플라즈마 발생 장치
    2.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2018128339A1

    公开(公告)日:2018-07-12

    申请号:PCT/KR2018/000008

    申请日:2018-01-02

    Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 플라즈마 발생부를 포함한다. 상기 플라즈마 발생부는, 구형 또는 타원체형의 케비티를 구비한다. 상기 플라즈마 발생부는 상기 케비티에 RF 전력을 공급받아 전자가 되튐공진하여 플라즈마를 생성한다. 상기 케비티는 외부 공간과 서로 연통되도록 플라즈마 추출 홀을 포함한다.

    반도체 양자점의 생성과 크기 제어 방법 및 시스템

    公开(公告)号:WO2022114473A1

    公开(公告)日:2022-06-02

    申请号:PCT/KR2021/012384

    申请日:2021-09-11

    Abstract: 본 발명의 반도체 양자점의 생성 방법에 관한 것으로서, 기판 상부에 비정질 반도체 박막을 증착하는 단계; 상기 비정질 반도체 박막 상부에 플라즈마를 형성하고 이로부터 상기 비정질 반도체 박막에 이온 에너지를 전달하여 결정질 나노입자를 생성하는 단계; 상기 비정질 반도체 박막과 상기 결정질 나노입자에 이온 에너지를 더 전달하여 상기 결정질 나노입자를 성장시키는 단계; 상기 결정질 나노입자가 성장하여 양자점이 생성되는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

    컷오프 프로브를 이용한 정자기장 측정 방법

    公开(公告)号:KR101916702B1

    公开(公告)日:2018-11-09

    申请号:KR1020170140397

    申请日:2017-10-26

    Abstract: 본발명의외부정자기장측정장치및 측정방법을제공한다. 이외부정자기장측정방법은, 외부정자기장하에서플라즈마내부에서상기외부정자기장과나란히연장되는한 쌍의제1 방사안테나와제1 수신안테나를구비하는제1 컷오프프로브를삽입하는단계; 상기제1 컷오프프로브를회전시키어플라즈마공명주파수가최대가되는제1 각도를결정하는단계; 외부정자기장하에서플라즈마내부에서상기외부정자기장에수직하게연장되는한 쌍의제2 방사안테나와제2 수신안테나를구비한제2 컷오프프로브를삽입하는단계; 상기제2 컷오프프로브를회전시키어플라즈마공명주파수가최소가되는제2 각도를결정하는단계; 및상기제1 각도에서측정된제1 플라즈마공명주파수와상기제2 각도에서측정된제2 플라즈마공명주파수를이용하여상기외부정자기장의세기를산출하는단계를포함한다.

    플라즈마 활성종 발생 장치

    公开(公告)号:KR101916029B1

    公开(公告)日:2018-11-07

    申请号:KR1020170112556

    申请日:2017-09-04

    Abstract: 본발명은플라즈마활성종발생장치에관한것으로, RF 전력공급부, 가스공급부, RF 전극, 바이어스전극을구비하여플라즈마를발생시키는대기압플라즈마발생부; 상기대기압플라즈마발생부로부터발생되는하전입자와활성종이혼재된플라즈마로부터하전입자의확산을방지하고활성종의확산을통하여활성종을추출하는활성종추출부;를포함하고, 상기활성종추출부는상기대기압플라즈마발생부의쉬스길이보다작은직경의홀을갖도록형성되어상기활성종추출부의홀 내부에서플라즈마발생을방지하는것을특징으로한다.

Patent Agency Ranking