公开(公告)号：KR100198812B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960035934

申请日：1996-08-28

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 전영진 ,  정진만 ,  최상수 ,  김보우 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 마스크 패턴(mask pattern)에 X-선을 노광(exposure)시켜, 그 마스크 패턴에 해당하는 형상(image)을 웨이퍼(wafer) 위에 전사(transfer)할 때 사용하는 X-선 마스크(X-ray mask)에 관한 것으로서, X-선 마스크 구성 요서의 하나인 지지링(support ring)의 구조를 개선한 것이다.
즉, 본 발명은 지지링의 기계적 강도(mechanical strength)를 향상시키고, 마스크 기판(mask subtrate)과 지지 링간의 열팽창계수(coefficient of thermal expansion)의 차이에 의한 마스크의 열적 변형(thermal distortion)을 최소화 하기 위해, 상기 지지링의 단면 구조를 종래의 단순 사각형 형태로부터 다각형이나 삼각형, 원형 등의 새로운 형태로 변경하거나, 보강용 홈(trench) 또는 보강용 빔(beam)을 종래의 지지 링에 추가한 새로운 구조의 지지 링을 사용하는 X-선 마스크에 관한 것이다. 본 발명은 상기의 X-선 마스크는 물론 전자빔 셀 투사용 리소그래피(electron-beam cell projection lithography)용 마스크 및 이온 빔 리소그래피(ion-beam lithography)용 마스크에도 응용할 수 있다.

公开(公告)号：KR101671991B1

公开(公告)日：2016-11-04

申请号：KR1020100055916

申请日：2010-06-14

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 곽지영 ,  송준근 ,  우덕균 ,  마평수 ,  정진만 ,  이상호 ,  홍지만 ,  조유근

IPC: G06F9/455 ,  H04L29/08 ,  H04W4/00

Abstract: 가상프로토콜스택인터페이스기반의시뮬레이터가제공된다. 시뮬레이터는, 다수의프로토콜각각을컴포넌트형태로관리하는컴포넌트설정부, 다수의프로토콜각각을공유할수 있도록관리하는세션관리부및 세션의동작또는오브젝트의메모리유효성을검사하여다수의프로토콜이페일되는것을방지하는래퍼를포함한다.

Abstract translation: 目的：提供基于虚拟协议栈接口的模拟器，通过使用插件方法动态加载模拟器来有效地管理协议。 构成：仿真引擎连接单元（210）包括API（应用编程接口），以便与模拟器引擎互锁。 组件建立单元（220）将协议栈的协议管理为组件类型。 会话管理单元（230）通过共享协议来提供模拟器引擎的高可扩展性。 封装（240）通过监视协议来防止协议的故障。

公开(公告)号：KR1019980016375A

公开(公告)日：1998-05-25

申请号：KR1019960035934

申请日：1996-08-28

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 전영진 ,  정진만 ,  최상수 ,  김보우 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 마스트 패턴(mask pattern)에 X-선을 노광(exposure)시켜, 그 마스트 패턴에 해당하는 형상(image)을 웨이퍼(wafer)위에 전사(transfer) 할 때 사용하는 X-선 마스크(X-ray mask)에 관한 것으로서, X-선 마스크 구성 요소의 하나인 지지 링(support ring)의 구조를 개선한 것이다.
즉, 본 발명은 지지 링의 기계적 강도(mechanical strength)를 향상시키고, 마스크 기판(mask substrate)과 지지 링 간의 열팽창계수(coefficient of thermal expansion)차이에 의한 마스크의 열적 변형(thermal distortion)을 최소화 하기 위해, 상기 지지 링의 단면 구조를 종래의 단순 사각형 형태로부터 다각형이나 삼각형, 원형 등의 새로운 형태로 변경하거나, 보강용 홈(trench) 또는 보강용 빔(beam)을 종래의 지지 링에 추가한 새로운 구조의 지지 링을 사용하는 X-선 마스크에 관한 것이다. 본 발명은 상기의 X-선 마스크는 물론 전자빔 셀 투사용 리소그래피(electron-beam cell projection lithography)용 마스크 및 이온 빔 리소그래피(ion-beam lithography)용 마스크에도 응용할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980015311A

公开(公告)日：1998-05-25

申请号：KR1019960034589

申请日：1996-08-21

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 전영진 ,  정진만 ,  최상수 ,  김보우 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 마스크(mask) 패턴(pattern)에 X-선을 노광(exposure)시켜 그 마스크 패턴에 해당하는 형상(image)을 웨이퍼(wafer) 위에 전사(transfer) 할 때 사용하는 X-선 마스크(X-ray mask)에 관한 것이다.
즉, 마스크 기판(mask substrate)과 지지링 (support ring)과의 열팽창 계수(coefficient of thermal expansion) 차이에 의한 마스크의 열적 변형(thermal distortion)을 근본적으로 제거하고, 외부의 기계적 스트레스(mechanical stress)에 대한 지지 링의 저항(resistance)능력을 향상시키기 위해 지지 링의 이면(the other side)에 마스크 기판과 동일한 재료로 구성되고, 마스크 기판과 동일한 공정 과정을 거친 변형 방지용 보조기판(supporting substrate to protect distortion)을 추가로 부착하여 구성한 X-선 마스크에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1020110136116A

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：KR1020100055916

申请日：2010-06-14

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 곽지영 ,  송준근 ,  우덕균 ,  마평수 ,  정진만 ,  이상호 ,  홍지만 ,  조유근

IPC: G06F9/455 ,  H04L29/08 ,  H04W4/00

CPC classification number: G06F9/455 ,  H04L29/08558 ,  H04W4/70 ,  Y02D70/00

Abstract: PURPOSE: A simulator based on virtual protocol stack interface is provided to effectively mange a protocol by dynamically loading the simulator using a plug-in method. CONSTITUTION: A simulation engine connection unit(210) includes API(Application Programming Interface) in order to interlock with a simulator engine. A component establishment unit(220) manages protocols of protocol stack as a component type. A session management unit(230) provides the high extendability of the simulator engine by sharing the protocols. A wrapper(240) prevent the failure of the protocols by monitoring the protocols.

Abstract translation: 目的：提供基于虚拟协议栈接口的模拟器，通过使用插件方法动态加载模拟器来有效地管理协议。 构成：仿真引擎连接单元（210）包括API（应用编程接口），以便与模拟器引擎互锁。 组件建立单元（220）将协议栈的协议管理为组件类型。 会话管理单元（230）通过共享协议来提供模拟器引擎的高可扩展性。 封装（240）通过监视协议来防止协议的故障。

公开(公告)号：KR100223023B1

公开(公告)日：1999-10-01

申请号：KR1019960034589

申请日：1996-08-21

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 전영진 ,  정진만 ,  최상수 ,  김보우 ,  유형준

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F1/22 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70866 ,  G21K5/08

Abstract: 본 발명은 마스크(mask) 패턴(pattern)에 X-선을 노광(exposure)시켜 그 마스크 패턴에 해당하는 형상(image)을 웨이퍼(wafer) 위에 전사(transfer)할 때 사용하는 X-선 마스크(X-ray mask)에 관한 것이다.
즉, 마스크 기판(mask substrate)과 지지 링(support ring)과의 열팽창 계수(coefficient of thermal expansion) 차이에 의한 마스크의 열적 변형(thermal distortion)을 근본적으로 제거하고, 외부의 기계적 스트레스(mechanical stress)에 대한 지지링의 저항(resistance) 능력을 향상시키기 위해 지지링의 이면(the other side)에 마스크 기판과 동일한 재료로 구성되고, 마스크 기판과 동일한 공정 과정을 거친 변형 방지용 보조기판(supporting substrate to protect distortion)을 추가로 부착하여 구성한 X-선 마스크에 관한 것이다.