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    フォトレジスト組成物
    1.
    发明专利
    フォトレジスト組成物 有权
    光电组合物

    公开(公告)号：JP2015024995A

    公开(公告)日：2015-02-05

    申请号：JP2014164977

    申请日：2014-08-13

    Applicant: ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ,  Basf Se ,  ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se

    Inventor： KURA HISATOSHI ,  SAMEJIMA KAORI ,  KUNIMOTO KAZUHIKO ,  NESVADBA PETER ,  OHWA MASAKI

    IPC: C07D498/10 ,  C07D211/94 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40

    CPC classification number: G03F7/028 ,  C07D211/94 ,  C07D491/113 ,  C08F110/02 ,  C08F110/06 ,  C08F265/02 ,  C08K5/3435 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/031 ,  G03F7/40 ,  C08L33/06

    Abstract: 【課題】本発明は新規なヒドロキシルアミンエステル、カラーフィルタを製造するために使用される前記ヒドロキシルアミンエステルを含むラジカル重合性組成物及び前記ヒドロキシルアミンエステルの使用に関する。【解決手段】式IC’のヒドロキシアミンエステル及び式IC’のヒドロキシアミンエステルを含むラジカル重合性組成物を提供する。また、式IC’のヒドロキシアミンエステルについて、カラーフィルタを製造するための使用、ポストベークプロセスにおいてC=C転化率を改善するための使用、任意に他の開始剤と組み合わせてコーティングを製造するための使用、並びにポリプロピレンの制御された分解のための及びポリエチレンの分子量又は架橋の制御されたビルドアップのための使用を提供する。【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种新的羟胺酯和可自由基聚合的组合物，其包含用于制造滤色器的羟胺酯，并使用上述羟胺酯。溶液：本发明提供由式IC表示的羟胺酯 '和包含式IC'的羟胺酯的自由基聚合性组合物。 本发明进一步提供了关于式IC'的羟胺酯：使用羟胺酯制造滤色器; 用于提高后烘烤过程中的C = C转化率; 用于制备任选地与另一种引发剂组合的涂层; 并用于聚丙烯的受控分解和用于聚集分子量或交联聚乙烯的受控聚集。

    SULFONIUM COMPOUNDS, THEIR PREPARATION AND USE
    3.
    发明申请
    SULFONIUM COMPOUNDS, THEIR PREPARATION AND USE 审中-公开
    磺化合物，其制备和使用

    公开(公告)号：WO2013156509A3

    公开(公告)日：2014-01-23

    申请号：PCT/EP2013057968

    申请日：2013-04-17

    Applicant: BASF SE ,  BASF SCHWEIZ AG

    Inventor： KUNIMOTO KAZUHIKO ,  KURA HISATOSHI

    IPC: C08G59/68 ,  C08L63/00 ,  C09D11/02 ,  C09D163/00 ,  G03F7/004

    CPC classification number: C08G59/62 ,  B05D3/007 ,  C07C309/08 ,  C07C309/10 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07D307/10 ,  C07D309/08 ,  C07D333/46 ,  C08G59/4064 ,  C08L63/00 ,  C09D11/02 ,  C09D163/00 ,  C09J163/00 ,  G03F7/0045

    Abstract: Compounds of the formula (I), (Ia) or (Ib) wherein A1- and A- is for example (II) is 1 or 2; X is C1-C4 alkylene or CO; Y is for example O, O(CO), O(CO)O, R1 is for example hydrogen, d-dsalkyl, C3-C30cycloalkyl, phenyl, naphthyl, anthracyl, phenanthryl, biphenylyl, fluorenyl or C3-C20heteroaryl, all of which optionally are substituted; R2 and R3 for example are C1-C10haloalkylene which is optionally substituted, or R2 and R3 are phenylene, which optionally is substituted; R4 is a group (A) or a group (B); R5 and R6 for example are C1-C20alkyl; or R4 and R5 or R4 and R6 together form a straight-chain C2-C6alkylene, R5 and R6 together form a straight-chain C2-C6alkylene; R7, R8, R9 and R10 ifor example are C1-C20alkyl; M for example is C1-C20alkylene, C2-C20alkenylene, C2-C20alkynylene; R25 and R26 are for example hydrogen, C1-C20alkyl; R27, R28, R29, R30 and R31 are for example hydrogen, C1-C20alkyl, C2-C20alkenyl, C3-C20cycloalkyl, or two radicals R27 and R28, R28 and R29, R29 and R30 and/or R30 and R31 together form a straight-chain C2-C6alkylene, or R25 and R27 together form 1,2-phenylene, R33 and R34 for example are hydrogen, C1-C20alkyl; R35, R36 and R37 for example are hydrogen, C1-C20alkyl; are suitable as thermo-acid generators.

    Abstract translation: 其中A1-和A-为（II）的式（I），（Ia）或（Ib）的化合物为1或2; X是C 1 -C 4亚烷基或CO; Y是例如O，O（CO），O（CO）O，R 1例如是氢，d-ds烷基，C 3 -C 30环烷基，苯基，萘基，蒽基，菲基，联苯基，芴基或C 3 -C 20杂芳基， 任选被取代; R2和R3例如是任选取代的C 1 -C 10卤代亚烷基，或者R 2和R 3是任选被取代的亚苯基; R4是一组（A）或一组（B）; R5和R6例如是C1-C20烷基; 或R 4和R 5或R 4和R 6一起形成直链C 2 -C 6亚烷基，R 5和R 6一起形成直链C 2 -C 6亚烷基; R 7，R 8，R 9和R 10如果为C 1 -C 20烷基; M例如是C 1 -C 20亚烷基，C 2 -C 20亚烯基，C 2 -C 20亚炔基; R 25和R 26是例如氢，C 1 -C 20烷基; R27，R28，R29，R30和R31是例如氢，C1-C20烷基，C2-C20链烯基，C3-C20环烷基或两个基团R27和R28，R28和R29，R29和R30和/或R30和R31一起形成直链 链C 2 -C 6亚烷基或R 25和R 27一起形成1,2-亚苯基，R 33和R 34例如是氢，C 1 -C 20烷基; R 35，R 36和R 37例如是氢，C 1 -C 20烷基; 适合作为热酸发生器。

    OXIME ESTER PHOTOINITIATORS
    6.
    发明公开
    OXIME ESTER PHOTOINITIATORS 审中-公开
    肟酯PHOTOINITIATORS

    公开(公告)号：EP3019473A4

    公开(公告)日：2016-12-21

    申请号：EP14822764

    申请日：2014-06-30

    Applicant: BASF SE

    Inventor： TANAKA KEITA ,  KURA HISATOSHI ,  KUNIMOTO KAZUHIKO ,  SAMESHIMA KAORI

    IPC: C07D409/14 ,  C07D209/86 ,  G03F7/00

    CPC classification number: G03F7/031 ,  C07D209/86 ,  C07D409/14 ,  C08F22/20 ,  G02B5/201 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/20 ,  G03F7/322

    Abstract: Compounds of the formula (I) n, wherein Q is a direct bond or an n-valent linking group; n is an integer 2, 3, or 4; Z is for example C1-C20alkylene, C2-C20alkenylene,C5-C8 cycloalkylene or C5-C8 cycloalkenylene; Y is for example C6-C20aryl or C3-C20heteroaryl; R1 is for example hydrogen, C2-C5alkenyl, C3-C8cycloalkyl, C1-C12alkyl, phenyl, naphthyl, C3-C20heteroaryl, C1-C8alkoxy, benzyloxy or phenoxy; R2 is for example C1-C20alkyl, C2-C12alkenyl, C4-C8cycloalkenyl, C2-C12alkinyl, C3-C10cycloalkyl, phenyl or naphthyl; R15, R16, R17, R18, R19 and R20 independently of each other for example are hydrogen, halogen, C1-C20alkyl, C6-C20aryl or C4-C20heteroaryl; provided that a compound wherein R15, R16, R17, R18, R19 and R20 are hydrogen, Y is thienyl, R1 is methyl, R2 is ethyl, n is 2, Q is a direct bond and Z is n-propylene and a compound wherein R15, R16, R17, R18, R19 and R20 are hydrogen, Y is thienyl, R1 is methyl, R2 is ethyl, n is 2, Q as an n-valent linking group is methylene and Z is methylene are excluded; are reactive photoinitiators in particular in electronic applications.

    Abstract translation: 式（I）n的化合物，其中Q是直接键或n价连接基团; n是整数2，3或4; Z是例如C 1 -C 20亚烷基，C 2 -C 20亚烯基，C 5 -C 8亚环烷基或C 5 -C 8环亚烯基; Y为例如C 6 -C 20芳基或C 3 -C 20杂芳基; R1是例如氢，C2-C5链烯基，C3-C8环烷基，C1-C12烷基，苯基，萘基，C3-C20杂芳基，C1-C8烷氧基，苄氧基或苯氧基; R 2是例如C 1 -C 20烷基，C 2 -C 12烯基，C 4 -C 8环烯基，C 2 -C 12炔基，C 3 -C 10环烷基，苯基或萘基; R 15，R 16，R 17，R 18，R 19和R 20彼此独立地为氢，卤素，C 1 -C 20烷基，C 6 -C 20芳基或C 4 -C 20杂芳基; 条件是其中R 15，R 16，R 17，R 18，R 19和R 20为氢，Y为噻吩基，R 1为甲基，R 2为乙基，n为2，Q为直接键，Z为正丙烯的化合物及其中 R15，R16，R17，R18，R19和R20是氢，Y是噻吩基，R1是甲基，R2是乙基，n是2，n价连接基团是亚甲基，Z是亚甲基的Q被排除; 特别是电子应用中的反应性光引发剂。

    8.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：AT496027T

    公开(公告)日：2011-02-15

    申请号：AT09177920

    申请日：2006-11-08

    Applicant: BASF SE

    Inventor： MATSUMOTO AKIRA ,  TANABE JUNICHI ,  KURA HISATOSHI ,  OHWA MASAKI

    IPC: C07D209/86 ,  G03F1/88 ,  C07D209/88 ,  C07D403/10 ,  C07D409/10 ,  G03F7/004

    Abstract: Compounds of the formula II, and III wherein R 1 , R 2 , R' 2 and R"' 2 for example are C 1 -C 20 alkyl; R 3 , R 4 , and R 5 for example independently of one another are hydrogen or a defined substituent provided that at least one of R 3 , R 4 or R 5 is other than hydrogen or C 1 -C 20 alkyl; R 6 , R 7 , R 8 , R' 6 , R' 7 , R' 8 , R" 6 , R" 7 , R"' 6 and R"' 7 for example independently of one another have one of the meanings as given for R 3 , R 4 , and R 5 ; and R 9 for example is C 1 -C 20 alkyl; exhibit an unexpectedly good performance in photopolymerization reactions.

    10.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：DE60234095D1

    公开(公告)日：2009-12-03

    申请号：DE60234095

    申请日：2002-06-04

    Applicant: BASF SE

    Inventor： KUNIMOTO KAZUHIKO ,  TANABE JUNICHI ,  KURA HISATOSHI ,  OKA HIDETAKA ,  OHWA MASAKI

    IPC: C08F2/50 ,  G02B5/20 ,  C07C251/64 ,  C07C251/66 ,  C07C323/22 ,  C07C323/47 ,  C07D209/86 ,  C07D311/16 ,  C08F10/00 ,  G03F7/031 ,  H01L21/027

    Abstract: Compounds of the formulae I, II and III wherein R 1 is for example hydrogen, C 3 -C 8 cycloalkyl, C 1 -C 12 alkyl, phenyl unsubstituted or substituted; R 2 and R 2 ' for example are hydrogen, C 1 -C 20 alkyl, C 3 -C 8 cycloalkyl or phenyl, unsubstituted or substituted, or are Ar 1 is for example phenyl, optionally substituted by e.g. Ar 2 is for example phenylene, optionally substituted e.g. by -(CO)R 7 , (D), (E) or (F); Ar 3 is for example phenyl; M 1 , M 2 and M 3 are, for example, C 1 -C 20 alkylene; M 4 is for example direct bond, -O-, -S-, -Y-(C 1 -C 10 alkylene)-Y'-, optionally substituted; Y and Y' are for example a direct bond or -O-; R 7 is for example hydrogen, C 1 -C 20 alkyl or phenyl, optionally substituted; R 8 , R 9 , R 8 ' and R 9 ' are for example hydrogen or C 1 -C 12 alkyl, exhibit an unexpectedly good performance in photopolymerization reactions.

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