MEMS-BAUELEMENT, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES MEMS-BAUELEMENTS UND VERFAHREN ZUR HANDHABUNG EINES MEMS-BAUELEMENTS

    公开(公告)号:WO2009092361A3

    公开(公告)日:2009-07-30

    申请号:PCT/DE2009/000073

    申请日:2009-01-21

    Abstract: Es wird ein MEMS-Bauelement angegeben, das ein Substrat (1) aufweist, in dem wenigstens eine Kavität (2) vorhanden ist. Zu einer aktiven Seite des Substrats (1) hin ist die Kavität (2) verschlossen. Eine inaktive Seite ist gegenüber der aktiven Seite des Substrats (1) angeordnet, und das Substrat (1) ist auf der inaktiven Seite mit einer Abdeckfolie (3) bedeckt. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Herstellung eines MEMS-Bauelements angegeben, das die folgenden Schritte aufweist. Im ersten Schritt werden Kavitäten (2) auf einem Substrat-Wafer (1) hergestellt, wobei die Kavitäten (2) zu einer aktiven Seite hin verschlossen sind und zu einer inaktiven Seite hin eine Öffnung aufweisen. In einem zweiten Schritt wird eine Abdeckfolie (3) auf die inaktive Seite des Substrat-Wafers (1) aufgebracht, wobei die Abdeckfolie (3) wenigstens im Bereich des Substrat-Wafers (1) zwischen den Kavitäten (2) mit dem Substrat-Wafer (1) verklebt ist.

    MEMS PACKAGE UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG
    3.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2009071637A3

    公开(公告)日:2009-06-11

    申请号:PCT/EP2008/066823

    申请日:2008-12-04

    Abstract: Es wird ein MEMS Package (1) vorgeschlagen, bei dem ein Chip (CH), der auf seiner Oberseite MEMS Strukturen (MS) aufweist, mit einer starren Abdeckplatte (AP) und einer ein Polymer umfassenden Rahmenstruktur (RS) so zu einer Sandwichstruktur verbunden ist, dass ein die MEMS Strukturen aufnehmender geschlossener Hohlraum (HR) ausgebildet ist. Auf der Rückseite des Chips oder auf der vom Chip weg weisenden Außenseite der Abdeckplatte sind löt- oder bondbare elektrische Kontakte (KO) angeordnet, die über eine elektrische Verbindungsstruktur (VS) mit zumindest einer Anschlussfläche elektrisch leitend verbunden sind.

    ELEKTRISCHES BAUELEMENT UND HERSTELLUNGSVERFAHREN
    7.
    发明申请
    ELEKTRISCHES BAUELEMENT UND HERSTELLUNGSVERFAHREN 审中-公开
    电子器材和方法

    公开(公告)号:WO2006131216A1

    公开(公告)日:2006-12-14

    申请号:PCT/EP2006/004978

    申请日:2006-05-24

    CPC classification number: H03H9/105 H01L2224/94 H03H9/059 H03H9/1092 Y10T29/42

    Abstract: Es wird ein oberflächenmontierbares elektrisches Bauelement mit empfindlichen Bauelementstrukturen (B51,B52) vorgeschlagen, welches auf der Vorderseite zweiter Substrate (51, 52) realisiert ist. Die Substrate sind mit ihrer Vorderseite zueinanderweisend so miteinander verbunden, dass für die Bauelementstrukturen (B51,B52) ein Hohlraum (AN) verbleibt. Die elektrischen Außenanschlüsse (AA) für alle Bauelementstrukturen (B51, B52) sind auf der Oberfläche eines der beiden Substrate, insbesondere auf der Rückseite des oberen oder auf der Vorderseite des unteren Substrats vorgesehen. Zwischen den beiden Substraten ist eine geeignet strukturierte Zwischenschicht (ZS) angeordnet, die sowohl als Abstandshalter als auch zur Abdichtung der Hohlraumgehäuse dient .

    Abstract translation: 它是可表面安装的电气元件与感光元件的结构(B51,B52)已经提出,其上的第二基板的前侧(51,52)被实现。 基板与它们的前侧彼此面对的接合在一起,以便保持该设备结构(B51,B52),腔(AN)。 电的外部连接(AA)对所有的器件结构(B51,B52)被提供在两个衬底的表面上,特别是在上或在下基板的前侧的背面。 两个基板适当的结构化中间层(ZS)布置,其既用作间隔物,并密封空腔壳体之间。

    GESCHIRMTES WAFER-LEVEL-PACKAGE FÜR EIN MEMS-MIKROFON UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG
    8.
    发明申请
    GESCHIRMTES WAFER-LEVEL-PACKAGE FÜR EIN MEMS-MIKROFON UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG 审中-公开
    选择屏蔽晶圆级封装的MEMS麦克风及其制造方法

    公开(公告)号:WO2016091592A1

    公开(公告)日:2016-06-16

    申请号:PCT/EP2015/077656

    申请日:2015-11-25

    Applicant: EPCOS AG

    Abstract: Es wird ein verbessertes Package für ein MEMS-Mikrofon (MM) und ein erleichtertes Verfahren zur Herstellung vorgeschlagen, bei dem ein MEMS Wafer und ein Basiswafer, in denen jeweils eine Vielzal von MEMS Chips bzw. Basischips mit MEMS Mikrofonen (MM) und ASICs (AS) realisiert sind, miteinander verbunden werden. In zum Vereinzeln der Bauelemente geführten Einschnitten (ES1) in MEMS- und ggfs. Basiswafer wird in einem integrierten Verfahren eine schirmende Metallsisierung (SD) erzeugt. Die Anschlusskontakte (AK) des Packages werden abschließend auf der Unterseite des Basiswafers erzeugt.

    Abstract translation: 一种改进的封装的MEMS麦克风(MM),并提议用于制备的简化方法,其中的MEMS晶片和基底晶片,在其中的每一个MEMS芯片的Vielzal并与MEMS麦克风的基片(MM)和ASIC( AS)被实现,被接合在一起。 在用于在MEMS分离部件引导切口(ES1)和任选的。依据晶片在一个集成的过程中产生的,屏蔽结束Metallsisierung(SD)。 包装的端子(AK)最终形成在基底晶片的下侧。

    VERFAHREN ZUR VERKAPSELUNG EINES ELEKTRISCHEN BAUELEMENTES UND DAMIT VERKAPSELTES OBERFLÄCHENWELLENBAUELEMENT
    10.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR VERKAPSELUNG EINES ELEKTRISCHEN BAUELEMENTES UND DAMIT VERKAPSELTES OBERFLÄCHENWELLENBAUELEMENT 审中-公开
    方法用于封装电气元件,因此封装面波成分

    公开(公告)号:WO2003032484A1

    公开(公告)日:2003-04-17

    申请号:PCT/DE2002/002886

    申请日:2002-08-06

    Abstract: Es wird ein Verkapselungsverfahren für empfindliche Bauelemente vorgeschlagen, bei welchem über eine Anordnung mit einem in Flip-Chip-Bauweise auf einem Träger montierten Bauelement ganzflächig eine Folie, insbesondere eine Kunststofffolie auflaminiert wird. Zur weiteren Abdichtung und mechanischen Stabilisierung wird anschließend den Chip umschließend eine Kunststoffmasse flüssiger Form aufgebracht und gehärtet. Wahlweise kann vor dem Aufbringen der Kunststoffmasse die Folie im Bereich von Strukturierungslinien so entfernt werden, daß die Kunststoffmasse in Kontakt sowohl mit dem Träger als auch mit der Chipoberfläche treten kann.

    Abstract translation: 它提出了一种用于敏感部件的封装,其中与安装在倒装芯片结构在整个区域上的薄膜的承载元件上的布置,尤其是塑料薄膜层压。 为了进一步密封和机械稳定的芯片然后被施加到包围塑料组合物液体形式并固化。 可选地,在构图线的区域中的膜可因此前的塑料质量的应用程序中删除时,塑料的质量能够接触到既与载体和与芯片表面接触。

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