公开(公告)号：KR20210009445A

公开(公告)日：2021-01-26

申请号：KR20217001688

申请日：2017-08-28

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： VAN DEN EIJNDEN PEPIJN ,  ROPS CORNELIUS MARIA ,  POLET THEODORUS WILHELMUS ,  KEUKENS FLOOR LODEWIJK ,  TANASA GHEORGHE ,  CORTIE ROGIER HENDRIKUS MAGDALENA ,  CUYPERS KOEN ,  BUDDENBERG HAROLD SEBASTIAAN ,  GATTOBIGIO GIOVANNI LUCA ,  VAN VLIET EVERT ,  TEN KATE NICOLAAS ,  FRENCKEN MARK JOHANNES HERMANUS ,  VAN ERVE JANTIEN LAURA ,  TEUNISSEN MARCEL MARIA CORNELIUS FRANCISCUS

IPC: G03F7/20

Abstract: 침지유체를리소그래피장치의일부영역에국한시키도록구성된유체처리구조물(12)은, 침지액체를통해투영비임이통과하도록형성된구멍(15); 제 1 부분(100); 및제 2 부분(200)을포함하고, 제 1 부분과제 2 부분중의적어도하나는영역으로부터침지유체를빼내기위한표면(20)을형성하고, 유체처리구조물은유체처리구조물의표면에출입하는유체유동을제공하고, 제 2 부분에대한제 1 부분의운동은구멍에대한표면에출입하는유체유동의위치를변화시키는데효과적이고, 제 1 부분과제 2 부분중의하나는유체유동이통과하는적어도하나의관통공(51, 61)을포함하고, 제 1 부분과제 2 부분중의다른하나는유체유동이통과하는적어도하나의개구(55, 65)를포함하며, 적어도하나의관통공및 적어도하나의개구는서로정렬되면유체연통하고, 운동에의해적어도하나의개구가적어도하나의관통공중의하나와정렬되어, 구멍에대한표면에출입하는유체유동의위치가변하게된다.

公开(公告)号：KR20180030148A

公开(公告)日：2018-03-21

申请号：KR20187004424

申请日：2016-07-13

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： ROPS CORNELIUS MARIA ,  BOUMAN WILLEM JAN ,  POLET THEODORUS WILHELMUS

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00

CPC classification number: G03F7/70783 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958

Abstract: 리소그래피장치, 침지리소그래피장치와함께사용되는투영시스템, 투영시스템을위한마지막렌즈요소, 액체제어부재및 디바이스제조방법이개시된다. 일구성에서, 리소그래피장치는투영시스템을통해기판(W)의타겟부상으로패터닝된방사선빔(B)을투영하도록구성되는투영시스템(PS)을포함한다. 액체한정구조체(12)는투영시스템과기판사이의공간(10)에침지액체를한정한다. 투영시스템은출구표면을통해패터닝된방사선빔을투영하기위한출구표면(104); 및액체한정구조체와대향하는추가표면(110)을포함한다. 추가표면은침지액체에대해제 1 정적후진접촉각도를갖는다. 출구표면은침지액체에대해제 2 정적후진접촉각도를갖는다. 제 1 정적후진접촉각도는제 2 정적후진접촉각도보다크고; 65°미만이다.

Abstract translation: 公开了一种光刻设备，用于浸没式光刻设备的投影系统，用于投影系统的最后一个透镜元件，液体控制构件以及器件制造方法。 在一种配置中，光刻设备包括投影系统PS，投影系统PS被配置为通过投影系统将图案化的辐射束B投影到衬底W的目标部分上。 液体限制结构12在投影系统和衬底之间的空间10中限定浸没液体。 投影系统包括用于将图案化的辐射束投影穿过出射表面的出射表面（104） 和与液体限制结构相对的附加表面（110）。 附加表面相对于浸没液体具有第一静态后向接触角。 出口表面相对于浸没液体具有第二静态背接触角。 第一静态背接触角大于第二静态背接触角; Lt。