公开(公告)号：KR20180030148A

公开(公告)日：2018-03-21

申请号：KR20187004424

申请日：2016-07-13

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： ROPS CORNELIUS MARIA ,  BOUMAN WILLEM JAN ,  POLET THEODORUS WILHELMUS

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00

CPC classification number: G03F7/70783 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958

Abstract: 리소그래피장치, 침지리소그래피장치와함께사용되는투영시스템, 투영시스템을위한마지막렌즈요소, 액체제어부재및 디바이스제조방법이개시된다. 일구성에서, 리소그래피장치는투영시스템을통해기판(W)의타겟부상으로패터닝된방사선빔(B)을투영하도록구성되는투영시스템(PS)을포함한다. 액체한정구조체(12)는투영시스템과기판사이의공간(10)에침지액체를한정한다. 투영시스템은출구표면을통해패터닝된방사선빔을투영하기위한출구표면(104); 및액체한정구조체와대향하는추가표면(110)을포함한다. 추가표면은침지액체에대해제 1 정적후진접촉각도를갖는다. 출구표면은침지액체에대해제 2 정적후진접촉각도를갖는다. 제 1 정적후진접촉각도는제 2 정적후진접촉각도보다크고; 65°미만이다.

Abstract translation: 公开了一种光刻设备，用于浸没式光刻设备的投影系统，用于投影系统的最后一个透镜元件，液体控制构件以及器件制造方法。 在一种配置中，光刻设备包括投影系统PS，投影系统PS被配置为通过投影系统将图案化的辐射束B投影到衬底W的目标部分上。 液体限制结构12在投影系统和衬底之间的空间10中限定浸没液体。 投影系统包括用于将图案化的辐射束投影穿过出射表面的出射表面（104） 和与液体限制结构相对的附加表面（110）。 附加表面相对于浸没液体具有第一静态后向接触角。 出口表面相对于浸没液体具有第二静态背接触角。 第一静态背接触角大于第二静态背接触角; Lt。

公开(公告)号：JP2007081397A

公开(公告)日：2007-03-29

申请号：JP2006242232

申请日：2006-09-07

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： BOUMAN WILLEM JAN

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70191

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic apparatus having a uniform radiation intensity profile. SOLUTION: A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam; a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto an elongate target portion of the substrate. A uniformity controller is configured to control the profile of the radiation intensity along the length of the target portion of the substrate, thereby substantially compensating for radiation-induced variation of the profile with respect to time. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有均匀辐射强度分布的光刻设备。 解决方案：光刻设备包括：照明系统，被配置为调节辐射束; 支撑件，其形成为支撑图案形成装置，所述图案形成装置形成为将横截面图案赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束; 形成为保持基板的基板台; 以及投影系统，被配置为将所述图案化的辐射束投影到所述基板的细长目标部分上。 均匀性控制器被配置为控制沿着衬底的目标部分的长度的辐射强度的轮廓，从而基本上补偿轮廓相对于时间的辐射引起的变化。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2010034553A

公开(公告)日：2010-02-12

申请号：JP2009168332

申请日：2009-07-17

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： BOUMAN WILLEM JAN ,  MULDER HEINE MELLE ,  ENDENDIJK WILFRED EDWARD ,  OTTE ROB

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03B27/54 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/7085

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a measurement/control apparatus capable of solving one or more problems related to use of an array of individually controllable elements, and/or a method related thereto. SOLUTION: This method of controlling this measurement apparatus for determining a property of an individually controllable element of an array of individually controllable elements, the array of individually controllable elements being capable of controlling a distribution of a beam of radiation, is disclosed. The method includes steps of, for a sequence of a plurality of individually controllable elements: guiding a measurement beam of radiation at an individually controllable element of the plurality of individually controllable elements; and detecting the measurement beam once it has been re-guided by the individually controllable element, wherein the sequence in which the method is undertaken for the plurality of individually controllable elements is related to the orientation of the plurality of individually controllable elements when the plurality of individually controllable elements are oriented to control a distribution of a beam of radiation. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够解决与使用独立可控元件的阵列有关的一个或多个问题的测量/控制装置和/或与其相关的方法。 公开了一种控制该测量装置的方法，用于确定独立可控元件阵列的独立可控元件的特性，该独立可控元件阵列能够控制辐射束的分布。 该方法包括以下步骤：针对多个独立可控元件的顺序：在多个独立可控元件的独立可控元件上引导测量辐射束; 并且一旦已经被独立可控元件重新引导，则检测测量光束，其中对于多个独立可控元件进行该方法的顺序与多个独立可控元件的取向有关，当多个独立可控元件 独立可控元件被定向成控制辐射束的分布。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：NL1036861A1

公开(公告)日：2009-10-27

申请号：NL1036861

申请日：2009-04-16

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BOUMAN WILLEM JAN ,  MULDER HEINE MELLE ,  ENDENDIJK WILFRED EDWARD ,  OTTE ROB

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/66