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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103094031A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201210438995.0
申请日：2012-11-06
Applicant: FEI公司
CPC classification number: G21K1/00 , H01J37/09 , H01J2237/045 , H01J2237/0453
Abstract: 实现一种改进的限束孔阑结构及制作的方法。在位于支撑衬底中的空腔上方的薄的导电膜中制作孔阑开口，其中孔阑的尺寸和形状由导电膜中的开口确定，而不是由衬底确定。
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公开(公告)号：CN102737938A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210107965.1
申请日：2012-04-13
Applicant: FEI公司
IPC: H01J37/30
CPC classification number: H01J37/05 , H01J2237/31749
Abstract: 本发明涉及宽孔径维恩ExB质量过滤器。一种ExB维恩质量过滤器提供与质量分离所需的偶极电场组合的可独立调整的电场。可独立调整的电场可以用于提供更大的光学孔径、校正像散并将波束偏转至与磁场平行和/或垂直的方向。
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公开(公告)号：CN103094031B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201210438995.0
申请日：2012-11-06
Applicant: FEI 公司
CPC classification number: G21K1/00 , H01J37/09 , H01J2237/045 , H01J2237/0453
Abstract: 实现一种改进的限束孔阑结构及制作的方法。在位于支撑衬底中的空腔上方的薄的导电膜中制作孔阑开口，其中孔阑的尺寸和形状由导电膜中的开口确定，而不是由衬底确定。
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公开(公告)号：CN102737932B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201210107940.1
申请日：2012-04-13
Applicant: FEI公司
IPC: H01J37/10
CPC classification number: H01J37/05 , H01J37/317 , H01J2237/053 , H01J2237/055 , H01J2237/057 , H01J2237/31749
Abstract: 本发明涉及从射束中去除了中性粒子的像差校正维恩ExB滤质器。一种用于离子束系统的滤质器包括至少两级并且降低色像差。一个实施例包括两个对称滤质器级，所述两个对称滤质器级的结合降低或者消除了色像差以及入口和出口边缘场误差。实施例也可以防止中性粒子抵达样本表面以及避免射束路径中的交叉。在一个实施例中，所述过滤器能够使来自生成多个种类的源的单一离子种类通过。在其他实施例中，所述过滤器能够使具有一定能量范围的单一离子种类通过并将所述多能量离子聚焦到衬底表面上的同一点。
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公开(公告)号：CN102737932A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210107940.1
申请日：2012-04-13
Applicant: FEI公司
IPC: H01J37/10
CPC classification number: H01J37/05 , H01J37/317 , H01J2237/053 , H01J2237/055 , H01J2237/057 , H01J2237/31749
Abstract: 本发明涉及从射束中去除了中性粒子的像差校正维恩ExB滤质器。一种用于离子束系统的滤质器包括至少两级并且降低色像差。一个实施例包括两个对称滤质器级，所述两个对称滤质器级的结合降低或者消除了色像差以及入口和出口边缘场误差。实施例也可以防止中性粒子抵达样本表面以及避免射束路径中的交叉。在一个实施例中，所述过滤器能够使来自生成多个种类的源的单一离子种类通过。在其他实施例中，所述过滤器能够使具有一定能量范围的单一离子种类通过并将所述多能量离子聚焦到衬底表面上的同一点。
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