公开(公告)号：DE10206687B4

公开(公告)日：2004-02-19

申请号：DE10206687

申请日：2002-02-18

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： KROENER FRIEDRICH DR ,  WISTRELA ROBERT

IPC: C25F3/12 ,  G03F7/20 ,  H01L21/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/308 ,  H01L21/3063 ,  B81B1/00 ,  B81C1/00

公开(公告)号：DE102009006340B4

公开(公告)日：2016-12-08

申请号：DE102009006340

申请日：2009-01-27

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： CAMPIDELL JOSEF ,  COOPER JOHN ,  KITTNER HORST ,  WISTRELA ROBERT

IPC: H01L21/68

Abstract: System zum Herstellen einer integrierten Schaltung, das einen Vorausrichter (100) zum Ausrichten eines Substrats (170) umfasst, mit folgenden Merkmalen: einem Rotor (110), der einen Träger (120) ansprechend auf ein Rotationssignal um eine Rotationsachse (130) dreht; wobei der Träger (120) eine Hauptoberfläche (160) aufweist, die senkrecht zu der Rotationsachse (130) ist; wobei das Substrat (170) an dem Träger (120) angeordnet ist; und wobei das Substrat (170) eine Hauptoberfläche (190) und eine Markierung aufweist, derart, dass eine Orientierung des Substrats (170) mit Bezug auf die Rotationsachse (130) erfasst wird; eine Quelle (200) für elektromagnetische Strahlung, die die Hauptoberfläche (190) des Substrats (170) mit elektromagnetischer Strahlung beleuchtet; einem optisch/elektrischen Wandler (210), der auf die von der Hauptoberfläche (190) des Substrats (170) reflektierte elektromagnetische Strahlung anspricht, die Markierung des Substrats (170) erfasst und ein Erfassungssignal liefert; und einer Steuerung (150), die das Erfassungssignal empfängt, und das Rotationssignal liefert; wobei der Träger (120) ein unterschiedliches Reflexionsvermögen als das Substrat (170) aufweist; und wobei das Substrat (170) an dem Träger (120) durch einen Klebstoff angeordnet ist und der Klebstoff ein unterschiedliches Reflexionsvermögen als das Substrat (170) aufweist.

公开(公告)号：DE102009006340A1

公开(公告)日：2009-08-27

申请号：DE102009006340

申请日：2009-01-27

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： CAMPIDELL JOSEF ,  COOPER JOHN ,  KITTNER HORST ,  WISTRELA ROBERT

IPC: H01L21/68

Abstract: A system and method for prealigning a substrate. One embodiment provides a rotor configured to rotate a carrier around a rotation axis in response to a rotation signal. The carrier includes a main surface substantially perpendicular to the rotation axis. The substrate is disposable on the carrier. The substrate includes a main surface and a mark such that an orientation of the substrate with respect to the rotation axis is detectable. An electromagnetic radiation source is configured to illuminate the main surface of the substrate with electromagnetic radiation. An optical/electrical converter is responsive to the electromagnetic radiation reflected back from the main surface, detecting the mark of the substrate and providing a sensing signal. A controller is configured to receive the sensing signal and providing the rotation signal.

公开(公告)号：DE10206687A1

公开(公告)日：2003-08-28

申请号：DE10206687

申请日：2002-02-18

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： KROENER FRIEDRICH DR ,  WISTRELA ROBERT

IPC: C25F3/12 ,  G03F7/20 ,  H01L21/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/308 ,  H01L21/3063 ,  B81B1/00 ,  B81C1/00

Abstract: The chemical treatment device has a chamber with at least one inlet and at least one outlet for a material (19) for chemical treatment of a workpiece arranged in the chamber. At least one section of the chamber wall is formed by a light transmitting optical imaging plate (12) for forming an image of an illumination pattern on the surface of the workpiece in the chamber. AN Independent claim is also included for the following: (a) a method of light induced chemical treatment of a workpiece.

公开(公告)号：DE102007014969A1

公开(公告)日：2008-10-02

申请号：DE102007014969

申请日：2007-03-28

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： CAMPIDELL JOSEF ,  WISTRELA ROBERT ,  KITTNER HORST

IPC: H01L21/68 ,  H01L23/544

Abstract: The semiconductor components manufacturing device has a radiation emission device (2) and a radiation recording device (3) relative to a semiconductor substrate (5) arranged on a same side. The radiation emission device for an irradiation (4), is permeable for a portion of layer of the semiconductor substrate and is provided for one of radiation reflecting structure layers (8) in the semiconductor substrate. An independent claim is also included for a method for an alignment of component structures.