KR102233101B1 - Oxide manufaturing device and oxide manufaturing method using the same

    公开(公告)号:KR102233101B1

    公开(公告)日:2021-03-29

    申请号:KR1020150186160A

    申请日:2015-12-24

    CPC classification number: C01B32/23 B01J8/008 C01B13/11

    Abstract: 단시간에 친환경적으로 산화 그래핀을 제조할 수 있는 산화 그래핀 제조장치 및 산화그라파이트 제조방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 산화그라파이트 제조장치는 제1직경의 제1원통부, 제1직경보다 큰 제2직경을 갖고, 제1원통부와 회전중심이 동일한 제2원통부, 제1원통부와 제2원통부 사이에, 제1원통부의 회전에 의하여 전단응력이 부여될 대상인 그라파이트를 투입하기 위한 그라파이트 투입구, 그라파이트를 산화시키는 산화제를 투입하기 위한 산화제 투입구 및 산화제로 산화된 산화그라파이트가 배출되는 산화그라파이트 배출구;를 포함한다.

    그래핀을 포함하는 그래핀-금속복합 펠리클 및 그의 제조방법

    公开(公告)号:WO2021194032A1

    公开(公告)日:2021-09-30

    申请号:PCT/KR2020/014458

    申请日:2020-10-22

    Abstract: 열부하 안전성, 높은 EUV 투과율, 우수한 화학적 내구성 및 기계적 특성을 갖는 그래핀을 포함하는 그래핀-금속복합 펠리클 및 그의 제조방법이 제안된다. 본 발명에 따른 그래핀을 포함하는 그래핀-금속복합 펠리클 제조방법은 실리콘기판 상에 금속촉매층을 형성하는 단계; 금속촉매층 상에 그래핀을 성장시켜 코어층을 형성하는 단계; 코어층 상에 제1보호층을 형성하는 단계; 제1보호층 상에 방열층을 형성하는 단계; 및 실리콘기판 측에서 금속촉매층까지 식각하여 코어층을 노출시켜, 실리콘기판-금속촉매층으로 구성된 펠리클프레임을 형성하는 단계;를 포함한다.

    샤워 헤드 및 그를 포함하는 박막 증착 장치

    公开(公告)号:WO2022114583A1

    公开(公告)日:2022-06-02

    申请号:PCT/KR2021/015892

    申请日:2021-11-04

    Inventor: 김형근

    Abstract: 본 발명은 기판에 균일하게 가스를 분사하여 박막을 증착하는 샤워 헤드 및 그를 포함하는 박막 증착 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 샤워 헤드는 제1 샤워 헤드와 제2 샤워 헤드를 포함한다. 제1 샤워 헤드는 가스 공급관으로 공급되는 가스를 분산하여 아래로 분사하는 복수의 제1 분사 노즐이 방사형으로 형성되어 있다. 그리고 제2 샤워 헤드는 제1 샤워 헤드의 아래에 설치되며 제1 샤워 헤드 보다 큰 분사면을 가지며, 제1 샤워 헤드로부터 공급된 가스를 분산하여 아래에 위치하는 기판 위로 분사하는 복수의 제2 분사 노즐이 방사형으로 형성된다.

    산화그라파이트 제조장치 및 산화그라파이트 제조방법

    公开(公告)号:KR102233101B1

    公开(公告)日:2021-03-29

    申请号:KR1020150186160

    申请日:2015-12-24

    Abstract: 단시간에친환경적으로산화그래핀을제조할수 있는산화그래핀제조장치및 산화그라파이트제조방법이개시된다. 본발명의일 실시예에따른산화그라파이트제조장치는제1직경의제1원통부, 제1직경보다큰 제2직경을갖고, 제1원통부와회전중심이동일한제2원통부, 제1원통부와제2원통부사이에, 제1원통부의회전에의하여전단응력이부여될대상인그라파이트를투입하기위한그라파이트투입구, 그라파이트를산화시키는산화제를투입하기위한산화제투입구및 산화제로산화된산화그라파이트가배출되는산화그라파이트배출구;를포함한다.

Patent Agency Ranking