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    フォトレジスト組成物
    1.
    发明专利
    フォトレジスト組成物 有权
    光电组合物

    公开(公告)号：JP2015024995A

    公开(公告)日：2015-02-05

    申请号：JP2014164977

    申请日：2014-08-13

    Applicant: ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ,  Basf Se ,  ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se

    Inventor： KURA HISATOSHI ,  SAMEJIMA KAORI ,  KUNIMOTO KAZUHIKO ,  NESVADBA PETER ,  OHWA MASAKI

    IPC: C07D498/10 ,  C07D211/94 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40

    CPC classification number: G03F7/028 ,  C07D211/94 ,  C07D491/113 ,  C08F110/02 ,  C08F110/06 ,  C08F265/02 ,  C08K5/3435 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/031 ,  G03F7/40 ,  C08L33/06

    Abstract: 【課題】本発明は新規なヒドロキシルアミンエステル、カラーフィルタを製造するために使用される前記ヒドロキシルアミンエステルを含むラジカル重合性組成物及び前記ヒドロキシルアミンエステルの使用に関する。【解決手段】式IC’のヒドロキシアミンエステル及び式IC’のヒドロキシアミンエステルを含むラジカル重合性組成物を提供する。また、式IC’のヒドロキシアミンエステルについて、カラーフィルタを製造するための使用、ポストベークプロセスにおいてC=C転化率を改善するための使用、任意に他の開始剤と組み合わせてコーティングを製造するための使用、並びにポリプロピレンの制御された分解のための及びポリエチレンの分子量又は架橋の制御されたビルドアップのための使用を提供する。【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种新的羟胺酯和可自由基聚合的组合物，其包含用于制造滤色器的羟胺酯，并使用上述羟胺酯。溶液：本发明提供由式IC表示的羟胺酯 '和包含式IC'的羟胺酯的自由基聚合性组合物。 本发明进一步提供了关于式IC'的羟胺酯：使用羟胺酯制造滤色器; 用于提高后烘烤过程中的C = C转化率; 用于制备任选地与另一种引发剂组合的涂层; 并用于聚丙烯的受控分解和用于聚集分子量或交联聚乙烯的受控聚集。

    3.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：AT496027T

    公开(公告)日：2011-02-15

    申请号：AT09177920

    申请日：2006-11-08

    Applicant: BASF SE

    Inventor： MATSUMOTO AKIRA ,  TANABE JUNICHI ,  KURA HISATOSHI ,  OHWA MASAKI

    IPC: C07D209/86 ,  G03F1/88 ,  C07D209/88 ,  C07D403/10 ,  C07D409/10 ,  G03F7/004

    Abstract: Compounds of the formula II, and III wherein R 1 , R 2 , R' 2 and R"' 2 for example are C 1 -C 20 alkyl; R 3 , R 4 , and R 5 for example independently of one another are hydrogen or a defined substituent provided that at least one of R 3 , R 4 or R 5 is other than hydrogen or C 1 -C 20 alkyl; R 6 , R 7 , R 8 , R' 6 , R' 7 , R' 8 , R" 6 , R" 7 , R"' 6 and R"' 7 for example independently of one another have one of the meanings as given for R 3 , R 4 , and R 5 ; and R 9 for example is C 1 -C 20 alkyl; exhibit an unexpectedly good performance in photopolymerization reactions.

    5.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：AT458211T

    公开(公告)日：2010-03-15

    申请号：AT01985295

    申请日：2001-09-18

    Applicant: BASF SE

    Inventor： YAMATO HITOSHI ,  ASAKURA TOSHIKAGE ,  MATSUMOTO AKIRA ,  OHWA MASAKI

    IPC: G03F7/004 ,  C07C309/63 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

    Abstract: New oxime sulfonate compounds of the formula I, II, III, IV, V, VI and VII R 1 is for example C 1 -C 18 alkylsulfonyl, R 2 is halogen or C 1 -C 10 haloalkyl; R 3 is for example unsubstitude or substituted phenylenedisulfonyl, diphenylenedisulfonyl, or oxydiphenylenedisulfonyl; Ar 1 is for example a direct bond, C 1 -C 12 alkylene; -O-C-bond or a -O-Si-bond which cleaves upon the action of an acid; A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , A 6 , A 7 , A 8 , A 9 , A 10 , A 11 and A 12 are for example a direct bond, -O-, or -S-, or are C 1 -C 12 alkylene or phenylene unsubstituted or substituted; Y 1 is C 1 -C 12 alkylene which is for example substituted by OR 4 , or SR 7 ; Y 2 is e.g. a trivalent radical of C 1 -C 12 alkylene; Y 3 is e.g. a tetravalent radical of C 1 -C 12 alkylene; X is halogen; Ar' 1 is for example C 1 -C 12 alkyl which is unsubstituted or substituted; Ar'' 1 is for example phenylene; provided that at least one of the radicals Ar' 1 , Ar'' 1 , is substituted by 1 to 3 groups of example halogen; R 15 , R 16 , R 17 and R 18 e.g. hydrogen or phenyl; R 19 , R 20 , R 21 , R 22 R 23 are e.g. phenyl; are especially suitable for the preparation of photoresists.

    6.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：DE60234095D1

    公开(公告)日：2009-12-03

    申请号：DE60234095

    申请日：2002-06-04

    Applicant: BASF SE

    Inventor： KUNIMOTO KAZUHIKO ,  TANABE JUNICHI ,  KURA HISATOSHI ,  OKA HIDETAKA ,  OHWA MASAKI

    IPC: C08F2/50 ,  G02B5/20 ,  C07C251/64 ,  C07C251/66 ,  C07C323/22 ,  C07C323/47 ,  C07D209/86 ,  C07D311/16 ,  C08F10/00 ,  G03F7/031 ,  H01L21/027

    Abstract: Compounds of the formulae I, II and III wherein R 1 is for example hydrogen, C 3 -C 8 cycloalkyl, C 1 -C 12 alkyl, phenyl unsubstituted or substituted; R 2 and R 2 ' for example are hydrogen, C 1 -C 20 alkyl, C 3 -C 8 cycloalkyl or phenyl, unsubstituted or substituted, or are Ar 1 is for example phenyl, optionally substituted by e.g. Ar 2 is for example phenylene, optionally substituted e.g. by -(CO)R 7 , (D), (E) or (F); Ar 3 is for example phenyl; M 1 , M 2 and M 3 are, for example, C 1 -C 20 alkylene; M 4 is for example direct bond, -O-, -S-, -Y-(C 1 -C 10 alkylene)-Y'-, optionally substituted; Y and Y' are for example a direct bond or -O-; R 7 is for example hydrogen, C 1 -C 20 alkyl or phenyl, optionally substituted; R 8 , R 9 , R 8 ' and R 9 ' are for example hydrogen or C 1 -C 12 alkyl, exhibit an unexpectedly good performance in photopolymerization reactions.

    COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE.
    7.
    发明专利
    COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE. 未知

    公开(公告)号：ES2375471T3

    公开(公告)日：2012-03-01

    申请号：ES02758358

    申请日：2002-07-18

    Applicant: BASF SE

    Inventor： KURA HISATOSHI ,  OKA HIDETAKA ,  OHWA MASAKI

    IPC: G03F7/031 ,  C08F2/50 ,  G02B5/20 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

    Abstract: Una composición fotosensible que comprende, (A) un oligómero o polímero que contiene al menos un grupo de ácido carboxílico en la molécula y tiene un peso molecular de 200000 o menos; (B) al menos un compuesto fotoiniciador de fórmula I R1 es alquiloC1-C12 lineal o ramificado; R2 es alquilo C1-C4 lineal o ramificado; R3 y R4 independientemente uno de otro son alquilo C1-C8 lineal o ramificado; y (C) un compuesto monomérico, oligomérico o polimérico que tiene al menos un doble enlace olefínico.

    8.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：AT530951T

    公开(公告)日：2011-11-15

    申请号：AT02758358

    申请日：2002-07-18

    Applicant: BASF SE

    Inventor： KURA HISATOSHI ,  OKA HIDETAKA ,  OHWA MASAKI

    IPC: G03F7/031 ,  C08F2/50 ,  G02B5/20 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

    Abstract: A photopolymerization process for producing pigmented and non-pigmented articles comprises irradiating with electromagnetic radiation in the range from 190 to 600 nm, or with electron beam or with X-rays a photosensitive composition which can be developed by alkali solution which composition comprises (A) a polymer containing at least one carboxylic acid group in the molecule and having a molecular weight of 200,000 or less, (B) selected alpha-aminoalkylphenone compounds as photoinitiators and (C) an ester of a polyol, wherein the polyol is partially or fully esterified with an ethylenically unsaturated carboxylic acid a monomeric, oligomeric or polymeric compound having at least one olefinic double bond.

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