公开(公告)号：JP2012235095A

公开(公告)日：2012-11-29

申请号：JP2012092239

申请日：2012-04-13

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： JAN BEX ,  KATE NICOLAAS TEN ,  LAFARRE RAYMOND WILHELMUS LOUIS ,  DAMEN JOHANNES WILHELMUS ,  BRINKHOF EUGENE MARIA ,  KARADE YOGESH PRAMOD

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/683

CPC classification number: G03F7/70708 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70875

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate holder, a lithographic apparatus, a device manufacturing method, and a method of manufacturing the substrate holder.SOLUTION: A method of manufacturing a substrate holder for use in a lithographic apparatus includes: providing a main body having a surface, and a plurality of burls projecting from the surface and having end surfaces to support a substrate; providing a carrier surface adjacent to the main body surface; and forming a conductive layer on at least a part of the main body surface and an integral part on at least a part of the carrier surface.

Abstract translation: 要解决的问题：提供基板保持器，光刻设备，器件制造方法和制造衬底保持器的方法。 解决方案：一种制造用于光刻设备的衬底保持器的方法包括：提供具有表面的主体和从表面突出并具有端面以支撑衬底的多个毛刺; 提供邻近所述主体表面的载体表面; 以及在所述主体表面的至少一部分和所述载体表面的至少一部分上的整体部分中形成导电层。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2014207480A

公开(公告)日：2014-10-30

申请号：JP2014147330

申请日：2014-07-18

Applicant: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. ,  Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： RAYMOND WILHELMUS LOUIS LAFARRE ,  DZIOMKINA NINA VLADIMIROVNA ,  KARADE YOGESH PRAMOD ,  RHODENBURUK ELIZABETH COLIN ,  PETER VAN DELFT

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/683

CPC classification number: G03F7/70716 ,  B05D1/005 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/707

Abstract: 【課題】1つ又は複数の薄膜コンポーネントなどの1つ又は複数の電子コンポーネントがその上で形成される基板テーブル又は基板ホルダを提供する。【解決手段】リソグラフィ装置の基板ホルダは、その表面に設けられた平坦化層を有する。平坦化層は、電子コンポーネントを形成する薄膜スタックを形成するために滑らかな表面を提供する。平坦化層は実質的に均一な厚さである、及び/又はその外面は10μm未満の山部から谷部までの距離を有する。平坦化層は、異なる濃度の2つの溶液を付与することによって形成することができる。バールに表面処理を施して、平坦化層材料の溶液を反発することができる。【選択図】図13

Abstract translation: 要解决的问题：提供要形成诸如一个或多个薄膜部件的一个或多个电子部件的基板台或基板保持件。解决方案：用于光刻设备的基板保持器具有提供的平坦化层 在其表面上。 平坦化层提供用于形成形成电子部件的薄膜叠层的光滑表面。 平坦化层具有基本均匀的厚度，和/或其外表面具有小于10μm的峰谷距离。 可以通过施加不同浓度的两种溶液来形成平坦化层。 表面处理可以应用于毛刺以排斥平坦化层的材料溶液。

公开(公告)号：JP2013089956A

公开(公告)日：2013-05-13

申请号：JP2012223465

申请日：2012-10-05

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： LAFARRE RAYMOND WILHELMUS LOUIS ,  DZIOMKINA NINA VLADIMIROVNA ,  KARADE YOGESH PRAMOD ,  RHODENBURUK ELIZABETH COLIN ,  PETER VAN DELFT

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/683

CPC classification number: G03F7/70716 ,  B05D1/005 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/707

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate table or substrate holder on which one or more electronic components, such as one or more thin-film components, are to be formed.SOLUTION: A substrate holder for a lithographic apparatus has a planarization layer provided on a surface thereof. The planarization layer provides a smooth surface for formation of a thin film stack forming an electronic component. The planarization layer is of substantially uniform thickness, and/or its outer surface has a peak-to-valley distance of less than 10 μm. The planarization layer may be formed by applying two solutions of different concentration. A surface treatment may be applied to burls to repel a solution of material of the planarization layer.

Abstract translation: 要解决的问题：提供要在其上形成诸如一个或多个薄膜部件的一个或多个电子部件的基板台或基板保持件。 解决方案：用于光刻设备的衬底保持器具有设置在其表面上的平坦化层。 平坦化层提供用于形成形成电子部件的薄膜叠层的光滑表面。 平坦化层具有基本均匀的厚度，和/或其外表面具有小于10μm的峰谷距离。 可以通过施加不同浓度的两种溶液来形成平坦化层。 表面处理可以应用于毛刺以排斥平坦化层的材料溶液。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012175104A

公开(公告)日：2012-09-10

申请号：JP2012027614

申请日：2012-02-10

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： LAFARRE RAYMOND WILHELMUS LOUIS ,  KATE NICOLAAS TEN ,  DZIOMKINA NINA VLADIMIROVNA ,  KARADE YOGESH PRAMOD ,  TROMP SIEGFLIED ALEXANDER ,  RIJSSEN JACOBS JOSEPHS ,  RHODENBURUK ELIZABETH COLIN ,  FITZ MAURICE WILHELMS LEONARDS HENDRIX ,  HENDRIK HUISMAN

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/683

CPC classification number: G03F7/70716 ,  B05D3/02 ,  G01J5/0285 ,  G01J5/20 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70708

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate table or substrate holder on which one or more electronic components, such as one or more thin-film components, are formed.SOLUTION: A substrate holder for a lithographic apparatus has a planarization layer provided on a surface thereof. The planarization layer provides a smooth surface for the formation of a thin film stack forming an electronic component. The thin film stack comprises an (optional) isolation layer, a metal layer forming an electrode, a sensor, a heater, a transistor or a logic device, and a top isolation layer.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种形成有一个或多个薄膜部件等电子部件的基板台或基板支架。 解决方案：用于光刻设备的衬底保持器具有设置在其表面上的平坦化层。 平坦化层为形成电子部件的薄膜叠层的形成提供光滑的表面。 薄膜堆叠包括（可选）隔离层，形成电极的金属层，传感器，加热器，晶体管或逻辑器件以及顶部隔离层。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2014225669A

公开(公告)日：2014-12-04

申请号：JP2014113682

申请日：2014-06-02

Applicant: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. ,  Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： RAYMOND WILHELMUS LOUIS LAFARRE ,  NICOLAAS TEN KATE ,  DZIOMKINA NINA VLADIMIROVNA ,  KARADE YOGESH PRAMOD ,  TROMP SIEGFLIED ALEXANDER ,  RIJSSEN JACOBS JOSEPHS ,  RHODENBURUK ELIZABETH COLIN ,  FITZ MAURICE WILHELMS LEONARDS HENDRIX ,  HENDRIK HUISMAN

IPC: H01L21/027 ,  G01K7/18 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  B05D3/02 ,  G01J5/0285 ,  G01J5/20 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70708

Abstract: 【課題】1つ又は複数の薄膜コンポーネントなどの1つ又は複数の電子コンポーネントがその上に形成される基板テーブル又は基板ホルダを提供する。【解決手段】リソグラフィ装置用の基板ホルダはその表面に設けられた平坦化層108を有している。平坦化層108は、電気コンポーネントを形成する薄膜積層体200を形成するために平滑な表面を提供する。薄膜積層体200は、(任意選択として)絶縁層と、電極を形成する金属層と、センサと、ヒータと、トランジスタ又は論理デバイスと、上部の絶縁層とを備える。【選択図】図20

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种形成有一个或多个电子部件如一个或多个薄膜部件的基板台或基板保持件。解决方案：用于光刻设备的基板保持器具有设置在其上的平坦化层108 其表面。 平坦化层108提供用于形成形成电子部件的薄膜叠层200的光滑表面。 薄膜叠层200包括（可选）隔离层，形成电极的金属层，传感器，加热器，晶体管或逻辑器件以及顶部隔离层。

公开(公告)号：SG183603A1

公开(公告)日：2012-09-27

申请号：SG2012003877

申请日：2012-01-18

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： LAFARRE RAYMOND WILHELMUS LOUIS ,  TEN KATE NICOLAAS ,  DZIOMKINA NINA VLADIMIROVNA ,  KARADE YOGESH PRAMOD ,  TROMP SIEGFRIED ALEXANDER ,  LEIJSSEN JACOBUS JOSEPHUS ,  RODENBURG ELISABETH CORINNE ,  FEIJTS MAURICE WILHELMUS LEONARDUS HENDRICUS ,  HUISMAN HENDRIK

Abstract: A substrate holder for a lithographic apparatus has a planarization layer provided on a surface thereof. The planarization layer provides a smooth surface for the formation of a thin film stack forming an electronic component. The thin film stack comprises an (optional) isolation layer, a metal layer forming an electrode, a sensor, a heater, a transistor or a logic device, and a top isolation layer. Fig. 20