公开(公告)号：WO2008012734A3

公开(公告)日：2008-04-03

申请号：PCT/IB2007052869

申请日：2007-07-18

Applicant: IBM ,  DUERIG URS T ,  GOTSMANN BERND W ,  KNOLL ARMIN W

Inventor： DUERIG URS T ,  GOTSMANN BERND W ,  KNOLL ARMIN W

IPC: G11B9/00 ,  G03F7/00

CPC classification number: G11B9/1472 ,  B82Y10/00 ,  G11B9/14 ,  G11B11/007

Abstract: The present invention relates to a device for forming topographic features on a surface of a polymer layer comprising: a polymer layer (1 ); a substrate (2) comprising a conductor, a first surface (1 a) of the polymer layer (1 ) being provided on the substrate (2); and at least one electrode (3) which, when the device is in use, interacts with a second surface (1 b) of the polymer layer (1 ), wherein, when in use, the device is operable to apply a first electrical potential (P1 ) to the at least one electrode (3) relative to the substrate (2), thereby to cause a protrusion (4) to be formed on the second surface (1 b) of the polymer layer (1 ).

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在聚合物层的表面上形成地形特征的装置，该装置包括：聚合物层（1）;聚合物层 包括导体的衬底（2），所述聚合物层（1）的第一表面（1a）设置在所述衬底（2）上; 和至少一个电极（3），当所述装置在使用中时，所述电极（3）与所述聚合物层（1）的第二表面（1b）相互作用，其中当使用时，所述装置可操作以施加第一电势 （P1）施加到所述至少一个电极（3），从而在所述聚合物层（1）的所述第二表面（1b）上形成突起（4）。

公开(公告)号：WO2011055346A2

公开(公告)日：2011-05-12

申请号：PCT/IB2010055062

申请日：2010-11-08

Applicant: IBM ,  DUERIG URS T ,  GOTSMANN BERND W ,  KNOLL ARMIN W ,  LANTZ MARK A

Inventor： DUERIG URS T ,  GOTSMANN BERND W ,  KNOLL ARMIN W ,  LANTZ MARK A

CPC classification number: G01Q60/363 ,  G01Q70/10

Abstract: The invention concerns a method for scanning a surface (52) of a material (50) with a scanning probe microscope or SPM (10), the SPM having a cantilever sensor (100) configured to exhibit distinct spring behaviors (C, Ck), the method comprising: - operating the SPM in contact mode, whereby the sensor is scanned on the material surface and a first spring behavior (C) of the sensor (e.g. a fundamental mode of flexure thereof) is excited by deflection of the sensor by the material surface; and - exciting with excitation means a second spring behavior (Ck) of the sensor at a resonance frequency thereof (e.g. one or more higher-order resonant modes) of the cantilever sensor to modulate an interaction of the sensor and the material surface and thereby reduce the wearing of the material surface.

Abstract translation: 本发明涉及一种用扫描探针显微镜或SPM（10）扫描材料（50）的表面（52）的方法，SPM具有悬臂传感器（100），其被配置为呈现明显的弹簧行为（C，Ck）， 该方法包括： - 以接​​触模式操作SPM，由此在材料表面上扫描传感器，并且传感器的第一弹性（C）（例如其基本弯曲模式）被传感器的偏转激发 材料表面; 和 - 激发激励意味着传感器在悬臂传感器的共振频率（例如一个或多个高阶谐振模式）下的第二弹簧行为（Ck），以调制传感器和材料表面的相互作用，从而减少 材料表面的磨损。

公开(公告)号：GB2515217A

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：GB201416222

申请日：2013-04-25

Applicant: IBM

Inventor： DUERIG URS T ,  HOLZNER FELIX ,  KNOLL ARMIN W ,  RIESS WALTER H

IPC: C25D13/04 ,  C25D13/02 ,  C25D13/22 ,  H01L21/768

Abstract: The present invention is notably directed to apparatuses and methods for positioning nano- objects (20) on a surface. The method comprises: providing (S10 S50) two surfaces (15, 17) including a first surface (15) and a second surface (17) in vis-Ã -vis, wherein at least one of the two surfaces exhibits one or more positioning structures (16, 16a) having dimensions on the nanoscale; and a ionic liquid suspension (30) of the nano-objects between the two surfaces, wherein each of the surfaces forms an electrical double layer with the ionic liquid suspension, each of the two surfaces having a same electrical charge sign; and letting (S60) nano-objects in the suspension position according to a potential energy (31) resulting from the electrical charge of the two surfaces and depositing (S70) one or more of the nano-objects on the first surface according to the positioning structures, by shifting minima (32) of the potential energy towards the first surface.

公开(公告)号：CA2743117A1

公开(公告)日：2010-08-05

申请号：CA2743117

申请日：2010-01-22

Applicant: IBM

Inventor： DUERIG URS T ,  GOTSMANN BERND W ,  HEDRICK JAMES L ,  KNOLL ARMIN W ,  PIRES DAVID

IPC: G03F7/00 ,  G01Q80/00 ,  G11B9/00

Abstract: Probe-based methods for patterning a surface of a material are described. In particular, high resolution patterning of molecules on a surface of a material, such as nano-scale patterns with feature sizes of less than 30 nanometers, are described. In one aspect, a method for patterning a surface of a material includes providing a material having a polymer film. A heated, nano-scale dimensioned probe is then used to desorb molecules upon interacting with the film. The film includes a network of molecules (such as molecular glasses) which are cross-linked via intermolecular (noncovalent) bonds, such as hydrogen bonds.

公开(公告)号：CA2868577C

公开(公告)日：2021-08-17

申请号：CA2868577

申请日：2013-04-25

Applicant: IBM

Inventor： DUERIG URS T ,  HOLZNER FELIX ,  KNOLL ARMIN W ,  RIESS WALTER HEINRICH

IPC: H01L21/768

Abstract: The present invention is notably directed to apparatuses and methods for positioning nano- objects (20) on a surface. The method comprises: providing (S10 S50) two surfaces (15, 17) including a first surface (15) and a second surface (17) in vis-à-vis, wherein at least one of the two surfaces exhibits one or more positioning structures (16, 16a) having dimensions on the nanoscale; and a ionic liquid suspension (30) of the nano-objects between the two surfaces, wherein each of the surfaces forms an electrical double layer with the ionic liquid suspension, each of the two surfaces having a same electrical charge sign; and letting (S60) nano-objects in the suspension position according to a potential energy (31) resulting from the electrical charge of the two surfaces and depositing (S70) one or more of the nano-objects on the first surface according to the positioning structures, by shifting minima (32) of the potential energy towards the first surface.

公开(公告)号：DE112013001196B4

公开(公告)日：2016-04-14

申请号：DE112013001196

申请日：2013-04-25

Applicant: IBM

Inventor： DUERIG URS T ,  HOLZNER FELIX ,  KNOLL ARMIN W ,  RIESS WALTER HEINRICH

IPC: H01L21/768 ,  B82B3/00 ,  B82Y40/00 ,  C25D13/02

Abstract: Verfahren zur Positionierung von Nanoobjekten (20) auf einer Oberfläche, wobei das Verfahren aufweist: Bereitstellen (S10 bis S50): zweier einander gegenüberliegender Oberflächen (15, 17) einschließlich einer ersten Oberfläche (15) und einer zweiten Oberfläche (17), wobei mindestens eine der zwei Oberflächen eine oder mehrere Positionierungsstrukturen (16, 16a) mit Abmessungen im Nanometerbereich aufweist; und einer ionischen Flüssigkeitssuspension (30) der Nanoobjekte zwischen den zwei Oberflächen, wobei die Suspension zwei elektrische Doppelschichten aufweist, die jeweils an einer Grenzfläche zu einer jeweiligen der zwei Oberflächen gebildet sind, wobei die elektrischen Oberflächenladungen der zwei Oberflächen dasselbe Vorzeichen haben; und Sich-positionieren-lassen (S60) der Nanoobjekte (20) in der Suspension entsprechend einer potentiellen Energie (31), die aus der elektrischen Ladung der zwei Oberflächen resultiert, und Abscheiden (S70) eines oder mehrerer der Nanoobjekte auf der ersten Oberfläche den Positionierungsstrukturen gemäß durch Verschieben von Minima (32) der potentiellen Energie zur ersten Oberfläche hin.

公开(公告)号：GB2516183A

公开(公告)日：2015-01-14

申请号：GB201418276

申请日：2013-03-05

Applicant: IBM

Inventor： DING FEI ,  DUERIG URS T ,  KNOLL ARMIN W ,  MAHRT RAINER F ,  STOEFERLE THILO HERMANN

IPC: G02B5/28 ,  G03F7/00 ,  H01S5/183

Abstract: A method of fabrication of a micro-optics device (1), the method comprising: -providing a layer (300) of material; -patterning said layer of material by locally unzipping and/or desorbing molecules therefore, with a nano-scale dimensione probe, to obtain a curved surface (s2) of layer of material, the curved surface having a curved profile (21, 21', 22) in at leas a plane section ((y, z), (x, z)); and -comprising a layer structure by providing one or more additional layers of material in contact with the curved surface, to obtain the micro-optics device (1), the latter having said layer structure, a given layer (10) therefore comprising a defect (20), said defect delimited by two surfaces, wherein one of said two surface is the curved surface (s2) and said at least one plane section ((y, z), (x, z)) is perpendicular to the layer structure.

公开(公告)号：DE102013206755A1

公开(公告)日：2013-10-31

申请号：DE102013206755

申请日：2013-04-16

Applicant: IBM

Inventor： HOLZNER FELIX ,  KNOLL ARMIN W

IPC: B81C1/00 ,  G02F1/00 ,  H01L49/00

Abstract: Die vorliegende Erfindung bezieht sich insbesondere auf Nanoprägelithographievorrichtungen und -verfahren. Solche Verfahren weisen auf: Bereitstellen (S10): einer Form (100), die ein topographisches Muster (140) auf einer Seite (101) der Form aufweist, wobei das topographische Muster durch Strukturen (130) mit Abmessungen im Nanobereich ausgebildet wird; und einer thermisch zersetzbaren Polymerdünnschicht (210) wie zum Beispiel Poly(phthalaldehyd) auf einem Substrat (220) gegenüber der Seite der Form, wobei die Strukturen über eine Zersetzungstemperatur (Td) der Polymerdünnschicht erwärmt werden; Inkontaktbringen (S20) der Strukturen mit der Polymerdünnschicht, um Abschnitte davon in Übereinstimmung mit den Strukturen thermisch zu zersetzen; und Entfernen (S50) der Strukturen von der Polymerdünnschicht.

公开(公告)号：GB2487156A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：GB201206335

申请日：2010-11-08

Applicant: IBM

Inventor： DUERIG URS T ,  GOTSMANN BERND W ,  KNOLL ARMIN W ,  LANTZ MARK A

IPC: G01Q70/08 ,  G01N13/00

Abstract: The invention concerns a method for scanning a surface (52) of a material (50) with a scanning probe microscope or SPM (10), the SPM having a cantilever sensor (100) configured to exhibit distinct spring behaviors (C, Ck), the method comprising: - operating the SPM in contact mode, whereby the sensor is scanned on the material surface and a first spring behavior (C) of the sensor (e.g. a fundamental mode of flexure thereof) is excited by deflection of the sensor by the material surface; and - exciting with excitation means a second spring behavior (Ck) of the sensor at a resonance frequency thereof (e.g. one or more higher-order resonant modes) of the cantilever sensor to modulate an interaction of the sensor and the material surface and thereby reduce the wearing of the material surface.

公开(公告)号：DE102013206755B4

公开(公告)日：2015-08-27

申请号：DE102013206755

申请日：2013-04-16

Applicant: IBM

Inventor： HOLZNER FELIX ,  KNOLL ARMIN W

IPC: B81C1/00 ,  G02F1/00 ,  H01L49/00

Abstract: Nanoprägelithographieverfahren, das die aufeinander folgenden Schritte aufweist: – Bereitstellen (S10) einer Form (100), die Strukturen (130) mit Abmessungen im Nanometerbereich auf einer Seite (101) der Form (100) aufweist, wobei die Strukturen (130) ein topographisches Muster (140) ausbilden; und – Bereitstellen einer thermisch zersetzbaren Polymerdünnschicht (210) auf einem Substrat (220) gegenüber der Seite (101) der Form (100), – wobei die Strukturen (130) über die Zersetzungstemperatur (Td) der Polymerdünnschicht (210) erwärmt werden; – Inkontaktbringen (S20) der Strukturen (130) mit der Polymerdünnschicht (210), um Abschnitte davon in Übereinstimmung mit den Strukturen (130) thermisch zu zersetzen (S30); und – Entfernen (S50) der Strukturen (130) von der Polymerdünnschicht (210).