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公开(公告)号：WO2017122975A1
公开(公告)日：2017-07-20
申请号：PCT/KR2017/000262
申请日：2017-01-09
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F1/62 , G03F1/22 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/22 , G03F1/62 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 복수개의 EUV(Extreme Ultraviolet) 투과층 및 열방출층이 교대로 적층된 펠리클 멤브레인을 준비하는 단계, 및 상기 펠리클 멤브레인의 상기 열방출층이 노출된 가장자리 측면(sidewall) 상에 상기 펠리클 멤브레인으로부터 열을 흡수하는 냉각구조체를 배치하는 단계를 포함하는 EUV 펠리클 구조체의 제조 방법이 제공될 수 있다.
Abstract translation:
多个EUV（极紫外）传送层和散热层的是制备交替层叠的薄膜的膜的步骤，曝光的薄膜的膜边缘侧的散热层（侧壁） 有关于制造包含EUV防护薄膜组件的结构的方法：将冷却结构用于从所述防护膜吸收热量可以提供
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公开(公告)号：WO2017164556A1
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：PCT/KR2017/002733
申请日：2017-03-14
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: 광원부가 다층 박막 거울에 EUV(Extreme Ultraviolet) 광을 조사하고, 검출부가 상기 다층 박막 거울로부터 반사된 제1 EUV 광을 수집 및 측정하는 단계, 상기 다층 박막 거울 상에 펠리클(pellicle)을 배치하는 단계, 상기 광원부가 상기 펠리클에 상기 EUV 광을 조사하고, 상기 검출부가 상기 펠리클을 투과한 후 상기 다층 박막 거울에 반사되어 상기 펠리클을 재투과하는 제2 EUV 광을 수집 및 측정하는 단계, 및 상기 제1 및 제2 EUV 광을 통해 상기 펠리클의 투과도를 산출하여 상기 펠리클의 불량 여부를 평가하는 단계를 포함하되, 상기 펠리클을 상기 다층 박막 거울 상에 위치한 펠리클 스테이지(pellicle stage) 상에, 상기 다층 박막 거울과 이격 배치시켜, 상기 펠리클의 접촉으로 인한 상기 다층 박막 거울의 오염 및 손상을 최소화하는 펠리클의 검사 방법이 제공될 수 있다.
Abstract translation:
光源照射EUV（极紫外）光在多层薄膜反射镜，并且所述检测单元是用于收集和测量所述多层薄膜反射镜的工序的权利要求1的EUV光从多层薄膜反射镜反射 通过该防护薄膜组件放置一个薄膜（薄膜），则光源在该防护薄膜组件照射EUV光，所述检测单元通过所述薄膜传输收集根据权利要求2，其被反映在多层薄膜镜的EUV光重新发送的 和测量，并且所述第一和第二，但通过从EUV光计算薄膜的透射率，其包括评估所述缺陷是否防护薄膜组件，在对多层薄膜镜级的防尘薄膜组件的防尘薄膜组件（防尘薄膜组件的步骤 以减少由于薄膜接触引起的多层薄膜反射镜的污染和损坏 它可以被提供。
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公开(公告)号：WO2017131358A1
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：PCT/KR2017/000263
申请日：2017-01-09
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F1/62 , G03F1/22 , G03F7/20 , H01L21/027 , G03F1/00
CPC classification number: G03F1/00 , G03F1/22 , G03F1/62 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 복수개의 EUV(Extreme Ultraviolet) 투과층 및 열방출층이 교대로 적층된 중간막 구조체(intermediate layer structure), 상기 중간막 구조체의 상부면 상의 제1 박막, 및 상기 중간막 구조체의 하부면 상에 배치되고 상기 제1 박막보다 낮은 열복사율을 갖는 제2 박막을 포함하는 펠리클 멤브레인을 준비하는 단계, 상기 펠리클 멤브레인의 상기 열방출층이 노출된 가장자리 측면(sidewall) 상에 상기 펠리클 멤브레인으로부터 열을 흡수하는 냉각구조체를 배치하는 단계를 포함하는 EUV 펠리클 구조체의 제조 방법이 제공될 수 있다.
Abstract translation: 的
多个EUV（极紫外）传送层和散热层的交替层叠层间膜结构（中间层结构），如权利要求1所述的中间膜，该结构的顶表面上的薄膜，并且层间膜结构 设置在所述下表面上的防护膜是在舞台上，所述防护膜（侧壁）的散热层的暴露边缘的表面，制成防护膜和具有比所述第一薄膜更低的热辐射速率的第二薄膜 一种制造EUV薄膜结构的方法，包括设置从基板吸收热量的冷却结构的步骤。
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公开(公告)号：KR102256578B1
公开(公告)日：2021-05-26
申请号：KR1020190152462
申请日：2019-11-25
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G01N21/47 , G01N21/88 , G01N21/956 , G03F7/20
Abstract: 피검사체(object)에대한타이코그래피이미징장치및 방법이개시된다. 타이코그래피이미징방법은, 상기피검사체에대해검사광원(probe)을조사하여복수의회절패턴을획득하는단계; 상기복수의회절패턴에대한위상을산출하는단계; 상기산출된위상정보를타이코그래피반복이미징의초기위상정보로입력하는단계; 타이코그래피반복이미징을수행하는단계; 및상기타이코그래피반복이미징결과로최종업데이트된피검사체및 검사광원중 하나이상에대한정보를획득하는단계를포함할수 있다.
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公开(公告)号：KR1020170110759A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020160034688
申请日：2016-03-23
Applicant: 한양대학교 산학협력단
CPC classification number: G01N21/33 , G01N21/84 , G01N21/88 , G01N21/8422 , G01N21/8806 , G01N21/8851
Abstract: 광원부가다층박막거울에 EUV(Extreme Ultraviolet) 광을조사하고, 검출부가상기다층박막거울로부터반사된제1 EUV 광을수집및 측정하는단계, 상기다층박막거울상에펠리클(pellicle)을배치하는단계, 상기광원부가상기펠리클에상기 EUV 광을조사하고, 상기검출부가상기펠리클을투과한후 상기다층박막거울에반사되어상기펠리클을재투과하는제2 EUV 광을수집및 측정하는단계, 및상기제1 및제2 EUV 광을통해상기펠리클의투과도를산출하여상기펠리클의불량여부를평가하는단계를포함하되, 상기펠리클을상기다층박막거울상에위치한펠리클스테이지(pellicle stage) 상에, 상기다층박막거울과이격배치시켜, 상기펠리클의접촉으로인한상기다층박막거울의오염및 손상을최소화하는펠리클의검사방법이제공될수 있다.
Abstract translation: 照射和收集和测量根据权利要求1的EUV光的检测部，从多层薄膜反射镜反射，光源部EUV在多层薄膜镜（极紫外）光，所述方法包括：在所述多层薄膜镜像上放置一个薄膜（薄膜）， 添加光源的EUV光照射到防尘薄膜组件的步骤，然后将检测到的通过添加防护膜被反映在多层薄膜镜采集，并通过薄膜即重新传输，如权利要求2的EUV光的测量，并且所述第一发送 通过mitje 2 EUV光计算防尘薄膜组件包括评估在所述多层薄膜镜图像上的防护薄膜组件的缺陷是否防护薄膜组件，薄膜级（防尘薄膜组件阶段）的步骤的传输，该多层薄膜反射镜和间隔 从而最小化由于薄膜接触而导致的多层薄膜反射镜的污染和损坏。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR101807396B1
公开(公告)日：2017-12-11
申请号：KR1020160034688
申请日：2016-03-23
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: 광원부가다층박막거울에 EUV(Extreme Ultraviolet) 광을조사하고, 검출부가상기다층박막거울로부터반사된제1 EUV 광을수집및 측정하는단계, 상기다층박막거울상에펠리클(pellicle)을배치하는단계, 상기광원부가상기펠리클에상기 EUV 광을조사하고, 상기검출부가상기펠리클을투과한후 상기다층박막거울에반사되어상기펠리클을재투과하는제2 EUV 광을수집및 측정하는단계, 및상기제1 및제2 EUV 광을통해상기펠리클의투과도를산출하여상기펠리클의불량여부를평가하는단계를포함하되, 상기펠리클을상기다층박막거울상에위치한펠리클스테이지(pellicle stage) 상에, 상기다층박막거울과이격배치시켜, 상기펠리클의접촉으로인한상기다층박막거울의오염및 손상을최소화하는펠리클의검사방법이제공될수 있다.
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公开(公告)号：KR101762059B1
公开(公告)日：2017-07-31
申请号：KR1020160004118
申请日：2016-01-13
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F1/62 , G03F1/22 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/22 , G03F1/62 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 복수개의 EUV(Extreme Ultraviolet) 투과층및 열방출층이교대로적층된펠리클멤브레인을준비하는단계, 및상기펠리클멤브레인의상기열방출층이노출된가장자리측면(sidewall) 상에상기펠리클멤브레인으로부터열을흡수하는냉각구조체를배치하는단계를포함하는 EUV 펠리클구조체의제조방법이제공될수 있다.
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公开(公告)号：KR102243367B1
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：KR1020190065308
申请日：2019-06-03
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: 펠리클홀더가제공된다. 상기펠리클홀더는, 내부에펠리클안착공간을포함하는외곽프레임, 및상기외곽프레임으로부터상기펠리클안착공간의중심방향으로연장되는, 복수의홀딩레그를포함하되, 상기홀딩레그는, 상기연장방향을따라신장또는수축되며, 일단에펠리클(pellicle)의일부분이거치되어, 상기펠리클을지지(support)하는것을포함할수 있다.
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10.发明公开극자외선 노광공정용 마스크 및 펠리클의 결함 이미지를 최적의 품질로 재구성하기 위한 타이코그라피 알고리즘 내 피드백 파라미터 업데이트 기법 审中-实审在tycho算法中的反馈参数更新技术，用于重建用于极端紫外线曝光过程的掩模和薄膜的有缺陷图像以达到最佳质量
公开(公告)号：KR1020170127102A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：KR1020160057137
申请日：2016-05-10
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: 극자외선노광공정용마스크및 펠리클의결함이미지를최적의품질로재구성하기위한타이코그라피알고리즘내 피드백파라미터업데이트기법은, 피드백파라미터를이미지재구성과정에서적어도 1회이상업데이트하는것을포함할수 있다.
Abstract translation: 在用于重建紫外线曝光过程的掩模和薄膜的缺陷图像以达到最佳质量的ticorpach算法中的反馈参数更新技术可以包括在图像重建过程期间至少更新一次反馈参数。
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