公开(公告)号：DE112021001968T5

公开(公告)日：2023-01-19

申请号：DE112021001968

申请日：2021-06-04

Applicant: IBM

Inventor： TSAI HSIN YU ,  KARIYAPPA SANJAY

IPC: G06N3/08 ,  G06N3/063

Abstract: Es wird eine Driftregularisierung zum Entgegenwirken einer Variation in Driftkoeffizienten in analogen neuronalen Netzen bereitgestellt. Es wird ein Verfahren zum Trainieren eines künstlichen neuronalen Netzes veranschaulicht. Eine Mehrzahl von Gewichten wird nach dem Zufallsprinzip initialisiert. Jedes aus der Mehrzahl von Gewichten entspricht einer Synapse eines künstlichen neuronalen Netzes. Mindestens eine Reihe von Eingangssignalen wird in das künstliche neuronale Netz eingegeben. Mindestens eine Reihe von Ausgangssignalen wird durch das künstliche neuronale Netz auf der Grundlage der mindestens einen Reihe von Eingangssignalen und der Mehrzahl von Gewichten bestimmt. Die mindestens eine Reihe von Ausgangssignalen wird mit Ground-Truth-Daten verglichen, um einen ersten Verlust zu bestimmen. Ein zweiter Verlust wird durch Hinzufügen einer Driftregularisierung zu dem ersten Verlust bestimmt. Die Driftregularisierung ist positiv korreliert mit einer Varianz der mindestens einen Reihe von Ausgangssignalen. Die Mehrzahl von Gewichten wird auf der Grundlage des zweiten Verlustes durch Rückwärtspropagierung aktualisiert.

公开(公告)号：DE112016000434B4

公开(公告)日：2024-12-12

申请号：DE112016000434

申请日：2016-02-08

Applicant: IBM

Inventor： CHENG JOY ,  TJIO MELIA ,  SINGH GURPREET ,  FRIZ ALEXANDER ,  SANDERS DANIEL PAUL ,  TSAI HSIN YU ,  BRINK MARKUS ,  GUILLORN MICHAEL ,  LIU CHI-CHUN ,  DOERK GREGORY

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/311 ,  H01L29/06 ,  H05K3/00

Abstract: Ein Verfahren, das aufweist:i) Ausbilden einer Schicht (21), im Folgenden SA-Schicht genannt, die ein Material zur Selbstorganisation, im Folgenden SA-Material genannt, auf einer oberen Oberfläche einer hybriden Vorstruktur aufweist und Ausbilden einer Deckschicht (174), die auf einer oberen Oberfläche der SA-Schicht (21) angeordnet ist, wobeidas SA-Material zur Selbstorganisation zur Bildung einer phasengetrennten lamellaren Bereichsstruktur (31) mit einem charakteristischen Pitch Lo ausgebildet ist,die Vorstruktur auf einem Substrat (60) angeordnet ist,die obere Oberfläche (13) der Vorstruktur eine geometrische Hauptachse hat,die obere Oberfläche der Vorstruktur a) unabhängige erhöhte Oberflächen (13) durchsetzt mit benachbarten vertieften Oberflächen (14) und b) Seitenwände (18), die die erhöhten Oberflächen (13) mit den vertieften Oberflächen (14) verbinden, aufweist,das unter den erhöhten Oberflächen (13) der Vorstruktur liegende Material in einem bestimmten Ätzprozess einen höheren Ätzwiderstand im Vergleich zum Material hat, das unter den vertieften Oberflächen (14) der Vorstruktur liegt,eine bestimmte erhöhte Oberfläche (13) eine Breite WEhat, die als die Länge der bestimmten erhöhten Oberfläche (13) in einer Richtung senkrecht zur Hauptachse definiert ist,eine bestimmte vertiefte Oberfläche (14) eine Breite WRhat, die definiert ist als die Länge der vertieften Oberfläche (14) in einer Richtung senkrecht zur Hauptachse,WR+WEfür jedes Paar von benachbarten vertieften und erhöhten Oberflächen (13, 14) eine unabhängige Summe mit dem Wert von etwa nLo ist, wobei n eine Ganzzahl von 4 bis etwa 30 ist,WRvon wenigstens einer der vertieften Oberflächen (14) größer als etwa 2 Lo ist,WEvon wenigstens einer der erhöhten Oberflächen (13) größer als etwa 2 Lo ist,eine jede der Seitenwände (18) eine unabhängige Höhe HNvon etwa 0,1 Lo bis etwa 2 Lo hat,die SA-Schicht (21) mit den erhöhten Oberflächen (13), den vertieften Oberflächen (14) und den Seitenwänden (18) der Vorstruktur in Kontakt steht, unddie SA-Schicht (21) eine obere Oberfläche in Kontakt mit der obersten Beschichtung hat;ii) Ermöglichen oder Induzieren der Selbstorganisation des SA-Materials, wodurch eine selbstorganisierte SA-Schicht (21) ausgebildet wird, die die lamellare Bereichsstruktur aufweist, wobei die Bereichsstruktur alternierende Bereiche (32, 33) aufweist, die jeweils chemisch unterschiedliche Komponenten des SA-Materials aufweisen, wobei ein jeder der Bereiche eine Vielzahl von Lamellen aufweist, wobeidie erhöhten Oberflächen (13) neutral-benetzend für die Bereiche (32,33) sind,eine jede der erhöhten Oberflächen (13) wenigstens eine der Lamellen eines jeden der Bereiche (32, 33) berührt,eine jede der Lamellen in Kontakt mit einer bestimmten erhöhten Oberfläche (13) der Vorstruktur a) senkrecht zur gegebenen erhöhten Oberfläche (13) ausgerichtet ist, b) in Kontakt mit der Deckschicht über der bestimmten erhöhten Oberfläche (13) steht, und c) entlang der Hauptachse der Vorstruktur ausgerichtet ist.iii) selektives Entfernen von einem der Bereiche (32, 33) mithilfe eines Ätzprozesses, wodurch eine geätzte Bereichsstruktur ausgebildet wird, die die Lamellen eines verbleibenden Bereichs aufweist; undiv) selektives Übertragen der geätzten Bereichsstruktur in das Material mit einem höherem Ätzwiderstand unter den erhöhten Oberflächen (13) mithilfe eines zweiten Ätzprozesses, wodurch eine Übertragungsstruktur ausgebildet wird, die topographische Merkmale aufweist, die Material mit einem höheren Ätzwiderstand aufweisen.

公开(公告)号：DE112016000434T5

公开(公告)日：2017-10-05

申请号：DE112016000434

申请日：2016-02-08

Applicant: IBM

Inventor： TJIO MELIA ,  TSAI HSIN YU ,  BRINK MARKUS ,  GUILLORN MICHAEL ,  DOERK GREGORY ,  CHENG JOY ,  SINGH GURPREET ,  FRIZ ALEXANDER ,  SANDERS DANIEL PAUL ,  LIU CHI-CHUN

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/311 ,  H01L29/06 ,  H05K3/00

Abstract: Hybride Vorstrukturen wurden zur geführten Selbstorganisation eines bestimmten Block-Copolymers hergestellt, das dazu ausgestaltet ist, eine lamellare Bereichsstruktur zu bilden. Die hybriden Vorstrukturen haben obere Oberflächen, die unabhängige erhöhte Oberflächen durchsetzt mit angrenzenden vertieften Oberflächen aufweisen. Die erhöhten Oberflächen sind für die durch Selbstorganisation gebildeten Bereiche neutral-benetzend. Das Material unter den erhöhten Oberflächen weist in einem bestimmten Ätzprozess einen höheren Ätzwiderstand als das Material unter den vertieften Oberflächen auf. Unter Berücksichtigung anderer abmessungsbezogenen Randbedingungen der hier beschriebenen hybriden Vorstruktur wurde eine Schicht des bestimmten Block-Copolymers auf der hybriden Vorstruktur ausgebildet. Die Selbstorganisation der Schicht erzeugte eine lamellare Bereichsstrukur, die selbst-ausgerichtete, unidirektionale, senkrecht ausgerichtete Lamellen über den erhöhten Oberflächen und parallel und/oder senkrecht ausgerichtete Lamellen über vertieften Oberflächen aufwies. Die dargestellten Bereichsstrukturen besitzen eine großräumige Ordnung und sind entlang der Hauptachse der Vorstruktur angeordnet. Die lamellaren Bereichsstrukturen sind zur Bildung von Übertragungsstrukturen zweckdienlich, die zweidimensionale angepasste Merkmale aufweisen.