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    리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법
    2.
    发明公开
    리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 审中-公开
    光刻设备和器件制造方法

    公开(公告)号：KR20180018805A

    公开(公告)日：2018-02-21

    申请号：KR20187001676

    申请日：2016-07-07

    Applicant: ASML NETHERLANDS BV

    Inventor： BIJNEN FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER ,  HULSEBOS EDO MARIA

    IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

    CPC classification number: G03F9/7046

    Abstract: 리소그래피장치로서, 방사선빔을조절하도록구성되는조명시스템; 패터닝디바이스를지지하도록구성되는지지체 - 상기패터닝디바이스는방사선빔의단면에패턴을부여하여패터닝된방사선빔을형성할수 있음 -; 기판을홀딩하도록구성되는기판테이블 ; 및상기패터닝된방사선빔을상기기판의타겟부상에투영하도록구성되는투영시스템을포함하고, 상기리소그래피장치는, 상기기판상에존재하는하나이상의정렬마크에대하여, - 복수개의상이한정렬측정파라미터들각각을적용하여상기정렬마크에대하여복수개의정렬마크위치측정을수행함으로써, 상기정렬마크에대한복수개의측정된정렬마크위치를획득하도록구성되는정렬시스템을더 포함하며, 상기리소그래피장치는처리유닛을더 포함하고, 상기처리유닛은, - 복수개의정렬마크위치측정들각각에대하여, 기대된정렬마크위치와측정된정렬마크위치사이의차이로서위치상편차를결정하고 - 상기측정된정렬마크위치는 각각의정렬마크위치측정에기초하여결정됨 -; - 상기위치상편차에대한가능한원인으로서함수의세트를규정하며 - 상기함수의세트는 상기기판의변형을 나타내는기판변형함수및 상기하나이상의정렬마크의변형을 나타내는적어도하나의마크변형함수를포함함 -; - 행렬방정식 PD = M*F를생성하고 - 상기위치상편차를포함하는벡터 PD는, 상기기판변형함수및 적어도하나의마크변형함수를포함하는벡터 F의, 가중치계수행렬 M에의해표현되는가중된조합과같도록설정되고, 상기적어도하나의마크변형함수와 연관된가중치계수는 적용된정렬측정에따라달라짐 -; - 상기행렬 M의가중치계수에대한값을결정하며; - 상기행렬 M의역행렬또는의사역행렬을결정함으로써, 상기기판변형함수에 대한값을상기위치상편차의가중된조합으로서획득하고; - 상기패터닝된방사선빔과상기타겟부의정렬을수행하도록상기기판변형함수에 대한값을적용하도록구성되는, 리소그래피장치가기술된다.

    Abstract translation: 1。一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束; 其中图案形成装置配置为支撑图案形成装置，图案形成装置将图案赋予辐射束的横截面以形成图案化的辐射束; 衬底台，被构造为保持衬底; 和图案化的辐射束并且被配置为投射在衬底上，所述光刻设备的目标部分，用于一个或多个存在于基板上的对准标记的投影系统， - 多个每个不同的对准测量的参数的 通过相对于执行多个对准标记的位置测量的以该对准标记，还包括：用于获取多个用于对准标记测量的对准标记位置的对准系统应用，所述光刻设备进一步的处理单元 并且，对于多个对准标记位置测量中的每一个，确定作为预期对准标​​记位置和测量对准标记位置之间的差异的位置偏差， 基于对准标记位置测量确定; - 定义一组功能作为所述位置偏差的可能原因，所述一组功能包括至少一个代表所述衬底的变形的标记变形函数和所述至少一个对准标记的变形 - ; - 生成矩阵方程PD = M * F，并且包括所述位置偏差的矢量PD由包括所述衬底失真函数和至少一个标记失真函数的矢量F的权重系数矩阵M表征， 与至少一个标记变形函数相关联的权重系数根据所应用的对准测量而变化; - 确定所述矩阵M的加权因子的值; 通过确定矩阵M或矩阵的伪逆来获得用于衬底变形函数的值作为位置偏差的加权组合; 光刻设备被配置为施加用于衬底变形函数的值以执行图案化的辐射束与目标部分的对准。

    Alignment measurement arrangement, alignment measurement method, device manufacturing method, and lithographic apparatus
    4.
    发明专利
    Alignment measurement arrangement, alignment measurement method, device manufacturing method, and lithographic apparatus 有权
    对准测量安排，对准测量方法，设备制造方法和平面设备

    公开(公告)号：JP2010232656A

    公开(公告)日：2010-10-14

    申请号：JP2010063391

    申请日：2010-03-19

    Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

    Inventor： BIJNEN FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER ,  FRANCISCUS VAN HAREN RICHARD JOHANNES ,  XIUHONG WEI

    IPC: H01L21/027 ,  G03F9/00

    CPC classification number: G03B27/42 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7092

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an alignment arrangement and an alignment method which reduce influences of change by marks. SOLUTION: The alignment measurement arrangement includes a light source, an optical system and a detector. The light source generates a radiation beam with a plurality of wavelength ranges. The optical system receives the radiation beam, produces an alignment beam, directs the alignment beam to a mark located on an object, receives alignment radiation back from the mark, and transmits the received radiation. The detector receives the alignment radiation, detects an image of the alignment mark and outputs a plurality of alignment signals (r) each associated with one of the wavelength ranges. A processor, in communication with the detector, receives the alignment signals, determines signal qualities of the alignment signals, determines aligned positions of the alignment signals, and calculates a position of the alignment mark based on the signal qualities, aligned positions, and a model relating the aligned position to the range of wavelengths and mark characteristics, including mark depth and mark asymmetry. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题：提供减少标记变化影响的对准布置和对准方法。 解决方案：对准测量装置包括光源，光学系统和检测器。 光源产生具有多个波长范围的辐射束。 光学系统接收辐射束，产生对准光束，将对准光束引导到位于物体上的标记，从标记接收对准辐射，并发送接收到的辐射。 检测器接收对准辐射，检测对准标记的图像，并输出与波长范围之一相关联的多个对准信号（r）。 与检测器通信的处理器接收对准信号，确定对准信号的信号质量，确定对准信号的对准位置，并根据信号质量，对准位置和模型计算对准标记的位置 将对准位置与波长范围和标记特征相关联，包括标记深度和标记不对称。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

    計測装置及び基板ステージ・ハンドラ・システム
    5.
    发明专利
    計測装置及び基板ステージ・ハンドラ・システム 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019020729A

    公开(公告)日：2019-02-07

    申请号：JP2018133192

    申请日：2018-07-13

    Applicant: ASML NETHERLANDS BV

    Inventor： BIJNEN FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER ,  KANEHARA JUNICHI ,  KEIJ STEFAN CAROLUS J A ,  MATAR THOMAS AUGUSTUS ,  FRANCISCUS VAN GILS PETRUS

    IPC: G03F7/20 ,  G01B11/00

    Abstract: 【課題】計測装置のスループット性能及び/又は経済性を改善する。【解決手段】本計測装置は、第1の測定装置と、第2の測定装置と、第1の基板及び/又は第2の基板を保持するように構成された第1の基板ステージと、第1の基板及び/又は第2の基板を保持するように構成された第2の基板ステージと、第1の基板及び/又は第2の基板をハンドリングするように構成された第1の基板ハンドラと、第1の基板及び/又は第2の基板をハンドリングするように構成された第2の基板ハンドラと、を備え、第1の基板は、第1、第2又は第3のFOUPからロードされ、第2の基板は、第1、第2又は第3のFOUPからロードされ、第1の測定装置は、アライメント測定装置であり、第2の測定装置は、レベルセンサ、膜厚測定装置又は分光反射率測定装置である。【選択図】図4

    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    6.
    发明专利
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法

    公开(公告)号：JP2010123949A

    公开(公告)日：2010-06-03

    申请号：JP2009257618

    申请日：2009-11-11

    Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

    Inventor： BIJNEN FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER ,  ROIJERS JOZEF CORNELIS ANTONIUS ,  WARNAAR PATRICK ,  VAN KEMENADE MARC ,  TOLSMA HOITE PIETER THEODOOR

    IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

    CPC classification number: G03F9/7049 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7084

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic apparatus having excellent alignment reproducibility. SOLUTION: A method for manufacturing the device includes providing a substrate, the substrate including a plurality of exposure fields, each exposure field including one or more target portions and at least one mark structure, the mark structure being arranged as positional mark for the exposure field; scanning and measuring the mark of each exposure field to obtain alignment information for the respective corresponding exposure fields; determining an absolute position of each exposure field from the alignment information for the respective corresponding exposure fields; determining a relative position of each exposure field with respect to at least one other exposure field by use of additional information on the relative parameters of the exposure field and the at least one other exposure field relative to each other; and combining the absolute positions and the determined relative positions into improved absolute positions for each of the plurality of exposure fields. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题：提供具有优异的取向再现性的光刻设备。 解决方案：一种制造该器件的方法，包括提供衬底，所述衬底包括多个曝光场，每个曝光场包括一个或多个目标部分和至少一个标记结构，所述标记结构被布置为位置标记 曝光场; 扫描和测量每个曝光场的标记以获得各个相应的曝光场的对准信息; 从各个对应的曝光场的对准信息确定每个曝光场的绝对位置; 通过使用关于相对于彼此的曝光场和至少一个其他曝光场的相对参数的附加信息来确定每个曝光场相对于至少一个其它曝光场的相对位置; 以及将所述绝对位置和所确定的相对位置组合为所述多个曝光场中的每一个的改进的绝对位置。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

    Alignment determination system, lithography apparatus, and method of determining alignment in lithography apparatus
    7.
    发明专利
    Alignment determination system, lithography apparatus, and method of determining alignment in lithography apparatus 审中-公开
    对准确定系统，平面设备，以及确定雕刻设备中的对准方法

    公开(公告)号：JP2014132695A

    公开(公告)日：2014-07-17

    申请号：JP2014079408

    申请日：2014-04-08

    Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

    Inventor： BIJNEN FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER ,  DECKERS DAVID ,  SAMI MUSA

    IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F9/00

    CPC classification number: G03F7/70141 ,  G01B9/02 ,  G01B11/272 ,  G01D5/344 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7088

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an alignment determination system for determining an alignment target on an object that is the alignment determination system capable of providing a better signal to noise ratio.SOLUTION: The present invention provides an alignment determination system for determining an alignment target on an object. The alignment determination system comprises: a lighting source which provides a determining beam towards an object; a detector system which receives the determining beam after being reflected on the object; and a processing unit which determines the alignment based on the determining beam received by the detector system. The determination system comprises: a beam division device; and a polarizing device which polarizes a first beam part and/or a second beam part, or changes the polarization. A polarization angle of the first beam part acquired as a result differs from a polarization angle of the second beam part acquired as a result. The processing unit is configured so as to determine the alignment based on a signal including comparison between the polarized first beam part and the polarized second beam part.

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于确定能够提供更好的信噪比的对准确定系统的物体上的对准目标的对准确定系统。解决方案：本发明提供一种用于确定对准目标的对准确定系统 对象上 对准确定系统包括：向物体提供确定光束的照明源; 检测器系统，其在物体上反射之后接收确定光束; 以及处理单元，其基于由所述检测器系统接收的确定波束来确定所述对准。 确定系统包括：分束装置; 以及使第一光束部分和/或第二光束部分偏振或改变偏振的偏振装置。 作为结果获得的第一光束部分的偏振角与获得的第二光束部分的偏振角不同。 处理单元被配置为基于包括偏振的第一光束部分和偏振的第二光束部分之间的比较的信号来确定对准。

    Measuring method, apparatus, and substrate
    8.
    发明专利
    Measuring method, apparatus, and substrate 有权
    测量方法，装置和基板

    公开(公告)号：JP2012146959A

    公开(公告)日：2012-08-02

    申请号：JP2011255747

    申请日：2011-11-24

    Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

    Inventor： DAVID DECKERS ,  BIJNEN FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER ,  MUSA SAMI

    IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66

    CPC classification number: G03F7/70683 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7088

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metrological method capable of measuring particularly CD and overlay among a number of parameters by using a sensor of a type normally used for position measurements in a lithographic apparatus itself.SOLUTION: A pattern includes first and second sub-patterns 312 and 316, mutually adjacently positioned on a substrate, and having a first and a second periodicity respectively. The pattern is observed and a combined signal is obtained, which contains a beat component having a third periodicity at a frequency lower than frequencies of the first and the second periodicity. A measured value of lithographic process performance is obtained by referring to a phase of the beat component. The measurement can be carried out by using an existing alignment sensor of a lithographic apparatus. Sensitivity and accuracy of the measurement can be adjusted by selection of the first and the second periodicity, and therefore the third periodicity.

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够通过使用通常用于光刻设备本身中的位置测量的类型的传感器来特别地测量多个参数中的CD并覆盖的计量方法。 解决方案：图案包括彼此相邻地定位在基板上并且分别具有第一和第二周期性的第一和第二子图案312和316。 观察图案，并且获得组合信号，其包含具有低于第一和第二周期的频率的频率的具有第三周期性的拍子分量。 通过参考拍子分量的相位来获得光刻处理性能的测量值。 可以通过使用光刻设备的现有对准传感器来进行测量。 测量的灵敏度和精度可以通过选择第一和第二周期来调节，因此可以通过第三周期性来调整。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

    Alignment determination system, lithography apparatus, and method of determining alignment in lithography apparatus
    9.
    发明专利
    Alignment determination system, lithography apparatus, and method of determining alignment in lithography apparatus 有权
    对准确定系统，平面设备，以及确定雕刻设备中的对准方法

    公开(公告)号：JP2012060131A

    公开(公告)日：2012-03-22

    申请号：JP2011196769

    申请日：2011-09-09

    Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

    Inventor： BIJNEN FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER ,  DECKERS DAVID ,  SAMI MUSA

    IPC: H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/70141 ,  G01B9/02 ,  G01B11/272 ,  G01D5/344 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7088

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an alignment determination system for determining an alignment target on an object that is the alignment determination system capable of providing a better signal to noise ratio.SOLUTION: The present invention provides an alignment determination system for determining an alignment target on an object. The alignment determination system comprises: a lighting source which provides a determining beam towards an object; a detector system which receives the determining beam after being reflected on the object; and a processing unit which determines the alignment based on the determining beam received by the detector system. The determination system comprises: a beam division device; and a polarizing device which polarizes a first beam part and/or a second beam part, or changes the polarization. A polarization angle of the first beam part acquired as a result differs from a polarization angle of the second beam part acquired as a result. The processing unit is configured so as to determine the alignment based on a signal including comparison between the polarized first beam part and the polarized second beam part.

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于确定作为能够提供更好的信噪比的对准确定系统的物体上的对准目标的对准确定系统。 解决方案：本发明提供一种用于确定物体上的对准目标的对准确定系统。 对准确定系统包括：向物体提供确定光束的照明源; 检测器系统，其在物体上反射之后接收确定光束; 以及处理单元，其基于由所述检测器系统接收的确定波束来确定所述对准。 确定系统包括：分束装置; 以及使第一光束部分和/或第二光束部分偏振或改变偏振的偏振装置。 作为结果获得的第一光束部分的偏振角与获得的第二光束部分的偏振角不同。 处理单元被配置为基于包括偏振的第一光束部分和偏振的第二光束部分之间的比较的信号来确定对准。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

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