Abstract:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for vertical interconnection of 3D electronic modules using a via. SOLUTION: This invention relates to the method for vertical interconnection of the 3D electronic modules using the via, wherein one module includes a laminate which has K electronic wafer levels 19 electrically connected each other by a conductor extending along the laminate. The method includes the steps of: (a) providing at least one electronic component which is surrounded with insulated resin and connected to an electric connection pad, wherein the pad is connected to an electric connection track deposited on a dielectric layer, and each track extends to an electrode located in a position where the via 15 will be formed on a dicing line; (b) laminating and assembling the K wafer levels; (c) forming via vertically in resin; (d) performing metallization of the wall of the via by electrolytic growing; and (e) cutting the laminate along with the dicing line so that the 3D electronic module may be obtained. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
Abstract:
The invention relates to a method for the collective production of a reconstituted wafer that comprises chips with connection pads on a so-called front side of the chip, said method comprising a step of: A) placing the chips on an initial adhesive carrier, front side on the carrier, characterized in that it comprises the following steps: B) depositing, in the gaseous phase at atmospheric pressure and at room temperature, an electrically insulating layer on the initial carrier and the chips, this layer having a mechanical role in supporting the chips; C) transferring the chips covered with the mineral layer to a temporary adhesive carrier, the rear side of the chips facing the temporary adhesive carrier; D) removing the initial adhesive carrier; E) placing the chips on a chuck, the front sides of the chips facing the chuck; F) removing the temporary adhesive carrier; G) depositing a resin over the chuck so as to encapsulate the chips, then curing the resin; H) removing the chuck; and I) producing an RDL on the active side.
Abstract:
The invention relates to the collective manufacturing of n 3D modules. It comprises a manufacturing stage of a batch of n wafers i on the same plate, of the same thickness, and comprised of silicon, covered on one test point side face (20) then an insulating layer (4) of e thickness, forming the insulating substrate and equipped with at least one electronic component (11 ) connected to the test points (20) by means of the said insulating layer, with the components being separated from each other by primary grooves (30) with a width L1, and with the connecting points of the components (2) being connected to the tracks (3) that are flush with the level of the grooves (30), (B1) a stage depositing an adhesive support (40) on the component-side face, C1 ) a stage withdrawing the silicon plate (10) so as to show the test points (20), D1 ) a stage testing the electronic components of the plate by means of the test points (20), and marking of the valid components (11 '), E1 ), a stage for reporting on an adhesive film (41), the wafers (50) each comprising a valid component (11 '), with the wafers being separated by the secondary grooves (31) at the level at which the conductive tracks (3) of the valid components (11 ') appear. This stage, repeated K times, is followed by a stage of stacking the K plates, by making metalized holes in the thickness of the stack which are intended for connecting the wafers between the K plates, then cutting the stack to obtain the n 3D modules.
Abstract:
The invention relates to a method for the collective production of a reconstituted wafer that comprises chips with connection pads on a so-called front side of the chip, said method comprising a step of: A) placing the chips on an initial adhesive carrier, front side on the carrier, characterized in that it comprises the following steps: B) depositing, in the gaseous phase at atmospheric pressure and at room temperature, an electrically insulating layer on the initial carrier and the chips, this layer having a mechanical role in supporting the chips; C) transferring the chips covered with the mineral layer to a temporary adhesive carrier, the rear side of the chips facing the temporary adhesive carrier; D) removing the initial adhesive carrier; E) placing the chips on a chuck, the front sides of the chips facing the chuck; F) removing the temporary adhesive carrier; G) depositing a resin over the chuck so as to encapsulate the chips, then curing the resin; H) removing the chuck; and I) producing an RDL on the active side.
Abstract:
L'invention a pour objet un procédé de fabrication collective de modules électroniques 3D, chaque module électronique 3D comprenant un empilement d'au moins deux boîtiers électroniques à billes, reportables en surface, testés à leur température et fréquence de fonctionnement. Il comprend : - une étape de fabrication de plaques reconstituées, chaque plaque reconstituée étant fabriquée selon les sous-étapes suivantes dans l'ordre suivant : ○ A1) les boîtiers électroniques sont posés sur une première peau collante côté billes, ○ B1) moulage des boîtiers électroniques dans la résine et polymérisation de la résine, pour obtenir la plaque intermédiaire, ○ C1) amincissement de la plaque intermédiaire sur la face de la plaque intermédiaire opposée aux billes, ○ D1) retrait de la première peau collante et pose de la plaque intermédiaire sur une deuxième peau collante, côté opposé aux billes, ○ E1) amincissement de la plaque intermédiaire sur la face côté billes, ○ F1) formation d'une couche de redistribution côté billes, ○ G1) retrait de la deuxième peau collante pour obtenir une plaque reconstituée d'épaisseur inférieure à l'épaisseur d'origine des boîtiers électroniques, - plusieurs plaques reconstituées ayant été obtenues à l'issue des sous-étapes précédentes, empilement des plaques reconstituées, - découpe des plaques reconstituées empilées pour obtenir des modules 3D.
Abstract:
L'invention concerne un procédé de fabrication collective d'une plaque reconstituée qui comporte des puces présentant des plots de connexion sur une face de la puce dite face avant, qui comprend les étapes suivantes : A1) positionnement des puces sur un support adhésif, face avant sur le support, B1) dépôt d'une résine sur le support adhésif pour encapsuler les puces, puis polymérisation de la résine, C1) retrait du support adhésif, D1) réalisation d'une couche RDL côté face active. Entre les étapes A1) et B1), il comprend une étape de dépôt en phase gazeuse à la pression atmosphérique et à la température ambiante, d'une couche minérale sur le support adhésif et les puces.
Abstract:
L'invention concerne un procédé de fabrication d'une plaque reconstituée (100) qui comporte des puces (1) présentant des plots de connexion (10), ce procédé comprenant les étapes suivantes de : - fabrication d'une première plaque de puces (1). Il comprend en outre les étapes suivantes : - réalisation sur cette plaque d'un empilement d'au moins une couche de redistribution des plots (10) des puces sur des pistes conductrices (12) destinées à l'interconnexion des puces, cet empilement étant désigné couche RDL principale (14), - découpe de cette plaque pour obtenir des puces (1) individuelles munies chacune de leur couche RDL (14), - report des puces individuelles avec leur couche RDL (14) sur un support suffisamment rigide (20) pour rester plan lors des étapes suivantes, et muni d'une couche de colle (21), avec la couche RDL (14) sur la couche de colle (21), - dépôt d'une résine (30) pour encapsuler les puces (1 ), - polymérisation de la résine, - retrait du support rigide (20), - dépôt d'une seule couche de redistribution dite mini RDL (24) pour relier les pistes conductrices de la couche RDL (14) principale jusqu'à des contacts d'interconnexion, à travers des ouvertures (22) pratiquées dans la couche de colle (21), la plaque comportant la résine polymérisée, les puces avec leur couche de RDL, et la Mini RDL étant la plaque reconstituée (100).
Abstract:
L'invention concerne un procédé de fabrication collective de modules électroniques CMS à partir d'une galette (2') à sorties métallisées comportant des composants électroniques (22, 23, 24) moulés dans de la résine (28) et sur une face, les sorties externes (26) des composants électroniques sur lesquelles est déposé un métal ou un alliage peu ou pas oxydable (21), et d'un circuit imprimé (1) muni de plots (11) en métal ou en alliage peu ou pas oxydable. Il comprend les étapes suivantes de : - découpe de la galette (2') selon des motifs prédéterminés permettant d'obtenir des composants moulés reconfigurés (30) qui comportent au moins un composant électronique, - assemblage des composants reconfigurés (30) sur le circuit imprimé (1), les sorties externes métallisées des composants reconfigurés étant disposés vis-à-vis des plots métallisés (11) du circuit imprimé et, - connexion sans apport de brasure de ces sorties externes, aux plots métallisés du circuit imprimé au moyen d'un matériau (10) à base de métal ou d'alliage peu ou pas oxydable.
Abstract:
The invention relates to the collective fabrication of n 3D modules. A batch of n wafers I are fabricated on one and the same plate. This step is repeated K times. The K plates are stacked. Plated-through holes are formed in the thickness of the stack. These holes are intended for connecting the slices together. The stack is cut in order to obtain the n 3D modules. The plate 10, which comprises silicon, is covered on one face 11 with an electrically insulating layer forming the insulating substrate. This face has grooves 20 that define n geometrical features, which are provided with an electronic component 1 connected to electrical connection pads 2′ placed on said face.
Abstract:
The module has a stack (100) of two slices (10, 30), where the slice (10) has a set of electrically conducting bumps on its face. The slice (30) comprises an electrically insulating material zone (61) passing through the thickness of the slice (30) and an electrically conducting element (3) passing through the slice (30) in the zone. The conducting element and the bumps are made of material having a determined hardness. The hardness of the material of the element (3) is lower than the hardness of the material of the bumps so that the bumps penetrate in the conducting element.