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公开(公告)号：WO2018048005A1
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：PCT/KR2016/010478
申请日：2016-09-20
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F7/20 , G03F1/00 , H01L21/027
Abstract: 마스크 보호 모듈이 제공된다. 상기 마스크 보호 모듈은, 프레임(frame), 상기 프레임에 의해 지지되는 멤브레인(membrane)을 포함하되, 상기 멤브레인은, 광의 투과도, 열 전달율, 또는 강도 중에서 적어도 어느 하나가 다른 영역들을 포함할 수 있다.
Abstract translation:
提供掩码保护模块。 面罩保护模块可以包括框架，由框架支撑的膜，并且膜可以包括具有透光率，热传递率和强度中的至少一个的区域。
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公开(公告)号：WO2017122975A1
公开(公告)日：2017-07-20
申请号：PCT/KR2017/000262
申请日：2017-01-09
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F1/62 , G03F1/22 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/22 , G03F1/62 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 복수개의 EUV(Extreme Ultraviolet) 투과층 및 열방출층이 교대로 적층된 펠리클 멤브레인을 준비하는 단계, 및 상기 펠리클 멤브레인의 상기 열방출층이 노출된 가장자리 측면(sidewall) 상에 상기 펠리클 멤브레인으로부터 열을 흡수하는 냉각구조체를 배치하는 단계를 포함하는 EUV 펠리클 구조체의 제조 방법이 제공될 수 있다.
Abstract translation:
多个EUV（极紫外）传送层和散热层的是制备交替层叠的薄膜的膜的步骤，曝光的薄膜的膜边缘侧的散热层（侧壁） 有关于制造包含EUV防护薄膜组件的结构的方法：将冷却结构用于从所述防护膜吸收热量可以提供
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公开(公告)号：WO2017164556A1
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：PCT/KR2017/002733
申请日：2017-03-14
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: 광원부가 다층 박막 거울에 EUV(Extreme Ultraviolet) 광을 조사하고, 검출부가 상기 다층 박막 거울로부터 반사된 제1 EUV 광을 수집 및 측정하는 단계, 상기 다층 박막 거울 상에 펠리클(pellicle)을 배치하는 단계, 상기 광원부가 상기 펠리클에 상기 EUV 광을 조사하고, 상기 검출부가 상기 펠리클을 투과한 후 상기 다층 박막 거울에 반사되어 상기 펠리클을 재투과하는 제2 EUV 광을 수집 및 측정하는 단계, 및 상기 제1 및 제2 EUV 광을 통해 상기 펠리클의 투과도를 산출하여 상기 펠리클의 불량 여부를 평가하는 단계를 포함하되, 상기 펠리클을 상기 다층 박막 거울 상에 위치한 펠리클 스테이지(pellicle stage) 상에, 상기 다층 박막 거울과 이격 배치시켜, 상기 펠리클의 접촉으로 인한 상기 다층 박막 거울의 오염 및 손상을 최소화하는 펠리클의 검사 방법이 제공될 수 있다.
Abstract translation:
光源照射EUV（极紫外）光在多层薄膜反射镜，并且所述检测单元是用于收集和测量所述多层薄膜反射镜的工序的权利要求1的EUV光从多层薄膜反射镜反射 通过该防护薄膜组件放置一个薄膜（薄膜），则光源在该防护薄膜组件照射EUV光，所述检测单元通过所述薄膜传输收集根据权利要求2，其被反映在多层薄膜镜的EUV光重新发送的 和测量，并且所述第一和第二，但通过从EUV光计算薄膜的透射率，其包括评估所述缺陷是否防护薄膜组件，在对多层薄膜镜级的防尘薄膜组件的防尘薄膜组件（防尘薄膜组件的步骤 以减少由于薄膜接触引起的多层薄膜反射镜的污染和损坏 它可以被提供。
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公开(公告)号：WO2017183941A1
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：PCT/KR2017/004287
申请日：2017-04-21
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: EUV(Extreme Ultraviolet) 투과층을 준비하는 단계, 상기 EUV 투과층 상에 그래핀층(graphene layer)을 형성하는 단계, 상기 그래핀층의 결함(defect) 상에 링킹 물질(linking material)을 제공하여 링킹 패턴(linking pattern)을 형성하는 단계, 및 상기 링킹 패턴 상에 열방출층을 형성하는 단계를 포함하는 펠리클 구조체의 제조 방법이 제공될 수 있다.
Abstract translation: 制备EUV（极紫外）透射层，在EUV透射层上形成石墨烯层，在石墨烯层的缺陷上形成连接材料 提供连接材料以形成连接图案，并且在连接图案上形成热释放层。
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公开(公告)号：WO2015160185A1
公开(公告)日：2015-10-22
申请号：PCT/KR2015/003783
申请日：2015-04-15
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/62 , G03F7/2004 , H01L21/027
Abstract: EUV 리소그래피용 펠리클을 제공한다. EUV 리소그래피용 펠리클은 제1 무기물층 상에 제1 결합층 및 탄소 나노구조체를 포함하는 강도보강층이 위치하고, 이때의 제1 결합층은 상기 제1 무기물층과 상기 강도보강층의 결합력을 강화시키고, 탄소 나노구조체를 포함하는 강도보강층을 구비함으로써 펠리클막의 강도를 향상시킬 수 있다. 또한, 다른 실시예의 EUV 리소그래피용 펠리클 및 그 제조방법을 제공한다. EUV 리소그래피용 펠리클은 복수개의 홀을 포함하고, 소광계수가 0.02 이하인 물질로 구성된 다공성 박막이고, 상기 홀의 직경은 1 ㎛ 이하인 것을 특징으로 한다. 따라서, 높은 EUV 투과율을 가지면서도 두께를 두껍게 제작할 수 있으므로 향상된 강도를 확보할 수 있다.
Abstract translation: 提供EUV光刻用防护薄膜。 用于EUV光刻的防护薄膜组件包括形成在第一无机层上的第一组合层和包括碳纳米结构的强化增强层，其中第一组合层增强了第一无机层和强度增强层之间的结合力， 通过包括具有碳纳米结构的强度增强层来改进防护薄膜。 此外，根据另一实例，提供了一种用于EUV光刻的防护薄膜组件及其制造方法。 用于EUV光刻的防护薄膜组件是包括多个孔的多孔薄膜，由具有0.02或更低的消光系数的材料制成，其中孔的直径为1μm或更小。 因此，防护薄膜组件可以制造成具有高的EUV透射率并且较厚，从而确保改善的强度。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR101848153B1
公开(公告)日：2018-05-29
申请号：KR1020160117214
申请日：2016-09-12
Applicant: 한양대학교 산학협력단
CPC classification number: G03F1/00 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 마스크보호모듈이제공된다. 상기마스크보호모듈은, 프레임(frame), 상기프레임에의해지지되는멤브레인(membrane)을포함하되, 상기멤브레인은, 광의투과도, 열전달율, 또는강도중에서적어도어느하나가다른영역들을포함할수 있다.
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8.发明公开극자외선 노광공정용 마스크 및 펠리클의 결함 이미지를 최적의 품질로 재구성하기 위한 타이코그라피 알고리즘 내 피드백 파라미터 업데이트 기법 审中-实审在tycho算法中的反馈参数更新技术，用于重建用于极端紫外线曝光过程的掩模和薄膜的有缺陷图像以达到最佳质量
公开(公告)号：KR1020170127102A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：KR1020160057137
申请日：2016-05-10
Applicant: 한양대학교 산학협력단
Abstract: 극자외선노광공정용마스크및 펠리클의결함이미지를최적의품질로재구성하기위한타이코그라피알고리즘내 피드백파라미터업데이트기법은, 피드백파라미터를이미지재구성과정에서적어도 1회이상업데이트하는것을포함할수 있다.
Abstract translation: 在用于重建紫外线曝光过程的掩模和薄膜的缺陷图像以达到最佳质量的ticorpach算法中的反馈参数更新技术可以包括在图像重建过程期间至少更新一次反馈参数。
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公开(公告)号：KR1020170085161A
公开(公告)日：2017-07-24
申请号：KR1020160004118
申请日：2016-01-13
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F1/62 , G03F1/22 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/22 , G03F1/62 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 복수개의 EUV(Extreme Ultraviolet) 투과층및 열방출층이교대로적층된펠리클멤브레인을준비하는단계, 및상기펠리클멤브레인의상기열방출층이노출된가장자리측면(sidewall) 상에상기펠리클멤브레인으로부터열을흡수하는냉각구조체를배치하는단계를포함하는 EUV 펠리클구조체의제조방법이제공될수 있다.
Abstract translation: 准备将多个EUV（Extreme Ultraviolet：极紫外线）透过层与散热层交替层叠而成的防护膜，并从防护膜的露出侧壁上的防护膜散热层 可以提供包括设置吸收式冷却结构的步骤的EUV薄膜结构的制造方法。
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公开(公告)号：KR101726045B1
公开(公告)日：2017-04-13
申请号：KR1020150079159
申请日：2015-06-04
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F1/22 , G03F1/26 , H01L21/033
Abstract: 극자외선노광공정용마스크가제공된다. 상기극자외선노광공정용마스크느, 기판, 상기기판상에교대로그리고반복적으로적층된제1 물질막및 제2 물질막을포함하는반사막, 상기반사막상의캡핑막, 및상기캡핑막상에차례로적층된위상변조패턴및 흡수패턴을포함하되, 상기위상변조패턴및 상기흡수패턴의측벽들은, 상기캡핑막의상부면에대해서비스듬할수 있다.
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