公开(公告)号：WO0034991A3

公开(公告)日：2000-11-16

申请号：PCT/DE9903878

申请日：1999-12-03

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG ,  POMPL THOMAS ,  WURZER HELMUT ,  REBITZER WOLFGANG ,  GAERTNER THOMAS ,  KRAHL KERSTIN ,  WEGE STEPHAN ,  GEHRING OLIVER

Inventor： POMPL THOMAS ,  WURZER HELMUT ,  REBITZER WOLFGANG ,  GAERTNER THOMAS ,  KRAHL KERSTIN ,  WEGE STEPHAN ,  GEHRING OLIVER

IPC: C23C8/02 ,  C23C14/58 ,  C23C28/00 ,  H01L21/28 ,  H01L21/311

CPC classification number: C23C14/5853 ,  C23C8/02 ,  C23C28/00 ,  H01L21/28167 ,  H01L21/31116 ,  H01L29/511

Abstract: The invention relates to a method of producing a metal oxide film. The inventive method comprises the following steps: a) providing a barrier film, b) applying a metal film onto the barrier film, and c) thermally oxidizing the metal film in an oxygen atmosphere, thereby producing a metal oxide film (3').

Abstract translation: 根据本发明，提供了一种用于生产金属氧化物层的方法。 在这种情况下，本发明的方法包括以下步骤：a）阻挡层设置，b）中在阻挡层上，金属层被沉积​​，以及c）将金属层在氧气氛中进行热氧化，从而产生一个金属氧化物层（3“）。

公开(公告)号：WO0034985A3

公开(公告)日：2002-02-14

申请号：PCT/DE9903876

申请日：1999-12-03

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG ,  WEGE STEPHAN ,  KRAHL KERSTIN

Inventor： WEGE STEPHAN ,  KRAHL KERSTIN

IPC: H01L21/28 ,  H01L21/302 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  H01L29/423 ,  H01L29/43 ,  H01L29/49

CPC classification number: H01L21/32136 ,  H01L21/31122

Abstract: The invention relates to a method for structuring a metalliferous layer. The metalliferous layer (4) is etched using an etching mask (8) in a plasma-enhanced etching gas atmosphere at a temperature of more than 130 DEG C in the presence of at least one halogen compound and at least one oxidant. The concentration of said oxidant is higher than the concentration of the halogen compound.

Abstract translation: 所以建议图案化的含金属的层的方法。 含金属层（4）在这种情况下使用的蚀刻掩模（8）蚀刻辅助在至少一种卤素化合物和至少一种氧化剂的存在下高于130℃的温度下的蚀刻气体气氛中的等离子体，其中，所述氧化剂的浓度比卤素化合物的浓度较高的 ，

公开(公告)号：DE19856084C2

公开(公告)日：2002-07-11

申请号：DE19856084

申请日：1998-12-04

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： POMPL THOMAS ,  WURZER HELMUT ,  REBITZER WOLFGANG ,  GAERTNER THOMAS ,  GEHRING OLIVER ,  KRAHL KERSTIN ,  WEGE STEPHAN

IPC: C23C8/02 ,  C23C14/58 ,  C23C28/00 ,  H01L21/28 ,  H01L21/311 ,  C23C14/14 ,  C23F4/00