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    Low thermal expansion glass for euvl application
    2.
    发明专利
    Low thermal expansion glass for euvl application 有权
    用于EUVL应用的低热膨胀玻璃

    公开(公告)号：JP2011063505A

    公开(公告)日：2011-03-31

    申请号：JP2010192019

    申请日：2010-08-30

    Applicant: Corning Inc ,  コーニング インコーポレイテッド

    Inventor： HRDINA KENNETH E ,  MUELLER MICHAEL A ,  STAINBROOK BARBARA L

    IPC: C03C3/06 ,  C03C19/00

    CPC classification number: C03C3/076 ,  C03C4/0085 ,  C03C17/02 ,  C03C23/007 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/2495

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low thermal expansion glass which has stable thermal expansion in a temperature range wider than that in the present ULE glass and can be polished so as to satisfy surface roughness requirements. SOLUTION: The low thermal expansion glass includes a base glass material 3 having a front surface 5, a back surface 7, and a thickness T; and a glass coating material 9 applied on at least the front surface 5 of the base glass material 3. The base glass material 3 consists essentially of 10 wt.% to 20 wt.% titania and 80 wt.% to 90 wt.% silica. The glass coating material 9 also consists essentially of titania and silica, but the total amount of titania in the glass coating material 9 is lower than the total amount of titania in the base glass material 3. The base glass material 3 preferably has a coefficient of thermal expansion of substantially zero in the temperature range of about 10 to 100°C. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题：提供在比本发明的ULE玻璃更宽的温度范围内具有稳定的热膨胀的低热膨胀玻璃，并且可以被抛光以满足表面粗糙度要求。 解决方案：低热膨胀玻璃包括具有前表面5，后表面7和厚度T的基础玻璃材料3; 以及涂覆在基材玻璃材料3的至少前表面5上的玻璃涂层材料9.基础玻璃材料3基本上由10重量％至20重量％的二氧化钛和80重量％至90重量％的二氧化硅 。 玻璃涂层材料9也基本上由二氧化钛和二氧化硅组成，但是玻璃涂层材料9中的二氧化钛的总量低于基础玻璃材料3中的二氧化钛的总量。基础玻璃材料3优选具有 在大约10至100℃的温度范围内的热膨胀基本为零。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

    Fused silica article filled with deuterium and method of producing thereof
    3.
    发明专利
    Fused silica article filled with deuterium and method of producing thereof 审中-公开
    填充有二氧化硅的二氧化硅文件及其生产方法

    公开(公告)号：JP2009057274A

    公开(公告)日：2009-03-19

    申请号：JP2008220917

    申请日：2008-08-29

    Applicant: Corning Inc ,  コーニング インコーポレイテッド

    Inventor： MUELLER MICHAEL A ,  MURTAGH MICHAEL T

    IPC: C01B33/12

    CPC classification number: C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/54 ,  G03F7/70958

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for effectively filling hydrogen into a fused silica of post-consolidation.
    SOLUTION: A method of producing a fused silica article having a concentration of hydroxyl (OH) groups of up to about 60 ppm by weight and a combined concentration of light hydrogen and deuterium in a range from about 1×10
    16 molecules/cm
    3 up to about 6×10
    19 molecules/cm
    3 is provided. In some embodiments, deuterium is present in an amount greater than its natural isotopic abundance. The method includes the steps of providing a fused silica boule, diffusing at least one of light hydrogen and deuterium into the boule, and annealing the boule to form the fused silica article. A method of diffusing hydrogen into fused silica and a fused silica article filled with hydrogen formed by the method are also described.
    COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

    Abstract translation: 待解决的问题：提供一种有效地将氢气充填到后固化的熔融二氧化硅中的方法。 解决方案：制备具有高达约60重量ppm的羟基（OH）基团的浓度和轻氢和氘的组合浓度在约1×10 -6 SP范围内的熔融二氧化硅制品的方法， 16分子/ cm 3 / SP>至多约6×10分钟/分钟/秒SP 3。 在一些实施方案中，氘的存在量大于其天然同位素丰度。 该方法包括以下步骤：提供熔融二氧化硅焦耳，将轻氢和氘中的至少一种扩散到该焦炭中，以及退火该毛坯以形成熔融二氧化硅制品。 还描述了将氢扩散到熔融二氧化硅中的方法和填充有由该方法形成的氢的熔融二氧化硅制品。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

    Verfahren zur Herstellung eines Kieselglas-Artikels, der mit Deuterium angereichert ist
    4.
    发明专利
    Verfahren zur Herstellung eines Kieselglas-Artikels, der mit Deuterium angereichert ist 未知

    公开(公告)号：DE102008041648B4

    公开(公告)日：2018-03-22

    申请号：DE102008041648

    申请日：2008-08-28

    Applicant: CORNING INC

    Inventor： MUELLER MICHAEL A ,  MURTAGH MICHAEL T

    IPC: C03C3/06 ,  G02B1/02

    Abstract: Verfahren zur Herstellung eines Kieselglas-Artikels wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: a. Bereitstellen eines Kieselglas-Boules, wobei der Kieselglas-Boule verfestigt wurde, und wobei der Kieselglas-Boule eine Konzentration von Hydroxyl-Gruppen von weniger als 100 Gewichts-ppm aufweist; b. Diffundieren von Deuterium in den Kieselglas-Boule bei einer vorher bestimmten Temperatur, wobei das Deuterium in einer Menge vorhanden ist, die größer ist als seine natürliche Isotopenhäufigkeit; und c. Annealing des Kieselsäuerglas-Boules nach Diffundieren des Deuteriums bei einer vorherbestimmten Annealingtemperatur in den Kieselglas-Boule zur Bildung des Kieselglas-Artikels, wobei der Kieselglas-Artikel eine kombinierte Konzentration von Protium und Deuterium in einem Bereich von 1 × 1016 Moleküle/cm3 bis zu 6 × 1019 Moleküle/cm3 aufweist und wobei Deuterium in einer Konzentration vorhanden ist, die größer ist als die natürliche Isotopenhäufigkeit, wobei der Schritt des Diffundierens von Deuterium in den Kieselglas-Boule bei einer vorherbestimmten Temperatur das Exponieren des Kieselglas-Boules gegenüber zumindest einem Impuls eines ersten Deuteriumdruckes umfasst, wobei jeder Impuls eine vorherbestimmte Zeitdauer aufweist, und wobei der Deuteriumdruck größer als der Umgebungsdruck ist; und das Exponieren des Kieselglas-Boules gegenüber einem zweiten Deuteriumdruck unmittelbar nach jedem Impuls für eine zweite Zeitdauer umfasst, wobei der zweite Deuteriumdruck geringer als der erste Deuteriumdruck ist.

    GLAS MIT GERINGER WÄRMEAUSDEHNUNG FÜR EUVL-ANWENDUNGEN
    5.
    发明专利
    GLAS MIT GERINGER WÄRMEAUSDEHNUNG FÜR EUVL-ANWENDUNGEN 未知

    公开(公告)号：DE102010039779A1

    公开(公告)日：2011-03-24

    申请号：DE102010039779

    申请日：2010-08-25

    Applicant: CORNING INC

    Inventor： HRDINA KENNETH EDWARD ,  MUELLER MICHAEL A ,  STAINBROOK BARBARA L

    IPC: C03C17/02 ,  C03C3/076 ,  C03C4/00

    Abstract: Ein Glas mit geringer Wärmeausdehnung schließt ein Glasgrundmaterial mit einer Vorderseite, einer Rückseite und einer Dicke und ein Glasbeschichtungsmaterial, das wenigstens auf die Vorderseite des Glasgrundmaterials aufgebracht ist, ein. Das Glasgrundmaterial besteht im Wesentlichen aus 10 Gew.-% bis 20 Gew.-% Titandioxid und 80 Gew.-% bis 90 Gew.-% Siliziumdioxid. Das Glasbeschichtungsmaterial besteht auch im Wesentlichen aus Titandioxid und Siliziumdioxid, die Gesamtmenge an Titandioxid im Glasbeschichtungsmaterial ist jedoch kleiner als die Gesamtmenge an Titandioxid im Glasgrundmaterial. Ein Siliziumdioxid-Titandioxid-Glaselement, das für Lithographie-Anwendungen im extremen Ultraviolett geeignet ist, besteht aus 12 Gew.-% bis 20 Gew.-% Titandioxid und 80 Gew.-% bis 88 Gew.-% Siliziumdioxid und weist einen Wärmeausdehnungskoeffizienten von im Wesentlichen 0 &Dgr;L/L in einem Temperaturbereich von -20°C bis +100°C auf.

    6.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：DE102008041648A1

    公开(公告)日：2009-04-16

    申请号：DE102008041648

    申请日：2008-08-28

    Applicant: CORNING INC

    Inventor： MUELLER MICHAEL A ,  MURTAGH MICHAEL T

    IPC: C03C3/06 ,  G02B1/02

    Abstract: A method of making a fused silica article having a combined concentration of protium and deuterium in a range from about 1×1016 molecules/cm3 up to about 6×1019 molecules/cm3. In some embodiments, deuterium is present in an amount greater than its natural isotopic abundance. The method includes the steps of providing a fused silica boule, diffusing at least one of protium and deuterium into the boule, and annealing the boule to form the fused silica article. A method of diffusing hydrogen into fused silica and a fused silica article loaded with hydrogen formed by the method are also described.

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