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    Vorrichtung und Verfahren zum Justieren der Rückseite eines Wafers mit der Vorderseite eines Wafers
    1.
    发明专利
    Vorrichtung und Verfahren zum Justieren der Rückseite eines Wafers mit der Vorderseite eines Wafers 未知

    公开(公告)号：DE102010044139A1

    公开(公告)日：2011-06-30

    申请号：DE102010044139

    申请日：2010-11-18

    Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

    Inventor： BITZER THOMAS ,  CAMPIDELL JOSEF ,  KITTNER HORST

    IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

    Abstract: Strukturen einer Rückseite eines Wafers können zum Zweck einer lithographischen Behandlung der Rückseite mit Strukturen einer Vorderseite des Wafers justiert sein. Der Wafer ist transparent für elektromagnetische Strahlung einer spezifischen Wellenlänge. Der Wafer wird derart auf einem Wafertisch platziert, dass die Vorderseite dem Wafertisch zugewandt ist und die Rückseite einer Justieroptik zugewandt ist. Die Rückseite wird bei einer Dunkelfeldkonfiguration mit elektromagnetischer Strahlung der spezifischen Wellenlänge beleuchtet, so dass sich die elektromagnetische Strahlung durch den Wafer hindurch zu dreidimensionalen Strukturen einer an der Vorderseite des oder in dem Wafer befindlichen dreidimensionalen Justiermarke hin ausbreitet und an den dreidimensionalen Strukturen gestreut wir mit der Justieroptik erfasst, und die Rückseite wird auf der Basis der gestreuten elektromagnetischen Strahlung mit der Vorderseite des Wafers justiert.

    2.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：DE102009006340A1

    公开(公告)日：2009-08-27

    申请号：DE102009006340

    申请日：2009-01-27

    Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

    Inventor： CAMPIDELL JOSEF ,  COOPER JOHN ,  KITTNER HORST ,  WISTRELA ROBERT

    IPC: H01L21/68

    Abstract: A system and method for prealigning a substrate. One embodiment provides a rotor configured to rotate a carrier around a rotation axis in response to a rotation signal. The carrier includes a main surface substantially perpendicular to the rotation axis. The substrate is disposable on the carrier. The substrate includes a main surface and a mark such that an orientation of the substrate with respect to the rotation axis is detectable. An electromagnetic radiation source is configured to illuminate the main surface of the substrate with electromagnetic radiation. An optical/electrical converter is responsive to the electromagnetic radiation reflected back from the main surface, detecting the mark of the substrate and providing a sensing signal. A controller is configured to receive the sensing signal and providing the rotation signal.

    System und Verfahren mit einem Prealigner
    3.
    发明专利
    System und Verfahren mit einem Prealigner 未知

    公开(公告)号：DE102009006340B4

    公开(公告)日：2016-12-08

    申请号：DE102009006340

    申请日：2009-01-27

    Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

    Inventor： CAMPIDELL JOSEF ,  COOPER JOHN ,  KITTNER HORST ,  WISTRELA ROBERT

    IPC: H01L21/68

    Abstract: System zum Herstellen einer integrierten Schaltung, das einen Vorausrichter (100) zum Ausrichten eines Substrats (170) umfasst, mit folgenden Merkmalen: einem Rotor (110), der einen Träger (120) ansprechend auf ein Rotationssignal um eine Rotationsachse (130) dreht; wobei der Träger (120) eine Hauptoberfläche (160) aufweist, die senkrecht zu der Rotationsachse (130) ist; wobei das Substrat (170) an dem Träger (120) angeordnet ist; und wobei das Substrat (170) eine Hauptoberfläche (190) und eine Markierung aufweist, derart, dass eine Orientierung des Substrats (170) mit Bezug auf die Rotationsachse (130) erfasst wird; eine Quelle (200) für elektromagnetische Strahlung, die die Hauptoberfläche (190) des Substrats (170) mit elektromagnetischer Strahlung beleuchtet; einem optisch/elektrischen Wandler (210), der auf die von der Hauptoberfläche (190) des Substrats (170) reflektierte elektromagnetische Strahlung anspricht, die Markierung des Substrats (170) erfasst und ein Erfassungssignal liefert; und einer Steuerung (150), die das Erfassungssignal empfängt, und das Rotationssignal liefert; wobei der Träger (120) ein unterschiedliches Reflexionsvermögen als das Substrat (170) aufweist; und wobei das Substrat (170) an dem Träger (120) durch einen Klebstoff angeordnet ist und der Klebstoff ein unterschiedliches Reflexionsvermögen als das Substrat (170) aufweist.

    Vorrichtung und Verfahren zum Justieren der Rückseite eines Wafers mit der Vorderseite eines Wafers
    5.
    发明专利
    Vorrichtung und Verfahren zum Justieren der Rückseite eines Wafers mit der Vorderseite eines Wafers 未知

    公开(公告)号：DE102010044139B4

    公开(公告)日：2015-07-23

    申请号：DE102010044139

    申请日：2010-11-18

    Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

    Inventor： BITZER THOMAS ,  CAMPIDELL JOSEF ,  KITTNER HORST

    IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

    Abstract: Verfahren zum Justieren von Strukturen eines Retikels mit Strukturen auf der Vorderseite eines Wafers (32) zum Zweck einer lithographischen Behandlung der Rückseite des Wafers (32), wobei der Wafer (32) für elektromagnetische Strahlung einer spezifischen Wellenlänge (λ) transparent ist, wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst: Platzieren des Wafers (32) auf einem Wafertisch (18; 38) derart, dass die Vorderseite dem Wafertisch (18; 38) zugewandt ist und die Rückseite einer Justieroptik (37) zugewandt ist; Beleuchten der Rückseite des Wafers (32) mit elektromagnetischer Strahlung der spezifischen Wellenlänge (λ) bei einer Dunkelfeldkonfiguration, derart, dass sich die elektromagnetische Strahlung durch den Wafer (32) hin zu dreidimensionalen Strukturen einer an der Vorderseite oder in dem Wafer (32) befindlichen dreidimensionalen Justiermarke (35) ausbreitet und an den dreidimensionalen Strukturen gestreut wird; Erfassen der gestreuten elektromagnetischen Strahlung mit der Justieroptik (37) durch das Retikel hindurch; und Justieren des Retikels mit der Vorderseite des Wafers (32) auf der Basis der gestreuten elektromagnetischen Strahlung.

    JUSTIERMARKEN-DEFINIERVORRICHTUNG
    6.
    发明专利
    JUSTIERMARKEN-DEFINIERVORRICHTUNG 未知

    公开(公告)号：DE102014212369A1

    公开(公告)日：2014-12-31

    申请号：DE102014212369

    申请日：2014-06-26

    Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

    Inventor： ORTNER JÖRG ,  CAMPIDELL JOSEF ,  GREINER ANDREAS

    IPC: H01L21/027 ,  H01L23/544 ,  H01L21/66

    Abstract: Eine Justiermarken-Definiervorrichtung ist ausgelegt, eine geometrische Definition für eine tatsächliche Justierstruktur bereitzustellen, welche an einer temporären Fläche eines Substrats auf der Basis eines gewünschten Aussehens der Justiermarke und einer erwarteten Änderung eines Aussehens der tatsächlichen Justierstruktur zu bilden ist, die durch ein Abscheidungsmaterial verursacht wird, das auf der temporären Fläche und der tatsächlichen Justierstruktur abgeschieden ist.

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