Abstract:
본 발명은 그래핀의 물리적 형상 분석방법에 관한 것이다. 본 발명의 그래핀의 물리적 형상 분석방법은 다수의 미세 홈을 가지는 실리콘기판을 준비하고, 상기 실리콘기판상에 그래핀 및 금속코팅막이 올려진 시편으로 제작한 후 주사형 전자현미경(SEM) 장비를 이용하여 관찰하되, 상기 실리콘기판이 판판한 바닥과 다양한 경사각을 가지므로, 그래핀 형상에 관련된 두께, 넓이, 직경, 구겨짐, 평탄도 등의 물리적 성질을 SEM 장비를 이용하여 분석할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 2차원 판상소재에서 발생하는 문제 즉, 2차원 판상소재가 겹쳐짐에 따라 발생하는 단차 문제, 결함문제, 퍼짐문제 등을 해결할 수 있는 2차원 하이브리드 복합체 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 「(a) 제1판상소재를 고상 또는 액상으로 준비하는 단계; (b) 상기 제1판상소재 보다 두께가 얇고 유연성이 있는 제2판상소재를 상기 제1판상소재와 혼합시키는 단계; (c) 고상 또는 액상의 결합재를 상기 제1·2판상소재와 혼합시켜 상기 제1·2판상소재가 일부 접촉하거나 상호 이격되도록 하는 단계; 및 (d) 상기 (a)단계 내지 (c)단계를 거쳐 형성된 복합체를 고상화시키는 단계; 를 포함하는 2차원 하이브리드 복합체 제조 방법」을 제공한다.
Abstract:
본 발명은 그래핀 분석 방법에 관한 것으로서, 현재까지 난제로 남아있고 이론적 접근만 가능하였던 원자-분자-나노단위의 초미세 두께를 갖는 그래핀 두께를 층 수 단위로 정확히 측정하고 결정하는 방법에 대한 기술과, 여기서 얻어진 데이터를 기준으로 하여 미지 그래핀 시료들의 두께(층 수), 나노박막들의 두께, 나노결정립들의 크기(평균치, 분포 등)를 알아내는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 「(a) 층 수 별로 정의된 그래핀에 대하여 XRD 측정을 수행하여(002) 회절 피크를 얻어내는 단계; 및 (b) 상기 그래핀 층 수 별 (002) 피크들로부터 FWHM(full width at half maximum) 및 층간간격(d002)을 포함한 그래핀 두께에 대한 유효정보를 도출하는 단계; 를 포함하는 그래핀 분석 방법」을 제공한다.
Abstract:
A non-colored FTO(f-dopped tin oxide) conductive film having high quality and high transmittance is provided to reduce optical coloration effect through a series of polymer post-treatment so as to produce a transmittance-increased FTO film. A non-colored FTO(f-dopped tin oxide) conductive film using a series of polymer post-treatment comprises the following steps of: heating a glass substrate up to a temperature range of 400-600°C to form a SiO2 barrier film; forming the FTO film on the SiO2 barrier film using a spray/ultrasonic spraying method; and coating the FTO film with polymer in post-treatment which is performed by dropping a polymer solution onto the FTO film and spin-coating or dip-coating the FTO film with the polymer solution.
Abstract:
본 발명은 폴리머 후처리 공정을 이용한 무색 투명 FTO 전도막 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 흐릿하며 광학적 착색이 있어 투과율이 낮고 시각적 방해가 있는 FTO(F-dopped Tin Oxide) 투명 전도막을 간단한 후처리 공정을 통하여 투과율을 높이고 무색에 가까운 FTO 막을 제조할 수 있도록 한 폴리머 후처리 공정을 이용한 무색 투명 FTO 전도막 제조 방법에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명은 유리기판을 400~600℃로 가열한 후, SiO 2 베리어 막을 형성하는 단계와; 스프레이/초음파 분무법을 이용하여 상기 베리어 막 위에 FTO 막을 형성하는 단계와; 상기 FTO 막에 폴리머를 코팅 또는 접합시키는 후처리 공정을 실시하는 단계; 를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 폴리머 후처리 공정을 이용한 무색 투명 FTO 전도막 제조 방법을 제공한다. 폴리머, 후처리 공정, FTO, 전도막, 유리기판, 베리어 막, 무색 투명
Abstract:
Transparent conductive F-doped tin oxide glass for defogging is provided to have excellent heat resistance, chemical resistance and abrasion resistance and to include FTO transparent oxide conductive having low resistance and high transmittance. Transparent conductive F-doped tin oxide glass for defogging is made by laminating a glass plate layer, a dielectric barrier layer, a functional layer, a metal electrode layer, a plastic interlayer and a glass plate layer in the order. A molar ratio of F/Sn in the functional layer is 0.5~2. A thickness of the FTO transparency conductive film layer is 0.1~1.3 mum. The dielectric barrier layer is made by SiO2 or mixing a transition metal selected from Ti, Zn and Al with SiO2. A thickness of the thickness is 5 ~ 200 nm.