公开(公告)号：WO2014120320A3

公开(公告)日：2014-10-02

申请号：PCT/US2013069988

申请日：2013-11-14

Applicant: IBM

Inventor： CHENG JOY ,  DOERK GREGORY S ,  RETTNER CHARLES T ,  SANDERS DANIEL P

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: H05K3/007 ,  G03F7/0002 ,  H05K2203/0548

Abstract: A chemical pattern layer (32, 33) including an orientation control material (32) and a prepattern material (33) is formed over a substrate (10). The chemical pattern layer (32, 33) includes alignment-conferring features (33D) and additional masking features (33S). A self-assembling material is applied and self-aligned over the chemical pattern layer. The polymeric block components align to the alignment-conferring features, while the alignment is not altered by the additional masking features. A first polymeric block component (40) is removed selective to a second polymeric block component (50) by an etch to form second polymeric block component portions having a pattern. A composite pattern of the pattern of an etch-resistant material within the chemical pattern layer and the pattern of the second polymeric block component portions can be transferred into underlying material layers employing at least another etch.

Abstract translation: 在衬底（10）上形成包括取向控制材料（32）和预模式材料（33）的化学图案层（32,33）。 化学图案层（32,33）包括对准赋予特征（33D）和附加掩模特征（33S）。 自组装材料在化学图案层上施加并自对准。 聚合物嵌段组分与对准赋予特征对准，而对准不会被附加的掩蔽特征所改变。 通过蚀刻将第一聚合物嵌段组分（40）选择性地除去第二聚合物嵌段组分（50）以形成具有图案的第二聚合物嵌段组分部分。 化学图案层内的抗蚀刻材料的图案和第二聚合物嵌段组分部分的图案的复合图案可以使用至少另一种蚀刻转移到下面的材料层中。

公开(公告)号：DE102016219839A1

公开(公告)日：2017-04-27

申请号：DE102016219839

申请日：2016-10-12

Applicant: IBM

Inventor： ARELLANO NOEL ,  CHENG JOY ,  MAGBITANG TEDDIE P ,  PITERA JED W ,  SANDERS DANIEL P ,  SCHMIDT KRISTIN ,  TRUONG HOA D ,  VORA ANKIT

IPC: C08F293/00

Abstract: Blockcopolymere (BCPs) für Selbstorganisationsanwendungen, die eine lineare fluorierte Verknüpfungsgruppe L' aufweisen, die ein Paar von benachbarten Blöcken verbindet. Eine Dünnschicht, die ein BCP aufweist, das auf einer Unterschicht angeordnet ist und in Kontakt mit einer Atmosphäre steht, ist fähig, eine senkrecht ausgerichtete Domänenstruktur zu bilden, wenn die Unterschicht präferentiell von einer Domäne eines ansonsten identischen selbstorganisierten BCP benetzt wird, bei dem alle Fluoratome von L' durch Wasserstoff ersetzt sind. Das BCP kann ein BCP mit niedrigem chi-Wert oder mit hohem chi-Wert sein. Bei einer bevorzugten Ausführungsform weist das BCP einen ersten Block auf Styrolbasis auf und ein zweiter Block weist eine Carbonat- und/oder Ester-Wiederholungseinheit auf, die durch Ringöffnungspolymerisation eines cyclischen Carbonat- und/oder Estermonomers gebildet ist. Die Verknüpfungsgruppe L' weist eine niedrigere Oberflächenenergie als jeder der Polymerblöcke auf.