conjunto semicondutor integrado e método para fazer um conjunto semicondutor integrado

    公开(公告)号:BR102014017885A2

    公开(公告)日:2015-11-17

    申请号:BR102014017885

    申请日:2014-07-21

    Applicant: GEN ELECTRIC

    Abstract: conjunto semicondutor integrado e método para fazer um conjunto semicondutor integrado. trata-se de um conjunto semicondutor integrado de modo monolítico. o conjunto semicondutor inclui um substrato que inclui silicio (si), e o dispositivo semicondutor de nitreto de gálio (gan) é fabricado sobre o substrato. o conjunto semicondutor inclui adicionalmente pelo menos uma estrutura de supressor de voltagem transitória (tvs) fabricado dentro ou sobre o substrato, em que a estrutura de tvs está em contato elétrico com o dispositivo semicondutor de gan. a estrutura de tvs é configurada para operar em um modo de atravessamento, um modo de avalanche, ou combinações dos mesmos, quando uma voltagem aplicada por todo o dispositivo semicondutor de gan é maior que uma voltagem de limiar. métodos para fazer um conjunto semicondutor integrado de modo monolítico também são apresentados.

    Detektion von Verunreinigungen in Brennersystemen

    公开(公告)号:DE102010060750B4

    公开(公告)日:2022-11-10

    申请号:DE102010060750

    申请日:2010-11-23

    Applicant: GEN ELECTRIC

    Abstract: Brennersystem (10), das aufweist:eine stromaufwärtige Brennstoffinjektionsstelle (18);einen stromabwärtigen Turbinenbrenner (20);eine Flammenzone (22) in dem Turbinenbrenner (20), die mehrere axiale Unterzonen (32, 34, 36, 38) aufweist;eine optische Anschlussanordnung (24), die eingerichtet ist, um eine nichtaxiale, direkte optische Sicht auf wenigstens zwei verschiedene der mehreren axialen Unterzonen (32, 34, 36, 38) zu erhalten; undein Verunreinigungsdetektionssystem (26) in optischer Kommunikationsverbindung mit der optischen Anschlussanordnung (24), wobei das Verunreinigungsdetektionssystem (26) eingerichtet ist, um thermische Atomspektren von den wenigstens zwei verschiedenen der mehreren axialen Unterzonen (32, 34, 36, 38) zu erhalten und Verunreinigungsspezies in einem Brennstoff auf der Basis von Unterschieden zwischen den thermischen Atomspektren, die von den wenigstens zwei verschiedenen axialen Unterzonen (32, 34, 36, 38) erhalten werden, zu detektieren.

    Brennersystem mit einem Verunreinigungsdetektionssystem.

    公开(公告)号:CH702387B1

    公开(公告)日:2015-04-15

    申请号:CH20462010

    申请日:2010-12-07

    Applicant: GEN ELECTRIC

    Abstract: Die vorliegende Erfindung offenbart ein Brennersystem (10) und ein Verfahren zum Messen von Verunreinigungen in dem Brennersystem (10). Das Brennersystem (10) enthält eine stromaufwärtige Brennstoffinjektionsstelle (18), einen stromabwärtigen Turbinenbrenner (20), eine Flammenzone (22) in dem Turbinenbrenner (20), die mehrere axiale Unterzonen (32, 34, 36, 38) aufweist, eine optische Anschlussanordnung (24), die eingerichtet ist, um eine nichtaxiale, direkte, optische Sicht auf wenigstens eine der mehreren axialen Unterzonen (32, 34, 36, 38) zu erhalten, und ein Verunreinigungsdetektionssystem (26) in optischer Kommunikationsverbindung mit der optischen Anschlussanordnung (24).

    Brennersystem mit einem Verunreinigungsdetektionssystem.

    公开(公告)号:CH702387A2

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CH20462010

    申请日:2010-12-07

    Applicant: GEN ELECTRIC

    Abstract: Die vorliegende Erfindung offenbart ein Brennersystem (10) und ein Verfahren zum Messen von Verunreinigungen in dem Brennersystem (10). Das Brennersystem (10) enthält eine stromaufwärtige Brennstoffinjektionsstelle (18), einen stromabwärtigen Turbinenbrenner (20), eine Flammenzone (22) in dem Turbinenbrenner (20), die mehrere axiale Unterzonen (32, 34, 36, 38) aufweist, eine optische Anschlussanordnung (24), die eingerichtet ist, um eine nichtaxiale, direkte, optische Sicht auf wenigstens eine der mehreren axialen Unterzonen (32, 34, 36, 38) zu erhalten, und ein Verunreinigungsdetektionssystem (26) in optischer Kommunikationsverbindung mit der optischen Anschlussanordnung (24).

    8.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE102009044199A1

    公开(公告)日:2010-06-10

    申请号:DE102009044199

    申请日:2009-10-07

    Applicant: GEN ELECTRIC

    Abstract: A semiconductor device is disclosed. The semiconductor device comprises, a first region of a first conductivity type, a second region of a second conductivity type disposed adjacent to the first region to form a p-n junction structure, a resistance modification region of the second conductivity type, and a field response modification region of the second conductivity type disposed between the resistance modification region and the second region, wherein the field response modification region comprises a varying dopant concentration distribution along a thickness direction of the field response modification region.

    SYSTEME A SEMICONDUCTEURS ET PROCEDE DE FABRICATION

    公开(公告)号:FR3009131B1

    公开(公告)日:2019-11-22

    申请号:FR1457183

    申请日:2014-07-25

    Applicant: GEN ELECTRIC

    Abstract: Un système à semiconducteurs à intégration monolithique (100) est présenté. Le système à semiconducteurs. (100) comporte un substrat (110) contenant du silicium (Si), et un composant semiconducteur à base de nitrure de gallium (GaN) est construit sur le substrat (110). Le système à semiconducteurs (100) comporte en outre au moins une structure de suppression de tensions transitoires (STT) (130) construite dans ou sur le substrat (110), la structure de STT (130) étant électriquement au contact (140) du composant semiconducteur à base de GaN (120). La structure de STT (130) est conçue pour fonctionner en mode pénétration, en mode avalanche ou dans des modes combinant ces deux derniers quand une tension appliquée dans le composant semiconducteur à base de GaN (120) dépasse une tension de seuil. Des procédés pour fabriquer un système à semiconducteurs à intégration monolithique (100) sont également présentés.

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