公开(公告)号：DE112010003502T5

公开(公告)日：2013-03-14

申请号：DE112010003502

申请日：2010-08-23

Applicant: IBM

Inventor： NELSON ALSHAKIM ,  BROCK PHILLIP JOE ,  SOORIYAKUMARAN RATMAN ,  DAVIS BLAKE ,  MILLER ROBERT DENNIS ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  LIN QINGHUANG

IPC: H01L21/32 ,  C09D183/04 ,  C09D183/14 ,  H01L21/312

Abstract: Silsesquioxan-Polymere, Silsesquioxan-Polymere in negativ photostrukturierbaren dielektrischen Formulierungen, Verfahren zur Bildung von Strukturen unter Verwendung von negativ photostrukturierbaren dielektrischen Formulierungen, welche Silsesquioxan-Polymere enthalten, und Strukturen, die aus Silsesquioxan-Polymeren hergestellt wurden.