼합물을기판상에도포하여박막을형성하는단계; 및 c) 상기박막을어닐링하여자기조립하는단계;를포함하는결점용융을이용한자기조립나노패턴형성방법으로상기결점은χN이 10.5 이하인결점용융을이용한자기조립나노패턴형성방법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明提供了一种制备嵌段共聚物的方法，该方法包括：a）将嵌段共聚物和缺陷熔体混合以制备混合物; b）将该混合物施加到基底上以形成薄膜; 和c）退火和自组装薄膜。缺陷是使用χN为10.5或更小的缺陷熔化的自组装纳米图案形成方法。
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7.发明公开혼합 블록공중합체 박막 제조방법, 혼합 블록공중합체 주형 제조방법 및 이에 의하여 제조된 혼합 블록공중합체 박막 및 주형 有权用于制造包含混合嵌段共聚物的薄膜的方法，制备包含混合嵌段共聚物的薄膜的方法，以及薄膜和模板混合嵌段共聚物
公开(公告)号：KR1020130138399A
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：KR1020120061924
申请日：2012-06-11
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C08J5/18 , C08L53/00 , C08F297/08 , B32B15/08
CPC classification number: G03F7/0002
Abstract: A method for manufacturing a mixed block copolymer thin film, a method for manufacturing a mixed block copolymer template, and the mixed block copolymer thin film and template manufactured thereby are provided. The method for manufacturing a mixed block copolymer thin film according to the present invention comprises: a step for making mixed liquid by mixing a first block copolymer which is self-assembled with high molecular weight and long length of chain and a second block copolymer which is symmetric and which has lower molecular weight and shorter length than the first block copolymer low molecular weight; a step of forming a block copolymer thin film by laminating the mixed liquid; and a step for self-assembling by heat treating the block copolymer thin film. [Reference numerals] (AA) Existing technique;(BB) Present invention
Abstract translation: 提供混合嵌段共聚物薄膜的制造方法，混合嵌段共聚物模板的制造方法以及由此制造的混合嵌段共聚物薄膜和模板。 根据本发明的制备混合嵌段共聚物薄膜的方法包括：通过混合自组装的高分子量和长链长度的第一嵌段共聚物和第二嵌段共聚物来制备混合液的步骤， 对称且具有比第一嵌段共聚物低分子量更低的分子量和更短的长度; 通过层压混合液形成嵌段共聚物薄膜的步骤; 以及通过热处理嵌段共聚物薄膜进行自组装的步骤。 （附图标记）（AA）现有技术;（BB）本发明
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公开(公告)号：KR1020100080336A
公开(公告)日：2010-07-08
申请号：KR1020090101137
申请日：2009-10-23
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사 , 한국과학기술원
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G03F7/004 , G03F7/168
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a nanostructure is provided to easily form the nanostructure which is successively arranged on a substrate using a block copolymer and to improve the productivity of the nanostructure and a polarizing plate. CONSTITUTION: A method for manufacturing a nanostructure comprises the following steps: forming a photoresist pattern on a substrate(110) including a neutral layer; forming a sacrificial structure including a first sacrificial block and a second sacrificial block using a first thin film including a first block copolymer; eliminating the first sacrificial block from the sacrificial structure; forming a chemical pattern(122) by oxidizing the neutral layer using the second sacrificial block as a mask; removing the second sacrificial block and the photoresist pattern from the substrate including the chemical pattern; and forming the nanostructure which is extensively arranged on the substrate using a second thin film including the second block copolymer.
Abstract translation: 目的：提供一种制造纳米结构体的方法，以容易地形成纳米结构，其使用嵌段共聚物连续排列在基板上，并提高纳米结构和偏振片的生产率。 构成：制造纳米结构的方法包括以下步骤：在包括中性层的基底（110）上形成光刻胶图案; 使用包括第一嵌段共聚物的第一薄膜形成包括第一牺牲块和第二牺牲块的牺牲结构; 从牺牲结构中消除第一牺牲块; 通过使用第二牺牲块作为掩模来氧化中性层来形成化学图案（122）; 从包括所述化学图案的所述衬底去除所述第二牺牲块和所述光致抗蚀剂图案; 以及使用包括第二嵌段共聚物的第二薄膜，形成广泛布置在基板上的纳米结构。
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公开(公告)号：KR100885666B1
公开(公告)日：2009-02-25
申请号：KR1020070051020
申请日：2007-05-25
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: B82Y30/00 , B81C1/00031 , B81C99/009 , B81C2201/0149 , C09D153/00
Abstract: 본 발명은 블록공중합체의 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, (a) 산화물 기판을 형성하는 단계, (b) 상기 산화물 표면에 블록공중합체 박막을 형성시키는 단계 및 (c) 상기 블록공중합체를 열처리하여 자기조립 나노구조체를 형성시키는 단계를 포함하는, 블록공중합체의 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르며, 다양한 종류의 산화물 기판 상에 블록공중합체 나노구조를 포함하는 나노구조체를 제공하는 효과가 있으며, 나노구조체 제조시에 사용된 블록공중합체를 구성하는 각 블록의 상대적인 조성비에 따라 블록공중합체의 자기조립 나노구조의 형태가 달라지므로, 이렇게 여러가지 형태로 나타내는 나노구조를 이용하여 다양한 용도로 상기 나노구조체를 용이하게 활용할 수 있다.
산화물, 전도성 산화물, 유기단분자, 고분자, 블록공중합체-
公开(公告)号：KR101821969B1
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：KR1020150157104
申请日：2015-11-10
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C08J7/00 , C08F297/08 , H01L29/06
Abstract: 본발명은 a) 블록공중합체와결점용융제를혼합하여혼합물을제조하는단계; b) 상기혼합물을기판상에도포하여박막을형성하는단계; 및 c) 상기박막을어닐링하여자기조립하는단계;를포함하는결점용융을이용한자기조립나노패턴형성방법으로상기결점은χN이 10.5 이하인결점용융을이용한자기조립나노패턴형성방법에관한것이다.
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