Methods and apparatuses for positioning nano-objects with aspect ratios

    公开(公告)号:GB2515217A

    公开(公告)日:2014-12-17

    申请号:GB201416222

    申请日:2013-04-25

    Applicant: IBM

    Abstract: The present invention is notably directed to apparatuses and methods for positioning nano- objects (20) on a surface. The method comprises: providing (S10 S50) two surfaces (15, 17) including a first surface (15) and a second surface (17) in vis-Ã -vis, wherein at least one of the two surfaces exhibits one or more positioning structures (16, 16a) having dimensions on the nanoscale; and a ionic liquid suspension (30) of the nano-objects between the two surfaces, wherein each of the surfaces forms an electrical double layer with the ionic liquid suspension, each of the two surfaces having a same electrical charge sign; and letting (S60) nano-objects in the suspension position according to a potential energy (31) resulting from the electrical charge of the two surfaces and depositing (S70) one or more of the nano-objects on the first surface according to the positioning structures, by shifting minima (32) of the potential energy towards the first surface.

    METHODS AND APPARATUSES FOR POSITIONING NANO OBJECTS WITH ASPECT RATIOS

    公开(公告)号:IN4834CHN2014A

    公开(公告)日:2015-09-18

    申请号:IN4834CHN2014

    申请日:2014-06-25

    Applicant: IBM

    Abstract: The present invention is notably directed to apparatuses and methods for positioning nano objects (20) on a surface. The method comprises: providing (S10 S50) two surfaces (15 17) including a first surface (15) and a second surface (17) in vis à vis wherein at least one of the two surfaces exhibits one or more positioning structures (16 16a) having dimensions on the nanoscale; and a ionic liquid suspension (30) of the nano objects between the two surfaces wherein each of the surfaces forms an electrical double layer with the ionic liquid suspension each of the two surfaces having a same electrical charge sign; and letting (S60) nano objects in the suspension position according to a potential energy (31) resulting from the electrical charge of the two surfaces and depositing (S70) one or more of the nano objects on the first surface according to the positioning structures by shifting minima (32) of the potential energy towards the first surface.

    Nanoprägelithographieverfahren
    3.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102013206755B4

    公开(公告)日:2015-08-27

    申请号:DE102013206755

    申请日:2013-04-16

    Applicant: IBM

    Abstract: Nanoprägelithographieverfahren, das die aufeinander folgenden Schritte aufweist: – Bereitstellen (S10) einer Form (100), die Strukturen (130) mit Abmessungen im Nanometerbereich auf einer Seite (101) der Form (100) aufweist, wobei die Strukturen (130) ein topographisches Muster (140) ausbilden; und – Bereitstellen einer thermisch zersetzbaren Polymerdünnschicht (210) auf einem Substrat (220) gegenüber der Seite (101) der Form (100), – wobei die Strukturen (130) über die Zersetzungstemperatur (Td) der Polymerdünnschicht (210) erwärmt werden; – Inkontaktbringen (S20) der Strukturen (130) mit der Polymerdünnschicht (210), um Abschnitte davon in Übereinstimmung mit den Strukturen (130) thermisch zu zersetzen (S30); und – Entfernen (S50) der Strukturen (130) von der Polymerdünnschicht (210).

    Verfahren und Vorrichtungen zur Positionierung von Nanoobjekten mit Seitenverhältnissen

    公开(公告)号:DE112013001196T5

    公开(公告)日:2014-11-20

    申请号:DE112013001196

    申请日:2013-04-25

    Applicant: IBM

    Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere Vorrichtungen und Verfahren zur Positionierung von Nanoobjekten (20) auf einer Oberfläche. Das Verfahren weist auf: Bereitstellen (S10 bis S50) zweier einander gegenüberliegender Oberflächen (15, 17) einschließlich einer ersten Oberfläche (15) und einer zweiten Oberfläche (17), wobei mindestens eine der zwei Oberflächen eine oder mehrere Positionierungsstrukturen (16, 16a) mit Abmessungen im Nanometerbereich aufweist; und einer ionischen Flüssigkeitssuspension (30) der Nanoobjekte zwischen den zwei Oberflächen, wobei jede der Oberflächen mit der ionischen Flüssigkeitssuspension eine elektrische Doppelschicht bildet, wobei jede der zwei Oberflächen ein selbes elektrisches Ladungsvorzeichen aufweist; und Sich-positionieren-lassen (S60) der Nanoobjekte in der Suspension einer Potenzialenergie (31) gemäß, die aus der elektrischen Ladung der zwei Oberflächen resultiert, und Abscheiden (S70) eines oder mehrerer der Nanoobjekte auf der ersten Oberfläche den Positionierungsstrukturen gemäß durch Verschieben von Minima (32) der Potenzialenergie zur ersten Oberfläche hin.

    Nanoimprint lithographic methods
    5.
    发明专利

    公开(公告)号:GB2501681A

    公开(公告)日:2013-11-06

    申请号:GB201207464

    申请日:2012-04-30

    Applicant: IBM

    Abstract: A nanoimprint lithographic method uses a mold 100 which comprises a topographic pattern 140 formed by structures 130 having nanometer scale dimensions. The nanoscale structures are heated above a decomposition temperature (Td) of a thermally decomposable polymer film 210 such as poly (phthalaldehyde) which is disposed on a substrate 220 facing the mold. The structures are brought into contact with the polymer film to thermally decompose portions which correspond to the pattern of the structures and the structures are removed from the polymer film. There may be a material layer 120 with low thermal conductivity to thermally insulate the structures from the body of the mold. The structures may be brought into contact with the substrate 220 to cool the structures and prevent further thermal decomposition of the polymer layer 210 to give a very clean pattern.

    METHODS AND APPARATUSES FOR POSITIONING NANO-OBJECTS WITH ASPECT RATIOS

    公开(公告)号:CA2868577C

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CA2868577

    申请日:2013-04-25

    Applicant: IBM

    Abstract: The present invention is notably directed to apparatuses and methods for positioning nano- objects (20) on a surface. The method comprises: providing (S10 S50) two surfaces (15, 17) including a first surface (15) and a second surface (17) in vis-à-vis, wherein at least one of the two surfaces exhibits one or more positioning structures (16, 16a) having dimensions on the nanoscale; and a ionic liquid suspension (30) of the nano-objects between the two surfaces, wherein each of the surfaces forms an electrical double layer with the ionic liquid suspension, each of the two surfaces having a same electrical charge sign; and letting (S60) nano-objects in the suspension position according to a potential energy (31) resulting from the electrical charge of the two surfaces and depositing (S70) one or more of the nano-objects on the first surface according to the positioning structures, by shifting minima (32) of the potential energy towards the first surface.

    Verfahren und Vorrichtungen zur Positionierung von Nanoobjekten

    公开(公告)号:DE112013001196B4

    公开(公告)日:2016-04-14

    申请号:DE112013001196

    申请日:2013-04-25

    Applicant: IBM

    Abstract: Verfahren zur Positionierung von Nanoobjekten (20) auf einer Oberfläche, wobei das Verfahren aufweist: Bereitstellen (S10 bis S50): zweier einander gegenüberliegender Oberflächen (15, 17) einschließlich einer ersten Oberfläche (15) und einer zweiten Oberfläche (17), wobei mindestens eine der zwei Oberflächen eine oder mehrere Positionierungsstrukturen (16, 16a) mit Abmessungen im Nanometerbereich aufweist; und einer ionischen Flüssigkeitssuspension (30) der Nanoobjekte zwischen den zwei Oberflächen, wobei die Suspension zwei elektrische Doppelschichten aufweist, die jeweils an einer Grenzfläche zu einer jeweiligen der zwei Oberflächen gebildet sind, wobei die elektrischen Oberflächenladungen der zwei Oberflächen dasselbe Vorzeichen haben; und Sich-positionieren-lassen (S60) der Nanoobjekte (20) in der Suspension entsprechend einer potentiellen Energie (31), die aus der elektrischen Ladung der zwei Oberflächen resultiert, und Abscheiden (S70) eines oder mehrerer der Nanoobjekte auf der ersten Oberfläche den Positionierungsstrukturen gemäß durch Verschieben von Minima (32) der potentiellen Energie zur ersten Oberfläche hin.

    Nanoprägelithographieverfahren
    8.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102013206755A1

    公开(公告)日:2013-10-31

    申请号:DE102013206755

    申请日:2013-04-16

    Applicant: IBM

    Abstract: Die vorliegende Erfindung bezieht sich insbesondere auf Nanoprägelithographievorrichtungen und -verfahren. Solche Verfahren weisen auf: Bereitstellen (S10): einer Form (100), die ein topographisches Muster (140) auf einer Seite (101) der Form aufweist, wobei das topographische Muster durch Strukturen (130) mit Abmessungen im Nanobereich ausgebildet wird; und einer thermisch zersetzbaren Polymerdünnschicht (210) wie zum Beispiel Poly(phthalaldehyd) auf einem Substrat (220) gegenüber der Seite der Form, wobei die Strukturen über eine Zersetzungstemperatur (Td) der Polymerdünnschicht erwärmt werden; Inkontaktbringen (S20) der Strukturen mit der Polymerdünnschicht, um Abschnitte davon in Übereinstimmung mit den Strukturen thermisch zu zersetzen; und Entfernen (S50) der Strukturen von der Polymerdünnschicht.

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