用于确定粒子光学装置中透镜误差的方法

    公开(公告)号:CN1924553B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN200610126647.4

    申请日:2006-08-31

    Applicant: FEI公司

    CPC classification number: H01J37/28 H01J37/153 H01J2237/282

    Abstract: 本发明涉及一种用于确定电子扫描显微镜中的透镜误差的方法,更具体地涉及一种使得这种透镜误差能被确定的样品。本发明描述了例如立方体氧化镁晶体的应用,所述氧化镁晶体很容易在硅晶片上被生产成所谓的“自组装”晶体。这样的晶体有几乎完美的角和边。即使在有透镜误差存在的情形下,这也能呈现出如同在不存在透镜误差的情况下的清楚印象。这允许在不同的欠焦和过焦平面上良好地重构光束横截面。在该重建的基础上透镜误差能被确定,于是它们能利用校正器被校正。

    用于确定粒子光学装置中透镜误差的方法

    公开(公告)号:CN1924553A

    公开(公告)日:2007-03-07

    申请号:CN200610126647.4

    申请日:2006-08-31

    Applicant: FEI公司

    CPC classification number: H01J37/28 H01J37/153 H01J2237/282

    Abstract: 本发明涉及一种用于确定电子扫描显微镜中的透镜误差的方法,更具体地涉及一种使得这种透镜误差能被确定的样品。本发明描述了例如立方体氧化镁晶体的应用,所述氧化镁晶体很容易在硅晶片上被生产成所谓的“自组装”晶体。这样的晶体有几乎完美的角和边。即使在有透镜误差存在的情形下,这也能呈现出如同在不存在透镜误差的情况下的清楚印象。这允许在不同的欠焦和过焦平面上良好地重构光束横截面。在该重建的基础上透镜误差能被确定,于是它们能利用校正器被校正。

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