公开(公告)号：JP2013172149A

公开(公告)日：2013-09-02

申请号：JP2013013231

申请日：2013-01-28

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： VAN DEN NEWWELLER NORBERTUS JOSEPHUS MARIA ,  FRANCISCUS VAN GILS PETRUS ,  ARTHUR ERLAND SWAVING

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/677

CPC classification number: G03F7/7075 ,  G03F7/00 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70991

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To improve processing of a substrate performed by a substrate handler, and improve thermal conditions for the substrate supplied to a lithographic apparatus for exposure to light.SOLUTION: Provided is a substrate handler for transferring a substrate to be exposed to light from a track to a lithographic apparatus. The substrate handler is configured to determine an instance for starting a process of transferring the substrate. The instance is based on a predetermined processing characteristic of the lithographic apparatus in order to keep substrate transfer time in the substrate handler substantially constant.

Abstract translation: 要解决的问题：改善由基板处理器执行的基板的处理，并且改善供给光刻设备的基板的曝光光的热条件。解决方案：提供一种用于将基板转印以暴露于光的基板处理器 从轨道到光刻设备。 衬底处理器被配置为确定用于启动转移衬底的过程的实例。 该实例基于光刻设备的预定处理特性，以便保持基板处理器中的基板传送时间基本恒定。

公开(公告)号：JP2019020729A

公开(公告)日：2019-02-07

申请号：JP2018133192

申请日：2018-07-13

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BIJNEN FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER ,  KANEHARA JUNICHI ,  KEIJ STEFAN CAROLUS J A ,  MATAR THOMAS AUGUSTUS ,  FRANCISCUS VAN GILS PETRUS

IPC: G03F7/20 ,  G01B11/00

Abstract: 【課題】計測装置のスループット性能及び/又は経済性を改善する。【解決手段】本計測装置は、第1の測定装置と、第2の測定装置と、第1の基板及び/又は第2の基板を保持するように構成された第1の基板ステージと、第1の基板及び/又は第2の基板を保持するように構成された第2の基板ステージと、第1の基板及び/又は第2の基板をハンドリングするように構成された第1の基板ハンドラと、第1の基板及び/又は第2の基板をハンドリングするように構成された第2の基板ハンドラと、を備え、第1の基板は、第1、第2又は第3のFOUPからロードされ、第2の基板は、第1、第2又は第3のFOUPからロードされ、第1の測定装置は、アライメント測定装置であり、第2の測定装置は、レベルセンサ、膜厚測定装置又は分光反射率測定装置である。【選択図】図4