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公开(公告)号：WO2017122975A1
公开(公告)日：2017-07-20
申请号：PCT/KR2017/000262
申请日：2017-01-09
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F1/62 , G03F1/22 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/22 , G03F1/62 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 복수개의 EUV(Extreme Ultraviolet) 투과층 및 열방출층이 교대로 적층된 펠리클 멤브레인을 준비하는 단계, 및 상기 펠리클 멤브레인의 상기 열방출층이 노출된 가장자리 측면(sidewall) 상에 상기 펠리클 멤브레인으로부터 열을 흡수하는 냉각구조체를 배치하는 단계를 포함하는 EUV 펠리클 구조체의 제조 방법이 제공될 수 있다.
Abstract translation:
多个EUV（极紫外）传送层和散热层的是制备交替层叠的薄膜的膜的步骤，曝光的薄膜的膜边缘侧的散热层（侧壁） 有关于制造包含EUV防护薄膜组件的结构的方法：将冷却结构用于从所述防护膜吸收热量可以提供
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公开(公告)号：WO2017164556A1
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：PCT/KR2017/002733
申请日：2017-03-14
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: 광원부가 다층 박막 거울에 EUV(Extreme Ultraviolet) 광을 조사하고, 검출부가 상기 다층 박막 거울로부터 반사된 제1 EUV 광을 수집 및 측정하는 단계, 상기 다층 박막 거울 상에 펠리클(pellicle)을 배치하는 단계, 상기 광원부가 상기 펠리클에 상기 EUV 광을 조사하고, 상기 검출부가 상기 펠리클을 투과한 후 상기 다층 박막 거울에 반사되어 상기 펠리클을 재투과하는 제2 EUV 광을 수집 및 측정하는 단계, 및 상기 제1 및 제2 EUV 광을 통해 상기 펠리클의 투과도를 산출하여 상기 펠리클의 불량 여부를 평가하는 단계를 포함하되, 상기 펠리클을 상기 다층 박막 거울 상에 위치한 펠리클 스테이지(pellicle stage) 상에, 상기 다층 박막 거울과 이격 배치시켜, 상기 펠리클의 접촉으로 인한 상기 다층 박막 거울의 오염 및 손상을 최소화하는 펠리클의 검사 방법이 제공될 수 있다.
Abstract translation:
光源照射EUV（极紫外）光在多层薄膜反射镜，并且所述检测单元是用于收集和测量所述多层薄膜反射镜的工序的权利要求1的EUV光从多层薄膜反射镜反射 通过该防护薄膜组件放置一个薄膜（薄膜），则光源在该防护薄膜组件照射EUV光，所述检测单元通过所述薄膜传输收集根据权利要求2，其被反映在多层薄膜镜的EUV光重新发送的 和测量，并且所述第一和第二，但通过从EUV光计算薄膜的透射率，其包括评估所述缺陷是否防护薄膜组件，在对多层薄膜镜级的防尘薄膜组件的防尘薄膜组件（防尘薄膜组件的步骤 以减少由于薄膜接触引起的多层薄膜反射镜的污染和损坏 它可以被提供。
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公开(公告)号：WO2022065632A1
公开(公告)日：2022-03-31
申请号：PCT/KR2021/007555
申请日：2021-06-16
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: 광대역 특성을 갖는 이중대역 루프형 그라운드 방사 안테나가 제시된다. 일 실시예에 따른 광대역 특성을 갖는 이중대역 루프형 그라운드 방사 안테나는, 기판에 형성된 접지부; 상기 접지부의 적어도 일부에 구성되는 클리어런스부; 상기 클리어런스부 측에 구성되며, 양단이 상기 접지부와 연결되는 방사체; 상기 방사체의 중단에서 상기 접지부로 연결되고, 급전점과 전자기적으로 결합되는 급전부; 상기 급전부와 병렬로 배치되며, 상기 방사체의 중단에서 상기 접지부로 연결되는 접지 연결부; 및 상기 접지 연결부에 직렬로 구성되는 제1 유도성 소자를 포함하여 이루어질 수 있다.
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公开(公告)号：WO2018048005A1
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：PCT/KR2016/010478
申请日：2016-09-20
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F7/20 , G03F1/00 , H01L21/027
Abstract: 마스크 보호 모듈이 제공된다. 상기 마스크 보호 모듈은, 프레임(frame), 상기 프레임에 의해 지지되는 멤브레인(membrane)을 포함하되, 상기 멤브레인은, 광의 투과도, 열 전달율, 또는 강도 중에서 적어도 어느 하나가 다른 영역들을 포함할 수 있다.
Abstract translation:
提供掩码保护模块。 面罩保护模块可以包括框架，由框架支撑的膜，并且膜可以包括具有透光率，热传递率和强度中的至少一个的区域。
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公开(公告)号：WO2017131358A1
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：PCT/KR2017/000263
申请日：2017-01-09
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F1/62 , G03F1/22 , G03F7/20 , H01L21/027 , G03F1/00
CPC classification number: G03F1/00 , G03F1/22 , G03F1/62 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 복수개의 EUV(Extreme Ultraviolet) 투과층 및 열방출층이 교대로 적층된 중간막 구조체(intermediate layer structure), 상기 중간막 구조체의 상부면 상의 제1 박막, 및 상기 중간막 구조체의 하부면 상에 배치되고 상기 제1 박막보다 낮은 열복사율을 갖는 제2 박막을 포함하는 펠리클 멤브레인을 준비하는 단계, 상기 펠리클 멤브레인의 상기 열방출층이 노출된 가장자리 측면(sidewall) 상에 상기 펠리클 멤브레인으로부터 열을 흡수하는 냉각구조체를 배치하는 단계를 포함하는 EUV 펠리클 구조체의 제조 방법이 제공될 수 있다.
Abstract translation: 的
多个EUV（极紫外）传送层和散热层的交替层叠层间膜结构（中间层结构），如权利要求1所述的中间膜，该结构的顶表面上的薄膜，并且层间膜结构 设置在所述下表面上的防护膜是在舞台上，所述防护膜（侧壁）的散热层的暴露边缘的表面，制成防护膜和具有比所述第一薄膜更低的热辐射速率的第二薄膜 一种制造EUV薄膜结构的方法，包括设置从基板吸收热量的冷却结构的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2017183941A1
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：PCT/KR2017/004287
申请日：2017-04-21
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: EUV(Extreme Ultraviolet) 투과층을 준비하는 단계, 상기 EUV 투과층 상에 그래핀층(graphene layer)을 형성하는 단계, 상기 그래핀층의 결함(defect) 상에 링킹 물질(linking material)을 제공하여 링킹 패턴(linking pattern)을 형성하는 단계, 및 상기 링킹 패턴 상에 열방출층을 형성하는 단계를 포함하는 펠리클 구조체의 제조 방법이 제공될 수 있다.
Abstract translation: 制备EUV（极紫外）透射层，在EUV透射层上形成石墨烯层，在石墨烯层的缺陷上形成连接材料 提供连接材料以形成连接图案，并且在连接图案上形成热释放层。
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公开(公告)号：WO2016043536A1
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：PCT/KR2015/009761
申请日：2015-09-17
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F1/62
CPC classification number: G03F1/62
Abstract: 감광성 유리를 이용한 EUV 리소그래피용 펠리클 제조방법을 제공한다. EUV 리소그래피용 펠리클 제조방법은 감광성 유리 단일층의 제1 영역을 노광 및 어닐링하는 단계, 상기 감광성 유리 단일층의 하부에 씨드층을 형성하는 단계, 상기 씨드층의 하부에 멤브레인을 형성하는 단계 및 상기 제1 영역 및 상기 제1 영역의 하부에 위치하는 씨드층 영역인 제2 영역을 식각하여 제거하는 단계를 포함할 수 있다. 따라서, 감광성 유리(photosensitive glass)가 자외선 조사 여부에 따라 HF 식각용액에 대한 식각 선택비가 크게 차이 난다는 점을 이용하여, 공정의 단순화 및 재현성이 확보된 EUV 리소그래피용 펠리클 제조방법을 제공할 수 있다.
Abstract translation: 提供一种使用感光玻璃制造EUV光刻胶薄膜的方法。 用于制造EUV光刻防伪薄膜的方法可以包括以下步骤：对感光玻璃的单层的第一区域进行曝光和退火; 在感光玻璃的单层的下部形成种子层; 在种子层的下部形成膜; 以及蚀刻和去除第一区域，以及作为位于第一区域的下部的种子层区域的第二区域。 因此，可以提供一种用于制造EUV光刻防伪薄片的方法，其通过使用感光玻璃相对于HF蚀刻溶液的蚀刻选择性显示出显着差异的事实，从而确保再现性和工艺简化。根据感光玻璃是否暴露于 紫外线或不。
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公开(公告)号：WO2015160185A1
公开(公告)日：2015-10-22
申请号：PCT/KR2015/003783
申请日：2015-04-15
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/62 , G03F7/2004 , H01L21/027
Abstract: EUV 리소그래피용 펠리클을 제공한다. EUV 리소그래피용 펠리클은 제1 무기물층 상에 제1 결합층 및 탄소 나노구조체를 포함하는 강도보강층이 위치하고, 이때의 제1 결합층은 상기 제1 무기물층과 상기 강도보강층의 결합력을 강화시키고, 탄소 나노구조체를 포함하는 강도보강층을 구비함으로써 펠리클막의 강도를 향상시킬 수 있다. 또한, 다른 실시예의 EUV 리소그래피용 펠리클 및 그 제조방법을 제공한다. EUV 리소그래피용 펠리클은 복수개의 홀을 포함하고, 소광계수가 0.02 이하인 물질로 구성된 다공성 박막이고, 상기 홀의 직경은 1 ㎛ 이하인 것을 특징으로 한다. 따라서, 높은 EUV 투과율을 가지면서도 두께를 두껍게 제작할 수 있으므로 향상된 강도를 확보할 수 있다.
Abstract translation: 提供EUV光刻用防护薄膜。 用于EUV光刻的防护薄膜组件包括形成在第一无机层上的第一组合层和包括碳纳米结构的强化增强层，其中第一组合层增强了第一无机层和强度增强层之间的结合力， 通过包括具有碳纳米结构的强度增强层来改进防护薄膜。 此外，根据另一实例，提供了一种用于EUV光刻的防护薄膜组件及其制造方法。 用于EUV光刻的防护薄膜组件是包括多个孔的多孔薄膜，由具有0.02或更低的消光系数的材料制成，其中孔的直径为1μm或更小。 因此，防护薄膜组件可以制造成具有高的EUV透射率并且较厚，从而确保改善的强度。
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公开(公告)号：KR101848153B1
公开(公告)日：2018-05-29
申请号：KR1020160117214
申请日：2016-09-12
Applicant: 한양대학교 산학협력단
CPC classification number: G03F1/00 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 마스크보호모듈이제공된다. 상기마스크보호모듈은, 프레임(frame), 상기프레임에의해지지되는멤브레인(membrane)을포함하되, 상기멤브레인은, 광의투과도, 열전달율, 또는강도중에서적어도어느하나가다른영역들을포함할수 있다.
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10.发明公开폐수 처리가 가능한 전력 생산형 전기 응집 유닛 및 이를 포함하는 폐수 처리가 가능한 전력 생산형 전기 응집 장치 审中-实审一种能够进行废水处理的发电型电凝聚装置和一种能够处理含有其的废水的发电型电凝聚装置
公开(公告)号：KR1020170093083A
公开(公告)日：2017-08-14
申请号：KR1020170016306
申请日：2017-02-06
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: 본발명의일 실시예에따른폐수처리가가능한전력생산형전기응집유닛은, 폐수 - 상기폐수는, 암모니아성질소(ammonia nitrogen), 인산염(phosphate) 및전해질을포함함 - 가통과하는폐수통과공간이제공되도록서로이격되어배치되는금속애노드(Metal anode)와공기캐소드(Air cathode); 및상기금속애노드와상기공기캐소드를상기폐수통과공간의외측에서물리적으로연결하고소정의저항을구비하는도선부;를포함하며, 이로인해, 폐수처리와동시에전력을생산할수 있다.
Abstract translation: 根据本发明实施例的能够处理废水的发电型电凝单元的特征在于，包括氨氮，磷酸盐和电解质的废水， 金属阳极和空气阴极，被布置为彼此间隔开以被填充; 并且在废水通道空间之外物理连接金属阳极和空气阴极并且具有预定电阻的线部分，从而与废水处理同时发电。
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